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電子束曝光，pmma的分子量大小對電子束曝光有什么影響

來源：整理 時間：2024-09-04 03:40:27 編輯：智能門戶 手機版

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1，pmma的分子量大小對電子束曝光有什么影響

pmma的分子量大小對電子束曝光有什么影響實驗發(fā)現(xiàn),PMMA的分子量在一定范圍內(nèi)時可提供最佳的性能.PMMA的分子量范圍為25,000~200,000g/mol
光點聚焦指什么？我覺得有影響

pmma的分子量大小對電子束曝光有什么影響

2，電子束曝光和 photolithography 的區(qū)別

photolithography [英]?f??t?l?θ？gr?f? [美]?fo?to?l?θ？gr?f? n. 影印石版術，照相平版 [例句]Design flow integration for photolithography simulation.
搜一下：電子束曝光和 photolithography 的區(qū)別

電子束曝光和 photolithography 的區(qū)別

3，電子束光刻什么是電子束光刻

電子束曝光（electron beam lithography）指使用電子束在表面上制造圖樣的工藝，是光刻技術的延伸應用。光刻技術的精度受到光子在波長尺度上的散射影響。使用的光波長越短，光刻能夠達到的精度越高。根據(jù)德布羅意的物質(zhì)波理論，電子是一種波長極短的波。這樣，電子束曝光的精度可以達到納米量級，從而為制作納米線提供了很有用的工具。電子束曝光需要的時間長是它的一個主要缺點。為了解決這個問題，納米壓印術應運而生。電子束曝光在半導體工業(yè)中被廣泛使用于研究下一代超大規(guī)模集成電路。

電子束光刻什么是電子束光刻

4，電子束曝光機與普通光學曝光機有哪些區(qū)別

平行曝光機的主要特點　　這個類型的設備只有一個燈管，曝光臺面也是分有上下方兩個鏡子，使用的是光線折射的原理。當兩個面同時進行曝光的時候，上下燈的曝光是分開的。上等先進行曝光，一面鏡子將光線反射到臺面的上方鏡子，然后再折射到曝光臺面上。下燈曝光時，光線是直接直射到下方的鏡子里然后在折射到臺面上，因此說使用品行曝光機進行曝光的時候，上燈的能量會比下燈的能量要更大一些，曝光及級數(shù)才會一樣?！　∩⒐馄毓鈾C的主要特點　　這個設備在曝光的時候燈光是直接進行照射的，就像點燈一樣，上下燈在兩面都是同時進行曝光的。
我。。知。。道加。。我。。私。。聊

5，電子束光刻技術原理方法優(yōu)缺點急求查閱了資料還是覺得

電子束光刻中使用的曝光機一般有兩種類型:直寫式與投影式。直寫式就是直接將會聚的電子束斑打在表面涂有光刻膠的襯底上,不需要光學光刻工藝中最昂貴和制備費時的掩膜;投影式則是通過高精度的透鏡系統(tǒng)將電子束通過掩膜圖形平行地縮小投影到表面涂有光刻膠的襯底上。一般直寫式曝光機主要使用的是熱場發(fā)射源(表面鍍ZrO的鎢金屬針尖),工作溫度在1800K,和冷場發(fā)射源相比可以有效地防止針尖的污染并提供穩(wěn)定的光源。電子源發(fā)射出來的電子束的聚焦和偏轉(zhuǎn)是在鏡筒中完成的。鏡筒通常包含有光闌、電子透鏡、擋板、像散校正器和法拉第電流測量筒等裝置。光闌的作用主要是設定電子束的會聚角和電子束電流。電子透鏡的作用是通過靜電力或是磁力改變電子束的運動。電子透鏡類似光學透鏡,也存在球差和色差(當外圈電子會聚比內(nèi)圈電子強時就形成了球差,而當能量有微小差異的電子聚焦在不同平面上時就形成了色差),從而限制了束斑的大小和會聚角的范圍。像散校正器可以補償不同方位角電子束的像差。擋板的作用是開啟或關閉電子束。結合刻蝕和沉積工藝,利用直寫式曝光技術可以制備20nm甚至更細的圖形,最小尺寸達10nm的原理型納米電子器件也已經(jīng)制備出來。由于直寫式曝光技術所具有的超高分辨率,無需昂貴的投影光學系統(tǒng)和費時的掩膜制備過程,它在微納加工方面有著巨大的優(yōu)勢。但由于直寫式的曝光過程是將電子束斑在表面逐點掃描,每一個圖形的像素點上需要停留一定的時間,這限制了圖形曝光的速度。直寫式電子束光刻在產(chǎn)能上的瓶頸使得它在微電子工業(yè)中一般只作為一種輔助技術而存在,主要應用于掩膜制備、原型化、小批量器件的制備和研發(fā)。但直寫式電子束曝光系統(tǒng)在納米物性測量、原型量子器件和納米器件的制備等科研應用方面已顯示出重要的作用。
電子束曝光（電子束直寫、EBL）的原理在百度文庫有很多，最大的優(yōu)點是：精度高，可以達到8nm；不需要掩模板。最大的缺點是：效率低，費用高。機械制造系統(tǒng)工程國家重點實驗室有一臺電子束曝光機，具體你可以到網(wǎng)站上看看sklms.xjtu.edu.cn再看看別人怎么說的。

6，誰知道EBL 跟TPM是什么意思

緊急制動燈 (EBL)　　沃爾沃轎車的緊急制動燈 (EBL) 　　在車速超過 60 km/h 時啟動，EBL 系統(tǒng)可以感應正常制動與緊急制動之間的不同。 如果是緊急情況，全部制動燈將閃爍，頻率為每秒 5 次。 一旦您的車速降低到低于 10 km/h 時，制動燈停止閃爍，而危險燈則閃爍。 TPM不知道噢。。。。
　 電子束曝光系統(tǒng)（electron beam lithography, EBL，又稱電子束暴光系統(tǒng)）是一種利用電子束在工件面上掃描直接產(chǎn)生圖形的裝置。由于SEM、STEM及FIB的工作方式與電子束曝光機十分相近，美國JC Nabity Lithography Systems公司是最早研發(fā)了基于改造商品SEM、STEM或FIB的電子束曝光裝置（Nanometer Pattern Generation System納米圖形發(fā)生系統(tǒng)，簡稱NPGS，又稱電子束微影系統(tǒng)）。電子束曝光技術具有可直接刻畫精細圖案的優(yōu)點，且高能電子的波長短（< 1 nm），可避免繞射效應的困擾，是實驗室制作微小納米電子元件最佳的選擇。相對于購買昂貴的專用電子束曝光機臺，以既有的SEM等為基礎，外加電子束控制系統(tǒng)，透過電腦介面控制電子顯微鏡中電子束之矢量掃描，以進行直接刻畫圖案，在造價方面可大幅節(jié)省，且兼具原SEM 的觀測功能，在功能與價格方面均具有優(yōu)勢。由于其具有高分辨率以及低成本等特點，在北美研究機構中，JC Nabity的NPGS是最熱銷的配套于掃描電鏡的電子束微影曝光系統(tǒng)，而且它的應用在世界各地越來越廣泛。（NPGS最突出優(yōu)點是技術先進性無與倫比且性價比高） TPM(Total Productive Maintenance)，中文翻譯為“全面生產(chǎn)保養(yǎng)”，是一種以設備為中心展開效率化改善的制造管理技術，與全面品質(zhì)管理（Total Quality Management，TQM）、精實生產(chǎn)（Lean Production）并稱為世界級三大制造管理技術。 TPM概念　　從理論上講，TPM是一種維修程序。它與TQM（全員質(zhì)量管理）有以下幾點相似之處：（1）要求將包括高級管理層在內(nèi)的公司全體人員納入TPM； （2）要求必須授權公司員工可以自主進行校正作業(yè)； （3）要求有一個較長的作業(yè)期限，這是因為TPM自身有一個發(fā)展過程，貫徹TPM需要約一年甚至更多的時間，而且使公司員工從思想上轉(zhuǎn)變也需要時間。 　　TPM將維修變成了企業(yè)中必不可少的和極其重要的組成部分，維修停機時間也成了工作日計劃表中不可缺少的一項，而維修也不再是一項沒有效益的作業(yè)。在某些情況下可將維修視為整個制造過程的組成部分，而不是簡單地在流水線出現(xiàn)故障后進行，其目的是將應急的和計劃外的維修最小化。
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