光掩膜版屬于靜電場(chǎng)敏感型，即只要光掩膜版接近高靜電電源，就會(huì)對(duì)其中的鉻圖案造成靜電破壞(判斷為CD不良)。光掩膜超聲波清洗機(jī)的清洗優(yōu)勢(shì)在哪里？如何預(yù)防和消除光刻掩膜版光掩膜版(光掩膜版/掩模版)的靜電，超出了電子行業(yè)大多數(shù)人的認(rèn)知范圍。

成為感光材料。用電子激光設(shè)備將設(shè)計(jì)好的電路圖案曝光在感光膠上，曝光區(qū)域會(huì)被顯影。電路圖案會(huì)在金屬鉻上形成，金屬鉻會(huì)變成類似于曝光底片的光掩模，然后用來(lái)投影和定位集成電路。投影電路將由集成電路掩模對(duì)準(zhǔn)器光刻。它的生產(chǎn)加工程序是:曝光、顯影、去膠，最后會(huì)應(yīng)用到光刻上。業(yè)內(nèi)又稱光掩模、掩模板，英文名為MASK或photoMASK，材料有:應(yīng)時(shí)玻璃、金屬鉻、光敏膠。本產(chǎn)品由應(yīng)時(shí)玻璃制成，表面涂有一層金屬鉻和感光膠。光掩膜它不僅用于芯片制造，還廣泛應(yīng)用于LCD、PCB等方面。

該機(jī)型是光學(xué)/光電行業(yè)專用清洗機(jī)。人性化的設(shè)計(jì)，更合理的操作和運(yùn)行。所有管道均由拋光不銹鋼管制成。超聲波功率可連續(xù)調(diào)節(jié)，多少頻率和高頻綜合使用。主清洗槽和儲(chǔ)液槽配有獨(dú)立的過(guò)濾系統(tǒng)。配有投擲清洗裝置和慢拉提升裝置，清洗效果均勻。清洗、漂洗、脫水、慢拉、干燥等過(guò)程。加熱配有自動(dòng)恒溫系統(tǒng)。

光掩膜 version(光掩模/標(biāo)線片)對(duì)靜電敏感，超出了電子行業(yè)大多數(shù)人的認(rèn)知范圍。光掩膜版屬于靜電場(chǎng)敏感型，即只要光掩膜版接近高靜電電源，就會(huì)對(duì)其中的鉻圖案造成靜電破壞(判斷為CD不良)。國(guó)際半導(dǎo)體行業(yè)有版本光掩膜的靜電防護(hù)專用技術(shù)體系。對(duì)于版本為光掩膜的潔凈盒(半導(dǎo)體行業(yè)稱為SMIFPod)，靜電防護(hù)的技術(shù)要求包括特殊的靜電屏蔽要求。

數(shù)據(jù)處理主要來(lái)自工藝要求，有:1、直接對(duì)應(yīng)光掩膜直接對(duì)應(yīng)版圖的一層，比如金屬層。2.邏輯操作光刻圖案可以從一個(gè)或多個(gè)層的邏輯操作中得到。比如定義pplus和nplus是互補(bǔ)的。如果只有pplus，nplus將由pplus的邏輯反得到。在實(shí)際處理中是以反演的形式實(shí)現(xiàn)的。但值得注意的是，在一些邏輯運(yùn)算中，層的順序非常重要。

3、圖形放大縮小，即進(jìn)行尺寸操作，比如澆口處的注射層，從gatesize放大。完整的光掩膜圖形除了對(duì)應(yīng)的電路圖形外，還包括一些輔助圖形或測(cè)試圖形，如光標(biāo)、光刻對(duì)準(zhǔn)圖形、曝光控制圖形、測(cè)試鍵圖形、光學(xué)對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)圖形、劃線槽圖形等名稱、版本等標(biāo)識(shí)。