光掩膜
光掩膜版屬于靜電場敏感型，即只要光掩膜版接近高靜電電源，就會對其中的鉻圖案造成靜電破壞(判斷為CD不良)。光掩膜超聲波清洗機的清洗優(yōu)勢在哪里？如何預(yù)防和消除光刻掩膜版光掩膜版(光掩膜版/掩模版)的靜電，超出了電子行業(yè)大多數(shù)人的認(rèn)知范圍。1、芯片做搭載,做光罩時放在那個位置最好成為感光材料。用電子激光設(shè)備將設(shè)計好的電路圖案曝光在感光膠上，曝光區(qū)域會被顯影。電路圖案會在金屬鉻上形成，金屬鉻會變成類似于曝光底片的光掩模，然后用來投影和定位集成電路。投影電路將由集成電路掩模對準(zhǔn)器光刻。它的生產(chǎn)加工程序是:曝光、顯...
更新時間：2025-01-19標(biāo)簽： 掩膜光掩膜光掩膜 全文閱讀