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溝道長(zhǎng)度調(diào)制效應(yīng),短溝道效應(yīng)的簡(jiǎn)介

來(lái)源:整理 時(shí)間:2023-08-20 05:54:04 編輯:智能門戶 手機(jī)版

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1,短溝道效應(yīng)的簡(jiǎn)介

英文名稱:Short-channel effects解釋一:短溝道效應(yīng)主要是指閾值電壓與溝道相關(guān)到非常嚴(yán)重的程度。解釋二:溝道長(zhǎng)度減小到一定程度后出現(xiàn)的一系列二級(jí)物理效應(yīng)統(tǒng)稱為短溝道效應(yīng)。包括:

短溝道效應(yīng)的簡(jiǎn)介

2,CMOS書中 基本電流鏡 的一個(gè)問(wèn)題模擬集成電路

你圖中的參考電流源應(yīng)該是個(gè)限流電阻吧?BJT電路中是個(gè)電阻。BJT電路中短接為了BE間有壓降,CE可以導(dǎo)通。這里也是產(chǎn)生通道用的。原理就是:兩個(gè)一樣的MOS管,GS電壓相等,流過(guò)的電流相等。至于是可變電阻區(qū)還是放大區(qū),你分析下?
很簡(jiǎn)單,是保證m1工作在飽和區(qū),這樣才可以用飽和區(qū)的公式,Iout才能得到精確的電流比值

CMOS書中 基本電流鏡 的一個(gè)問(wèn)題模擬集成電路

3,mosfet漏電流不飽和原因

VDS<=VGS,處于非飽和區(qū),所以漏電流沒(méi)飽和,另外即使是處于飽和區(qū)的mosfet也會(huì)由于溝道長(zhǎng)度調(diào)制效應(yīng),漏電流也會(huì)隨VDS增加而緩慢增加。 補(bǔ)充:你找一本半導(dǎo)體器件的書找到MOS器件看看他的溝道寬度調(diào)制效應(yīng)就知道了。簡(jiǎn)單說(shuō)就是隨著VDS增大,溝道長(zhǎng)度變短,溝道電阻將減小,而在有效溝道上的壓降仍保持VDsat不變,所以溝道電流就會(huì)增大。這就是在飽和區(qū)中,漏電流隨VDS增大而略有增大的原因。MOS器件還有很多二階效應(yīng),如果樓主真的想全搞懂,還是借本半導(dǎo)體物理和器件的教材,推倒比較多。

mosfet漏電流不飽和原因

4,如何制備出單層的MoS2

在SPICEⅡ中,MOS晶體管的模型有幾種,例如: MOS1:一級(jí)平方律模型?!?只考慮了MOSFET的基本性能;適用于長(zhǎng)溝道、低精度的情況。 MOS2:二級(jí)分析模型?!?考慮了MOSFET的二級(jí)效應(yīng):溝道長(zhǎng)度調(diào)制效應(yīng),短溝道效應(yīng),窄溝道效應(yīng),DIBL效應(yīng),表面電天然法二硫化鉬具有優(yōu)異的性能和廣闊的應(yīng)用前景,所以國(guó)內(nèi)外對(duì)納米MoS2制備及應(yīng)用都進(jìn)行了大量的研究。MoS2可以由天然法,即輝鉬精礦提純法制備,該法是將高品質(zhì)的鉬精礦經(jīng)過(guò)一定的物理和化學(xué)作用,除去輝鉬精礦中的酸不溶物、SiO2、Fe、Cu、Ca、Pb 等雜質(zhì),再進(jìn)一步細(xì)化,獲得納米 MoS2。美國(guó) Climax 鉬公司就是采用了這種方法生產(chǎn) MoS2。這種方法制成的納米MoS2,能夠保持天然的 MoS2晶形,潤(rùn)滑性能較好,適合制成潤(rùn)滑劑。
在spiceⅱ中,mos晶體管的模型有幾種,例如: mos1:一級(jí)平方律模型?!?只考慮了mosfet的基本性能;適用于長(zhǎng)溝道、低精度的情況。 mos2:二級(jí)分析模型?!?考慮了mosfet的二級(jí)效應(yīng):溝道長(zhǎng)度調(diào)制效應(yīng),短溝道效應(yīng),窄溝道效應(yīng),dibl效應(yīng),表面電

5,關(guān)于半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)管

砷化鎵(GaAs)是由化學(xué)元素周期表中Ⅲ族元素鎵和Ⅴ族元素砷二者組成的單晶化合物,因此,它又叫做Ⅲ-Ⅴ化合物,是一種新型半導(dǎo)體材料。它的特性與周期表中Ⅳ族元素硅類似,但重要的差別之一是,GaAs的電子遷移率比硅約大5~10倍。用GaAs制造有源器件時(shí),具有比硅器件快得多的轉(zhuǎn)換速度(例如在截止、飽和導(dǎo)通間變化)。高速砷化鎵三極管正被用于微波電路、高頻放大和高速數(shù)字邏輯電路中。 一種由砷化鎵制造的N溝道FET叫做金屬-半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)管(MES-FET①),它具有高速特性等優(yōu)點(diǎn),應(yīng)用廣泛。 (a) (b) 圖XX_01 N溝道MESFET的物理結(jié)構(gòu)和電路符號(hào)分別如圖XX_01(a)、(b)所示②。圖(a)表明,在GaAs襯底上面形成N溝道,然后在N溝道兩端利用光刻、擴(kuò)散等工藝摻雜成高濃度N+區(qū),分別組成漏極d和源極s。當(dāng)MESFET的柵區(qū)金屬(例如鋁)與N溝道表面接觸,將在金屬-半導(dǎo)體接觸處形成肖特基勢(shì)壘區(qū),它和硅JFET中柵極、溝道間的PN結(jié)相似。MESFET的肖特基勢(shì)壘區(qū)也要求外加反偏電壓,vGS愈負(fù),肖特基勢(shì)壘區(qū)愈寬,N溝道有效截面愈小,因此,漏極電流iD將隨vGS變化。這樣,MESFET的輸出特性與硅JFET相似,屬于耗盡型器件,有一夾斷電壓Vp。 由于砷化鎵的電導(dǎo)率很低,用作襯底時(shí)對(duì)相鄰器件能起良好的隔離作用。為了減少管子的開關(guān)時(shí)間,通常MESFET的導(dǎo)電溝道做得短,這樣由于vDS產(chǎn)生的溝道長(zhǎng)度調(diào)制效應(yīng)就變得明顯,即使在恒流區(qū)ID也隨vDS而變,這是與硅JFET不同之一。 ① 此系Metal-Semiconductor Field-Effect Transistor的縮寫。 ② P溝道MESFET,因?yàn)榭昭ㄟw移率很低,不具有N溝道器件的高速特性,幾乎不用。 返回主頁(yè) 下一頁(yè) 上一頁(yè)

6,飽和狀態(tài)的問(wèn)題

飽和狀態(tài)是說(shuō)溶液。 一般把一定溫度,一定量的溶劑里,不能再溶解某種溶質(zhì)的溶液教做這種溶質(zhì)的飽和溶液。 當(dāng)溶液達(dá)到飽和時(shí)不再放熱獲吸熱。
一. 在電子科學(xué)技術(shù)中,飽和狀態(tài)是指晶體管的一種低電壓、大電流工作狀態(tài)(即開態(tài)).晶體管的工作狀態(tài)(或工作模式)包括有放大狀態(tài)、截止?fàn)顟B(tài)、飽和狀態(tài)和反向放大狀態(tài)四種.對(duì)于bjt(雙極型晶體管)和對(duì)于fet(場(chǎng)效應(yīng)晶體管),飽和狀態(tài)的含義大不相同,要特別注意區(qū)分開來(lái).  (1)對(duì)于bjt:  因?yàn)閎jt是電流驅(qū)動(dòng)的器件,則其飽和狀態(tài)就是指電流較大、而電壓飽和(基本恒定不變)的一種工作模式.bjt在飽和狀態(tài)工作時(shí),發(fā)射結(jié)和集電結(jié)都處于正偏,則導(dǎo)電很好、電流較大,這時(shí)輸出的集電極電流ic只決定于外電路的參量(ic=vcc/rl,式中的vcc是電源電壓,rl是負(fù)載電阻),而與輸入電流無(wú)關(guān)(即這時(shí)已離開了放大狀態(tài));該狀態(tài)是輸出電流大、輸出電壓低的工作模式,故相應(yīng)于開關(guān)的開態(tài).  在bjt的輸出伏安特性曲線上,飽和狀態(tài)即是處在緊靠縱軸(電流軸)的一個(gè)小范圍內(nèi).bjt在飽和狀態(tài)工作時(shí),總是希望該飽和范圍越小越好,即要求輸出電壓——飽和壓降越低越好.因?yàn)轱柡蛪航抵苯雨P(guān)系到集電極串聯(lián)電阻,故為了降低飽和壓降,就需要提高集電區(qū)摻雜濃度;但為了提高提高擊穿電壓,又需要減小集電區(qū)摻雜濃度,這是一個(gè)矛盾.為解決此矛盾,就發(fā)展出了外延片的技術(shù),即是在低阻襯底上生長(zhǎng)一層薄的較高電阻率的外延層,然后在外延層上制作bjt;對(duì)于集成電路中的bjt來(lái)說(shuō),因?yàn)樗械碾姌O都需要從芯片表面引出,因此在外延的基礎(chǔ)上,還需要通過(guò)在器件有源區(qū)下面加設(shè)低阻埋層來(lái)減小集電極串聯(lián)電阻.總之,在集成電路芯片中采用外延層和埋層的目的,都是為了在保持較高擊穿電壓的條件下來(lái)減小集電極串聯(lián)電阻、以降低飽和壓降.  (2)對(duì)于fet(包括jfet和mosfet等):  因?yàn)閒et是電壓驅(qū)動(dòng)的器件,則其飽和狀態(tài)就是指電壓較大、而電流飽和(基本恒定不變)的一種工作模式.fet在飽和狀態(tài)工作時(shí),柵極電壓大于閾值電壓(對(duì)于增強(qiáng)型fet),存在有溝道,但是溝道在靠近漏極處是夾斷了的(這時(shí),源漏電壓vds≥柵源電壓vgs-閾值電壓vt),輸出電流基本上由未被夾斷的溝道部分的電阻來(lái)決定,在不考慮溝道長(zhǎng)度調(diào)制效應(yīng)時(shí),則輸出電流與源漏電壓無(wú)關(guān),即輸出電流飽和;但是此飽和的輸出電流要受到柵極電壓控制(飽和時(shí)的柵極跨導(dǎo)最大).在輸出伏安特性曲線上,飽和狀態(tài)即是處在電流飽和的區(qū)域(即特性曲線是水平的區(qū)域).實(shí)際上,fet的飽和狀態(tài)也就是其放大工作的狀態(tài)(這與bjt不同).  二.在化學(xué)和化工技術(shù)中,飽和狀態(tài)是指制冷劑在一定壓力和溫度下氣、液兩相處于動(dòng)態(tài)平衡時(shí)的一種狀態(tài)。動(dòng)態(tài)平衡是建立在一定的溫度及壓力條件下的,如果溫度或壓力改變時(shí),平衡條件就會(huì)受到破壞,經(jīng)過(guò)一段時(shí)間后,又會(huì)達(dá)到新的平衡,出現(xiàn)新的飽和狀態(tài)?! 〔煌膲毫?duì)應(yīng)不同的飽和溫度才能使制冷劑處于飽和狀態(tài)。  飽和狀態(tài)分為飽和氣體狀態(tài)、飽和液體狀態(tài)和飽和氣液共存狀態(tài)
不能再溶解某種物質(zhì)的溶液叫做這種溶質(zhì)的飽和溶液,但可以再溶解其他的溶質(zhì)。水達(dá)到飽和是什么意思???我不知道你什么意思啊,
小弟你還真的是小阿,你問(wèn)的飽和狀態(tài)是指哪個(gè)方面的??再補(bǔ)充點(diǎn)資料!別人才能幫你啊!
說(shuō)到飽和就不得不提起另一個(gè)詞匯叫做溶解,這個(gè)是在化學(xué)中關(guān)于溶液能溶解溶質(zhì)的最大量.在別的時(shí)候我們說(shuō)的飽和一般是指在一種物質(zhì)中能夠均勻包含另一種物質(zhì)的最大狀態(tài).所以飽和這種狀態(tài)是同時(shí)發(fā)生兩種物質(zhì)之間的,你說(shuō)的水達(dá)到飽和是指什么溶解再水里還是水溶解在什么地方?
飽和??!就是把糖放在開水里溶化,你就一直加糖,等到糖不能溶化為止,現(xiàn)在開水就成了飽和狀態(tài)。跟吸熱放熱沒(méi)關(guān)系,就是一個(gè)爹一個(gè)娘的區(qū)別。
文章TAG:溝道長(zhǎng)度調(diào)制效應(yīng)溝道長(zhǎng)度調(diào)制效應(yīng)

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