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icp刻蝕，感應耦合等離子體刻蝕機工作原理是什么

來源：整理 時間：2023-08-25 09:37:06 編輯：智能門戶 手機版

本文目錄一覽

1，感應耦合等離子體刻蝕機工作原理是什么

利用ICP產(chǎn)生高密度等離子體，等離子體中的活性基團或者離子與所需刻蝕的材料發(fā)生化學反應，并去除；一般在刻蝕的過程中同時也伴隨著物理轟擊，并把相應的鍵能打開，從而加速反應的進程。

感應耦合等離子體刻蝕機工作原理是什么

2，LED PSS什么意思

PSS(Patterned Sapphire Substrate)，俗稱圖形化襯底，也就是在藍寶石襯底上生長干法刻蝕用掩膜，用標準的光刻工藝將掩膜刻出圖形，利用ICP刻蝕技術(shù)刻蝕藍寶石，并去掉掩膜，再在其上生長GaN材料，使GaN材料的縱向外延變?yōu)闄M向外延。

LED PSS什么意思

3，求助ICP原理

簡單的說就是，ICP是金屬離子從激發(fā)態(tài)到基態(tài)發(fā)射出能量的大小與濃度成正比，從而測定金屬的濃度。
微加工中離子耦合刻蝕工藝也叫ICP，不知是不是樓主指的那個。
不知道樓主ICP是不是指的電感耦合等離子體，若是的話可以隨便找本原子光譜的書籍，就有講的。

求助ICP原理

4，什么是icpaes

Inductively Coupled Plasma - Advanced Silicon Etch 電感耦合等離子體深硅刻蝕 Inductively Coupled Plasma - Atomic Emission Spectroscopy 電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜 這個通常簡寫成ICP-AES，不過在化學里用得多一些

5，如何使氧氣放電

在高真空狀態(tài)下，在密閉的容器中通入一定量氧氣，在這個腔體中加入電容和電感，進行耦合，使氧氣變成等離子態(tài)，就能放電了ICP刻蝕就是這么用的
是對氧氣放點，使其生成臭氧。。方程式為： 3o2==放電==2o3 實質(zhì)是： o2 ＋hv——→o＋o (高層大氣中的氧氣受波長短于242nm的紫外線照射變成游離的氧原子)； o2＋o =o3 （有些游離的氧原子又與氧氣結(jié)合就生成了臭氧，大氣中 90%的臭氧是以這種方式形成的） 回答滿意請采納~

6，專業(yè)技術(shù)詞匯解釋呢

ITO(Indium-Tin Oxide)：氧化銦錫。是一種透明導電玻璃。ICP（inductively coupled plasma）：感應耦合等離子體。一種常用的干法刻蝕的等離子體源。臺面刻蝕（MESA）：就是在薄膜、器件等表面上面根據(jù)需要刻蝕出臺面結(jié)構(gòu)。可以利用掩膜結(jié)合ICP刻蝕來實現(xiàn)。
ITO(Indium-Tin Oxide)：氧化銦錫。是一種透明導電玻璃。ICP（inductively coupled plasma）：感應耦合等離子體。一種常用的干法刻蝕的等離子體源。臺面刻蝕（MESA）：就是在薄膜、器件等表面上面根據(jù)需要刻蝕出臺面結(jié)構(gòu)?？梢岳醚谀そY(jié)合ICP刻蝕來實現(xiàn)。
文章TAG：icp刻蝕感應耦合icp刻蝕

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