中國(guó)首臺(tái)5納米光刻機(jī)，中國(guó)已經(jīng)完成半導(dǎo)體5納米制程了嗎
中國(guó)已經(jīng)完成半導(dǎo)體5納米制程了嗎5奈米制程在實(shí)驗(yàn)室可以說(shuō)完成了，但量產(chǎn)和商業(yè)運(yùn)營(yíng)還在努力中;目前還沒(méi)有10納米的工藝，但10納米及小于10納米的工藝開發(fā)都在intel的計(jì)劃之中。2，中國(guó)首臺(tái)5納米光刻機(jī)在哪里現(xiàn)在國(guó)產(chǎn)的最高端的光刻機(jī)器能達(dá)到90納米的分辨率，經(jīng)過(guò)三次曝光最高可以達(dá)到22nm左右的水平。所以中國(guó)現(xiàn)在最先進(jìn)的光刻機(jī)只能生產(chǎn)22nm的芯片，離生產(chǎn)5nm芯片還差很遠(yuǎn)。所以，中國(guó)現(xiàn)在還沒(méi)有5nm光刻機(jī)。3，廢切削液中含25NaNOsub2sub直接排放會(huì)造成環(huán)境污答案BNaNO<sub&g...
更新時(shí)間：2023-06-10標(biāo)簽： 中國(guó)納米光刻機(jī)已經(jīng)中國(guó)首臺(tái)5納米光刻機(jī) 全文閱讀