二次電子，透射電鏡中電子衍射主要有哪些方式

來源：整理時(shí)間：2023-08-21 09:29:05 編輯：智能門戶手機(jī)版

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1，透射電鏡中電子衍射主要有哪些方式
2，SEM背散射電子下原子系數(shù)越大是越亮還是越暗二次電子下是不
3，輝光放電原理
4，BATT什么意思
5，電子束和固體樣品作用時(shí)會(huì)產(chǎn)生哪些信號(hào)各有什么特點(diǎn)
6，真空鍍膜機(jī)的原理

1，透射電鏡中電子衍射主要有哪些方式

電鏡中電子衍射方式主要有，二次電子：在入射電子束作用下被轟擊出來并離開樣品表面的樣品原子的核外電子叫做二次電子。俄歇電子：原子內(nèi)層電子被激發(fā)電離形成空位，較高能級(jí)電子躍遷至該空位，多余能量使原子外層電子激發(fā)發(fā)射，形成無輻射躍遷，被激發(fā)的電子即為俄歇電子。

透射電鏡中電子衍射主要有哪些方式

2，SEM背散射電子下原子系數(shù)越大是越亮還是越暗二次電子下是不

背散射電子是發(fā)射電子被樣品彈性碰撞彈回來的，所以原子序數(shù)大的原子越大，彈性碰撞的概率越大，所以原子序數(shù)大的背散射電子強(qiáng)度的大；二次電子是從樣品表面發(fā)射的電子，跟原子序數(shù)沒關(guān)系，跟樣品的表面形態(tài)有關(guān)，因?yàn)樽矒艚嵌?0度是二次電子基本么有，傾斜裝機(jī)的二次電子產(chǎn)率就很高了，所以二次電子像是跟樣品觀察角度有關(guān)的。

二次電子像中也會(huì)有少量的背散射電子參與成像，因此當(dāng)成分差別特別大的時(shí)候，在二次電子像中也會(huì)呈現(xiàn)成分的襯度，但是沒有背散射中那么明顯。樓上說的對(duì)，TEM中樣品越厚，取向越正，明場(chǎng)像就會(huì)越黑，此外原子序數(shù)也會(huì)在明場(chǎng)像中得到反映，原子序數(shù)越大對(duì)電子的散射越多，因此觀察到的TEM明場(chǎng)像就越黑。

SEM背散射電子圖像中，原子序數(shù)越大越亮，二次電子圖像襯度跟原子序數(shù)無關(guān)，跟表面有關(guān)，越是“突?；蚴羌怃J”的地方越亮。至于TEM中的襯度就復(fù)雜一些，跟樣品的厚度、晶體的取向和觀察方向都有關(guān)系。

SEM背散射電子下原子系數(shù)越大是越亮還是越暗二次電子下是不

3，輝光放電原理

低壓氣體中顯示輝光的氣體放電(空氣中的電子大概在1000對(duì)/cm3,由于高壓放電現(xiàn)象在低氣壓狀態(tài)下會(huì)產(chǎn)生輝光現(xiàn)象）現(xiàn)象，即是稀薄氣體中的自激導(dǎo)電現(xiàn)象。在置有板狀電極的玻璃管內(nèi)充入低壓（約幾毫米汞柱）氣體或蒸氣，當(dāng)兩極間電壓較高（約1000伏）時(shí)，稀薄氣體中的殘余正離子在電場(chǎng)中加速，有足夠的動(dòng)能轟擊陰極，產(chǎn)生二次電子，經(jīng)簇射過程產(chǎn)生更多的帶電粒子，使氣體導(dǎo)電。輝光放電的特征是電流強(qiáng)度較?。s幾毫安），溫度不高，故電管內(nèi)有特殊的亮區(qū)和暗區(qū)，呈現(xiàn)瑰麗的發(fā)光現(xiàn)象。輝光放電時(shí)，在放電管兩極電場(chǎng)的作用下，電子和正離子分別向陽極、陰極運(yùn)動(dòng)，并堆積在兩極附近形成空間電荷區(qū)[1]。因正離子的漂移速度遠(yuǎn)小于電子，故正離子空間電荷區(qū)的電荷密度比電子空間電荷區(qū)大得多，使得整個(gè)極間電壓幾乎全部集中在陰極附近的狹窄區(qū)域內(nèi)。這是輝光放電的顯著特征，而且在正常輝光放電時(shí)，兩極間電壓不隨電流變化。在陰極附近，二次電子發(fā)射產(chǎn)生的電子在較短距離內(nèi)尚未得到足夠的能使氣體分子電離或激發(fā)的動(dòng)能，所以緊接陰極的區(qū)域不發(fā)光。而在陰極輝區(qū)，電子已獲得足夠的能量碰撞氣體分子，使之電離或激發(fā)發(fā)光。其余暗區(qū)和輝區(qū)的形成也主要取決于電子到達(dá)該區(qū)的動(dòng)能以及氣體的壓強(qiáng)（電子與氣體分子的非彈性碰撞會(huì)失去動(dòng)能）。輝光放電的主要應(yīng)用是利用其發(fā)光效應(yīng)（如霓虹燈、日光燈）以及正常輝光放電的穩(wěn)壓效應(yīng)（如氖穩(wěn)壓管）。低壓氣體放電的一種類型，在發(fā)射光譜分析中用作氣體分析和難激發(fā)元素分析的激發(fā)光源。在玻璃管兩端各接一平板電極，充入惰性氣體，加數(shù)百伏直流電壓，管內(nèi)便產(chǎn)生輝光放電，其電流為10-4～10-2A。放電形式與氣體性質(zhì)、壓力、放電管尺寸、電極材料、形狀和距離有關(guān)。

輝光放電原理

4，BATT什么意思

BATT是電池的意思，BATT標(biāo)志閃爍表示遙控鑰匙電池沒電了，需要更換。遙控鑰匙是利用中控鎖的無線遙控功能，不用把鑰匙鍵插入鎖孔中就可以遠(yuǎn)距離開門和鎖門的鑰匙。按其使用方法可分為三類：主動(dòng)工作方式、被動(dòng)工作方式和線圈感應(yīng)方式。原理是通過車身電子模塊（ECU，Electronic Control Unit）和車身控制模塊（BCM，Body Control Management）來控制車門，只需按下鑰匙按鍵發(fā)送開鎖/閉鎖命令，通過車身電子模塊驗(yàn)證后，即可打開/關(guān)閉車門。擴(kuò)展資料：BATT的工作原理它用填滿海綿狀鉛的鉛板作負(fù)極，填滿二氧化鉛的鉛板作正極，并用22～28%的稀硫酸作電解質(zhì)。在充電時(shí)，電能轉(zhuǎn)化為化學(xué)能，放電時(shí)化學(xué)能又轉(zhuǎn)化為電能。電池在放電時(shí)，金屬鉛是負(fù)極，發(fā)生氧化反應(yīng)，被氧化為硫酸鉛；二氧化鉛是正極，發(fā)生還原反應(yīng)，被還原為硫酸鉛。電池在用直流電充電時(shí)，兩極分別生成鉛和二氧化鉛。移去電源后，它又恢復(fù)到放電前的狀態(tài)，組成化學(xué)電池。鉛蓄電池是能反復(fù)充電、放電的電池，叫做二次電池。它的電壓是2V，通常把三個(gè)鉛蓄電池串聯(lián)起來使用，電壓是6V。汽車上用的是6個(gè)鉛蓄電池串聯(lián)成12V的電池組。普通鉛蓄電池在使用一段時(shí)間后要補(bǔ)充硫酸，使電解質(zhì)保持含有22～28%的稀硫酸。參考資料：百度百科-汽車電瓶

付費(fèi)內(nèi)容限時(shí)免費(fèi)查看回答出現(xiàn)batt閃爍這種情況后是電池出現(xiàn)了故障。電池是汽車上一個(gè)重要的部件，在沒有啟動(dòng)發(fā)動(dòng)機(jī)的時(shí)候是電池給全車電子設(shè)備供電的，并且電池也負(fù)責(zé)啟動(dòng)發(fā)動(dòng)機(jī)。電池是汽車上一個(gè)重要的供電部件。在啟動(dòng)發(fā)動(dòng)機(jī)時(shí)，起動(dòng)機(jī)，點(diǎn)火系統(tǒng)，燃油供給系統(tǒng)等都是需要運(yùn)行的，這些系統(tǒng)的運(yùn)行是離不開電的。

BATT 可以是 Battery（電池）的縮寫.

5，電子束和固體樣品作用時(shí)會(huì)產(chǎn)生哪些信號(hào)各有什么特點(diǎn)

①背散射電子。背散射電于是指被固體樣品中的原子核反彈回來的一部分入射電子。其中包括彈性背散射電子和非彈性背散射電子。背散射電子的產(chǎn)生范圍深，由于背散射電子的產(chǎn)額隨原子序數(shù)的增加而增加，所以，利用背散射電子作為成像信號(hào)不僅能分析形貌特征，也可用來顯示原子序數(shù)襯度，定性地進(jìn)行成分分析。 ②二次電子。二次電子是指被入射電子轟擊出來的核外電子。二次電子來自表面50-500 ?的區(qū)域，能量為0-50 eV。它對(duì)試樣表面狀態(tài)非常敏感，能有效地顯示試樣表面的微觀形貌。 ③吸收電子。入射電子進(jìn)入樣品后，經(jīng)多次非彈性散射，能量損失殆盡（假定樣品有足夠厚度，沒有透射電子產(chǎn)生），最后被樣品吸收。若在樣品和地之間接入一個(gè)高靈敏度的電流表，就可以測(cè)得樣品對(duì)地的信號(hào)。若把吸收電子信號(hào)作為調(diào)制圖像的信號(hào)，則其襯度與二次電子像和背散射電子像的反差是互補(bǔ)的。 ④透射電子。如果樣品厚度小于入射電子的有效穿透深度，那么就會(huì)有相當(dāng)數(shù)量的入射電子能夠穿過薄樣品而成為透射電子。樣品下方檢測(cè)到的透射電子信號(hào)中，除了有能量與入射電子相當(dāng)?shù)膹椥陨⑸潆娮油?，還有各種不同能量損失的非彈性散射電子。其中有些待征能量損失?E的非彈性散射電子和分析區(qū)域的成分有關(guān)，因此，可以用特征能量損失電子配合電子能量分析器來進(jìn)行微區(qū)成分分析。 ⑤特征X射線。特征X射線是原子的內(nèi)層電子受到激發(fā)以后，在能級(jí)躍遷過程中直接釋放的具有特征能量和波長(zhǎng)的一種電磁波輻射。如果用X射線探測(cè)器測(cè)到了樣品微區(qū)中存在某一特征波長(zhǎng)，就可以判定該微區(qū)中存在的相應(yīng)元素。 ⑥俄歇電子。如果原子內(nèi)層電子能級(jí)躍遷過程中釋放出來的能量?E不以X射線的形式釋放，而是用該能量將核外另一電子打出，脫離原子變?yōu)槎坞娮?，這種二次電子叫做俄歇電子。俄歇電子是由試樣表面極有限的幾個(gè)原于層中發(fā)出的，這說明俄歇電子信號(hào)適用于表層化學(xué)成分分析。

6，真空鍍膜機(jī)的原理

說來話長(zhǎng)，簡(jiǎn)單點(diǎn)的話就是：陰極被激發(fā)的電子在電場(chǎng)作用下加速飛向襯底基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞，電離出大量的氬離子和二次電子，二次電子飛向襯底基片。氬離子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在襯底上形成薄膜。二次電子在加速飛向襯底的過程中受到磁場(chǎng)洛侖磁力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi)，該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高，二次電子在磁場(chǎng)的作用下圍繞靶面做圓周運(yùn)動(dòng)，該電子的運(yùn)動(dòng)路徑很長(zhǎng)，在運(yùn)動(dòng)過程中不斷地與氬原子發(fā)生碰撞電離出大量的氬離子轟擊靶材，經(jīng)過多次碰撞后二次電子的能量逐漸降低，擺脫磁力線的束縛，遠(yuǎn)離靶材，最終沉積在襯底上

真空鍍膜機(jī)按鍍膜方式主要可分為：蒸發(fā)式鍍膜，磁控濺射鍍膜和離子鍍。蒸發(fā)鍍膜工作原理是將膜材置于真空鍍膜室內(nèi)，通過蒸發(fā)源加熱使其蒸發(fā)，當(dāng)蒸發(fā)分子的平均自由程大于真空鍍膜室的線性尺寸，蒸汽的原子和分子從蒸發(fā)源表面逸出后，很少受到其他分子或原子的沖擊與阻礙，可直接到達(dá)被鍍的基片表面，由于基片溫度較低，便凝結(jié)其上而成膜。磁控濺射鍍膜是指電子在電場(chǎng)E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子;新電子飛向基片，Ar正離子在電場(chǎng)作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜。離子鍍的工作原理是：蒸發(fā)源接陽極，工件接陰極，當(dāng)通以三至五千伏高壓直流電以后，蒸發(fā)源與工件之間產(chǎn)生弧光放電。由于真空罩內(nèi)充有惰性氬氣，在放電電場(chǎng)作用下部分氬氣被電離，從而在陰極工件周圍形成一等離子暗區(qū)。帶正電荷的氬離子受陰極負(fù)高壓的吸引，猛烈地轟擊工件表面，致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出，從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。隨后，接通蒸發(fā)源交流電源，蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā)，進(jìn)入輝光放電區(qū)并被電離。帶正電荷的蒸發(fā)料離子，在陰極吸引下，隨同氬離子一同沖向工件，當(dāng)拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子超過濺失離子的數(shù)量時(shí)，則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。

一、電控柜的操作1.開水泵、氣源2.開總電源3.開維持泵、真空計(jì)電源，真空計(jì)檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進(jìn)入下一步操作。約需5分鐘。4.開機(jī)械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動(dòng)，真空計(jì)開關(guān)換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。5.觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達(dá)250以后，關(guān)予抽，開前機(jī)和高閥繼續(xù)抽真空，抽真空到達(dá)一定程度后才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達(dá)2×10-3以后才能開電子槍電源。二、DEF-6B電子槍電源柜的操作1.總電源2.同時(shí)開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源:按電子槍控制Ⅰ電源、延時(shí)開關(guān)，延時(shí)、電源及保護(hù)燈亮，三分鐘后延時(shí)及保護(hù)燈滅，若后門未關(guān)好或水流繼電器有故障，保護(hù)燈會(huì)常亮。3.開高壓，高壓會(huì)達(dá)到10KV以上，調(diào)節(jié)束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉(zhuǎn)電流在1~1.7之間擺動(dòng)。三、關(guān)機(jī)順序1.關(guān)高真空表頭、關(guān)分子泵。2.待分子泵顯示到50時(shí)，依次關(guān)高閥、前級(jí)、機(jī)械泵，這期間約需40分鐘。3.到50以下時(shí)，再關(guān)維持泵。

用幾十電子伏或更高動(dòng)能的荷能粒子轟擊材料表面，使其原子獲得足夠的能量而濺出進(jìn)入氣相，這種濺出的，復(fù)雜的粒子散射過程稱為濺射。濺射鍍膜是利用濺射現(xiàn)象來達(dá)到制取各種膜層的目的，即在真空室中利用荷能離子轟擊靶表面，使被轟擊出的粒子在基底上沉積的技術(shù)。在與靶表面平行的方向上施加磁場(chǎng)，利用電場(chǎng)和磁場(chǎng)相互垂直的磁控管原理減少了電子對(duì)基底的轟擊，有效降低了基底溫度，使高速濺射成為可能

你這問題太大了。。。。簡(jiǎn)單的話就是把膜料弄到基底上。這里就包括濺射、用電子槍打等方式不同的鍍膜機(jī)是不同的。真空的目的是讓分子的平均自由程更大，就是避免膜料分子不會(huì)碰到空氣分子。

主要利用輝光放電(glow discharge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面, 靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。下列固態(tài)物質(zhì)皆可為靶材 (Target) ：任何常溫固態(tài)金屬 ( 銅、鋁、鈦 )固態(tài)非金屬 ( 石墨 , 氧化硅 ( SiO2 )合金 ( 不銹鋼（ SUS )金屬氧化物 ( 氧化鈦、氧化銦 ) 。注：一般金屬鍍膜大都采用直流（DC）濺鍍，而不導(dǎo)電的陶瓷材料則使用RF交流