電子束曝光，pmma的分子量大小對(duì)電子束曝光有什么影響
pmma的分子量大小對(duì)電子束曝光有什么影響2，電子束曝光和photolithography的區(qū)別3，電子束光刻什么是電子束光刻4，電子束曝光機(jī)與普通光學(xué)曝光機(jī)有哪些區(qū)別5，電子束光刻技術(shù)原理方法優(yōu)缺點(diǎn)急求查閱了資料還是覺得6，誰知道EBL跟TPM是什么意思1，pmma的分子量大小對(duì)電子束曝光有什么影響pmma的分子量大小對(duì)電子束曝光有什么影響實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn),PMMA的分子量在一定范圍內(nèi)時(shí)可提供最佳的性能.PMMA的分子量范圍為25,000~200,000g/mol光點(diǎn)聚焦指什么？我覺得有影響2，電子束曝光和...
更新時(shí)間：2024-09-04標(biāo)簽： 電子電子束電子束曝光曝光電子束曝光 全文閱讀