光刻法，簡(jiǎn)述光刻的工藝過(guò)程步驟
簡(jiǎn)述光刻的工藝過(guò)程步驟2，光刻技術(shù)的種類(lèi)及介紹3，光刻和刻蝕有什么區(qū)別4，科技文獻(xiàn)翻譯5，光刻曝光技術(shù)的主要流程及每個(gè)步驟的意義6，光刻技術(shù)的原理是什么1，簡(jiǎn)述光刻的工藝過(guò)程步驟1.wafer表面處理；2.旋涂光刻膠（包括抗反射層）3.前烘；4.曝光；5.后烘；6.顯影，有的需要在顯影前進(jìn)行堅(jiān)膜；7.刻蝕2，光刻技術(shù)的種類(lèi)及介紹你可以參看這些資料http://baike.baidu.com/view/359979.htm?fr=ala0_1http://baike.baidu.com/view/111...
更新時(shí)間：2023-09-06標(biāo)簽： 光刻法簡(jiǎn)述光刻的工藝過(guò)程步驟 全文閱讀