離子注入機(jī)，離子注入機(jī)的輻射大嗎

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本文目錄一覽

1，離子注入機(jī)的輻射大嗎
2，離子注入機(jī)對(duì)女性危害有多大
3，什么是離子注入什么是離子注入機(jī)
4，晶元經(jīng)過(guò)離子注入后會(huì)發(fā)生什么變化
5，離子注入技術(shù)的基本信息
6，什么是xrd分析

1，離子注入機(jī)的輻射大嗎

一般注入時(shí)，都是個(gè)在封閉式的真空環(huán)境，所以輻射沒(méi)那么大。

應(yīng)該不會(huì)很大

離子注入機(jī)的輻射大嗎

2，離子注入機(jī)對(duì)女性危害有多大

看是什么材料了,要是硅中的離子注入一般是沒(méi)有輻射的，要是砷化鎵的話就要注意防護(hù)了，砷是有毒的。

這樣的話，是會(huì)有影響的，容易出現(xiàn)胎兒畸形或是神經(jīng)受損的，最好是不要

離子注入機(jī)對(duì)女性危害有多大

3，什么是離子注入什么是離子注入機(jī)

當(dāng)真空中有一束離子束射向一塊固體材料時(shí)，離子束把固體材料的原子或分子撞出固體材料表面，這個(gè)現(xiàn)象叫做濺射；而當(dāng)離子束射到固體材料時(shí)，從固體材料表面彈了回來(lái)，或者穿出固體材料而去，這些現(xiàn)象叫做散射；另外有一種現(xiàn)象是，離子束射到固體材料以后，受到固體材料的抵抗而速度慢慢減低下來(lái)，并最終停留在固體材料中，這一現(xiàn)象就叫做離子注入。離子注入機(jī)由離子源、質(zhì)量分析器、加速器、四級(jí)透鏡、掃描系統(tǒng)和靶室組成，可以根據(jù)實(shí)際需要省去次要部位。離子源是離子注入機(jī)的主要部位，作用是把需要注入的元素氣態(tài)粒子電離成離子，決定要注入離子的種類和束流強(qiáng)度。離子源直流放電或高頻放電產(chǎn)生的電子作為轟擊粒子，當(dāng)外來(lái)電子的能量高于原子的電離電位時(shí)，通過(guò)碰撞使元素發(fā)生電離。碰撞后除了原始電子外，還出現(xiàn)正電子和二次電子。正離子進(jìn)入質(zhì)量分析器選出需要的離子，再經(jīng)過(guò)加速器獲得較高能量，由四級(jí)透鏡聚焦后進(jìn)入靶室，進(jìn)行離子注入。

什么是離子注入什么是離子注入機(jī)

4，晶元經(jīng)過(guò)離子注入后會(huì)發(fā)生什么變化

離子注入機(jī)原理：離子注入機(jī)由離子源、質(zhì)量分析器、加速器、四級(jí)透鏡、掃描系統(tǒng)和靶室組成，可以根據(jù)實(shí)際需要省去次要部位。離子源是離子注入機(jī)的主要部位，作用是把需要注入的元素氣態(tài)粒子電離成離子，決定要注入離子的種類和束流強(qiáng)度。離子源直流放電或高頻放電產(chǎn)生的電子作為轟擊粒子，當(dāng)外來(lái)電子的能量高于原子的電離電位時(shí)，通過(guò)碰撞使元素發(fā)生電離。碰撞后除了原始電子外，還出現(xiàn)正電子和二次電子。正離子進(jìn)入質(zhì)量分析器選出需要的離子，再經(jīng)過(guò)加速器獲得較高能量，由四級(jí)透鏡聚焦后進(jìn)入靶室，進(jìn)行離子注入。高能離子注入的優(yōu)勢(shì)：多樣性：原則上任何元素都可以作為注入離子；形成的結(jié)構(gòu)可不受熱力學(xué)參數(shù)（擴(kuò)散、溶解度等）限制；不改變：不改變工件的原有尺寸和粗糙度等；適合于各類精密零件生產(chǎn)的最后一道工序；牢固性：注入離子直接和材料表面原子或分子結(jié)合，形成改性層，改性層和基底材料沒(méi)有清晰的界面，結(jié)合牢靠，不存在脫落的現(xiàn)象；不受限：注入過(guò)程在材料溫度低于零下、高到幾百上千度都可以進(jìn)行；可對(duì)那些普通方法不能處理的材料進(jìn)行表面強(qiáng)化，如塑料、回火溫度低的鋼材等；

同問(wèn)。。。

5，離子注入技術(shù)的基本信息

離子注入首先是作為一種半導(dǎo)體材料的摻雜技術(shù)發(fā)展起來(lái)的，它所取得的成功是其優(yōu)越性的最好例證。低溫?fù)诫s、精確的劑量控制、掩蔽容易、均勻性好這些優(yōu)點(diǎn)，使得經(jīng)離子注入摻雜所制成的幾十種半導(dǎo)體器件和集成電路具有速度快、功耗低、穩(wěn)定性好、成品率高等特點(diǎn)。對(duì)于大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路來(lái)說(shuō)，離子注入更是一種理想的摻雜工藝。如前所述，離子注入層是極薄的，同時(shí)，離子束的直進(jìn)性保證注入的離子幾乎是垂直地向內(nèi)摻雜，橫向擴(kuò)散極其微小，這樣就有可能使電路的線條更加纖細(xì)，線條間距進(jìn)一步縮短，從而大大提高集成度。此外,離子注入技術(shù)的高精度和高均勻性,可以大幅度提高集成電路的成品率。隨著工藝上和理論上的日益完善，離子注入已經(jīng)成為半導(dǎo)體器件和集成電路生產(chǎn)的關(guān)鍵工藝之一。在制造半導(dǎo)體器件和集成電路的生產(chǎn)線上，已經(jīng)廣泛地配備了離子注入機(jī)。70年代以后，離子注入在金屬表面改性方面的應(yīng)用迅速發(fā)展。在耐磨性的研究方面已取得顯著成績(jī)，并得到初步的應(yīng)用，在耐腐蝕性(包括高溫氧化和水腐蝕)的研究方面也已取得重要的進(jìn)展。注入金屬表面的摻雜原子本身和在注入過(guò)程中產(chǎn)生的點(diǎn)陣缺陷，都對(duì)位錯(cuò)的運(yùn)動(dòng)起“釘扎”作用，從而使金屬表面得到強(qiáng)化，提高了表面硬度。其次，適當(dāng)選擇摻雜元素，可以使注入層本身起著一種固體潤(rùn)滑劑的作用,使摩擦系數(shù)顯著降低。例如用錫離子注入En352軸承鋼，可以使摩擦系數(shù)減小一半。尤其重要的是，盡管注入層極薄，但是有效的耐磨損深度卻要比注入層深度大一個(gè)數(shù)量級(jí)以上。實(shí)驗(yàn)結(jié)果業(yè)已證明，摻雜原子在磨損過(guò)程中不斷向基體內(nèi)部推移,相當(dāng)于注入層逐步內(nèi)移,因此可以相當(dāng)持久地保持注入層的耐磨性。離子注入后形成的表面合金，其耐腐蝕性相當(dāng)于相應(yīng)合金的性能，更重要的是，離子注入還可以獲得特殊的耐蝕性非晶態(tài)或亞穩(wěn)態(tài)表面合金，而且離子注入和離子束分析技術(shù)相結(jié)合，作為一種重要的研究手段，有助于表面合金化及其機(jī)制的研究。離子注入作為金屬材料改性的技術(shù)，還有一個(gè)重要的優(yōu)點(diǎn)，即注入雜質(zhì)的深度分布接近于高斯分布，注入層和基體之間沒(méi)有明顯的界限，結(jié)合是極其緊密的。又因?yàn)樽⑷雽訕O薄，可以使被處理的樣品或工件的基體的物理化學(xué)性能保持不變,外形尺寸不發(fā)生宏觀的變化,適宜于作為一種最后的表面處理工藝。離子注入由于化學(xué)上純凈、工藝上精確可控，因此作為一種獨(dú)特的研究手段，還被廣泛應(yīng)用于改變光學(xué)材料的折射率、提高超導(dǎo)材料的臨界溫度，表面催化、改變磁性材料的磁化強(qiáng)度和提高磁泡的運(yùn)動(dòng)速度和模擬中子輻照損傷等等領(lǐng)域。

6，什么是xrd分析

研究X射線波長(zhǎng)和一般晶體晶格參數(shù)發(fā)現(xiàn)，兩者的尺寸是數(shù)值相當(dāng)或比較接近，從而有科學(xué)家斷言，晶體晶格是X射線發(fā)生衍射現(xiàn)象的天然柵欄！后來(lái)果然得到了驗(yàn)證。晶體是這樣；非晶體的物質(zhì)沒(méi)有這種有規(guī)律的格子排列格局，當(dāng)然就不能獲得X射線衍射現(xiàn)象了。物質(zhì)有沒(méi)有固定的熔點(diǎn)、沸點(diǎn)，并沒(méi)有驗(yàn)證是一個(gè)純凈物、包括晶體的獨(dú)有的予以可區(qū)別其它物質(zhì)的測(cè)試屬性。晶體的熔點(diǎn)、沸點(diǎn)是相對(duì)比較固定，熔程也是比較窄，但擁有這一熔點(diǎn)、沸點(diǎn)的物質(zhì)未必僅此一個(gè)；有些非晶體的純凈物，其熔點(diǎn)沸點(diǎn)也會(huì)在一定數(shù)值、熔程也會(huì)很窄?？傊?，可能在二十世紀(jì)初期還可以這樣做，但現(xiàn)在更科學(xué)的大型精密儀器分析法出現(xiàn)后，就不被認(rèn)同了。X射線衍射原理及應(yīng)用介紹：特征X射線及其衍射 X射線是一種波長(zhǎng)很短(約為20～0.06 nm)的電磁波，能穿透一定厚度的物質(zhì)，并能使熒光物質(zhì)發(fā)光、照相乳膠感光、氣體電離。在用電子束轟擊金屬“靶”產(chǎn)生的X射線中,包含與靶中各種元素對(duì)應(yīng)的具有特定波長(zhǎng)的X射線，稱為特征（或標(biāo)識(shí)）X射線?？紤]到X射線的波長(zhǎng)和晶體內(nèi)部原子間的距離(10^(-8)cm)相近，1912年德國(guó)物理學(xué)家勞厄(M.von Laue)提出一個(gè)重要的科學(xué)預(yù)見(jiàn)：晶體可以作為X射線的空間衍射光柵,即當(dāng)一束X射線通過(guò)晶體時(shí)將會(huì)發(fā)生衍射；衍射波疊加的結(jié)果使射線的強(qiáng)度在某些方向上增強(qiáng)、而在其它方向上減弱；分析在照相底片上獲得的衍射花樣，便可確定晶體結(jié)構(gòu)。這一預(yù)見(jiàn)隨后為實(shí)驗(yàn)所驗(yàn)證。1913年英國(guó)物理學(xué)家布拉格父子(W.H.Bragg,W.L.Bragg)在勞厄發(fā)現(xiàn)的基礎(chǔ)上,不僅成功地測(cè)定了NaCl、KCl等的晶體結(jié)構(gòu),并提出了作為晶體衍射基礎(chǔ)的著名公式——布拉格定律： 2d sinθ=nλ，式中，λ為X射線的波長(zhǎng)，衍射的級(jí)數(shù)n為任何正整數(shù)。當(dāng)X射線以掠角θ(入射角的余角，又稱為布拉格角)入射到某一具有d點(diǎn)陣平面間距的原子面上時(shí),在滿足布拉格方程時(shí)，會(huì)在反射方向上獲得一組因疊加而加強(qiáng)的衍射線。 X射線衍射應(yīng)用： 1、當(dāng)X射線波長(zhǎng)λ已知時(shí)(選用固定波長(zhǎng)的特征X射線)，采用細(xì)粉末或細(xì)粒多晶體的線狀樣品,可從一堆任意取向的晶體中，從每一θ角符合布拉格條件的反射面得到反射。測(cè)出θ后，利用布拉格公式即可確定點(diǎn)陣平面間距d、晶胞大小和晶胞類型; 2、利用X射線結(jié)構(gòu)分析中的粉末法或德拜-謝樂(lè)(Debye—Scherrer)法的理論基礎(chǔ)，測(cè)定衍射線的強(qiáng)度,就可進(jìn)一步確定晶胞內(nèi)原子的排布。 3、而在測(cè)定單晶取向的勞厄法中所用單晶樣品保持固定不變動(dòng)（即θ不變）,以輻射線束的波長(zhǎng)λ作為變量來(lái)保證晶體中一切晶面都滿足布拉格條件,故選用連續(xù)X射線束。再把結(jié)構(gòu)已知晶體（稱為分析晶體）用來(lái)作測(cè)定，則在獲得其衍射線方向θ后,便可計(jì)算X射線的波長(zhǎng)λ，從而判定產(chǎn)生特征X射線的元素。這便是X射線譜術(shù),可用于分析金屬和合金的成分。 4、X射線衍射在金屬學(xué)中的應(yīng)用 X射線衍射現(xiàn)象發(fā)現(xiàn)后，很快被用于研究金屬和合金的晶體結(jié)構(gòu)，出現(xiàn)了許多具有重大意義的結(jié)果。如韋斯特格倫（A.Westgren）(1922年)證明α、β和δ鐵都是體心立方結(jié)構(gòu)，β-Fe并不是一種新相;而鐵中的α—→γ相轉(zhuǎn)變實(shí)質(zhì)上是由體心立方晶體轉(zhuǎn)變?yōu)槊嫘牧⒎骄w，從而最終否定了β-Fe硬化理論。隨后,在用X射線測(cè)定眾多金屬和合金的晶體結(jié)構(gòu)的同時(shí)，在相圖測(cè)定以及在固態(tài)相變和范性形變研究等領(lǐng)域中均取得了豐碩的成果。如對(duì)超點(diǎn)陣結(jié)構(gòu)的發(fā)現(xiàn)，推動(dòng)了對(duì)合金中有序無(wú)序轉(zhuǎn)變的研究；對(duì)馬氏體相變晶體學(xué)的測(cè)定，確定了馬氏體和奧氏體的取向關(guān)系；對(duì)鋁銅合金脫溶的研究等等。目前 X射線衍射(包括X射線散射)已經(jīng)成為研究晶體物質(zhì)和某些非晶態(tài)物質(zhì)微觀結(jié)構(gòu)的有效方法。在金屬中的主要應(yīng)用有以下方面：（1）物相分析是X射線衍射在金屬中用得最多的方面，又分為定性分析和定量分析。定性分析是把對(duì)待測(cè)材料測(cè)得的點(diǎn)陣平面間距及衍射強(qiáng)度與標(biāo)準(zhǔn)物相的衍射數(shù)據(jù)進(jìn)行比較，以確定材料中存在的物相；定量分析則根據(jù)衍射花樣的強(qiáng)度，確定待測(cè)材料中各相的比例含量。（2）精密測(cè)定點(diǎn)陣參數(shù) 常用于相圖的固態(tài)溶解度曲線的繪制。溶解度的變化往往引起點(diǎn)陣常數(shù)的變化；當(dāng)達(dá)到溶解限后，溶質(zhì)的繼續(xù)增加引起新相的析出，不再引起點(diǎn)陣常數(shù)的變化。這個(gè)轉(zhuǎn)折點(diǎn)即為溶解限。另外點(diǎn)陣常數(shù)的精密測(cè)定可獲得單位晶胞原子數(shù)，從而可確定固溶體類型；還可以計(jì)算出密度、膨脹系數(shù)等有用的物理常數(shù)。（3）取向分析包括測(cè)定單晶取向和多晶的結(jié)構(gòu)（如擇優(yōu)取向）。測(cè)定硅鋼片的取向就是一例。另外，為研究金屬的范性形變過(guò)程，如孿生、滑移、滑移面的轉(zhuǎn)動(dòng)等，也與取向的測(cè)定有關(guān)。（4）晶粒（嵌鑲塊）大小和微觀應(yīng)力的測(cè)定由衍射花樣的形狀和強(qiáng)度可計(jì)算晶粒和微應(yīng)力的大小。在形變和熱處理過(guò)程中這兩者有明顯變化，它直接影響材料的性能。（5）宏觀應(yīng)力的測(cè)定宏觀殘留應(yīng)力的方向和大小，直接影響機(jī)器零件的使用壽命。利用測(cè)定點(diǎn)陣平面在不同方向上的間距的改變，可計(jì)算出殘留應(yīng)力的大小和方向。（6）對(duì)晶體結(jié)構(gòu)不完整性的研究包括對(duì)層錯(cuò)、位錯(cuò)、原子靜態(tài)或動(dòng)態(tài)地偏離平衡位置，短程有序，原子偏聚等方面的研究（見(jiàn)晶體缺陷）。（7）合金相變包括脫溶、有序無(wú)序轉(zhuǎn)變、母相新相的晶體學(xué)關(guān)系，等等。（8）結(jié)構(gòu)分析對(duì)新發(fā)現(xiàn)的合金相進(jìn)行測(cè)定，確定點(diǎn)陣類型、點(diǎn)陣參數(shù)、對(duì)稱性、原子位置等晶體學(xué)數(shù)據(jù)。（9）液態(tài)金屬和非晶態(tài)金屬研究非晶態(tài)金屬和液態(tài)金屬結(jié)構(gòu)，如測(cè)定近程序參量、配位數(shù)等。（10）特殊狀態(tài)下的分析在高溫、低溫和瞬時(shí)的動(dòng)態(tài)分析。此外，小角度散射用于研究電子濃度不均勻區(qū)的形狀和大小,X射線形貌術(shù)用于研究近完整晶體中的缺陷如位錯(cuò)線等，也得到了重視。 X射線分析的新發(fā)展金屬X射線分析由于設(shè)備和技術(shù)的普及已逐步變成金屬研究和材料測(cè)試的常規(guī)方法。早期多用照相法，這種方法費(fèi)時(shí)較長(zhǎng)，強(qiáng)度測(cè)量的精確度低。50年代初問(wèn)世的計(jì)數(shù)器衍射儀法具有快速、強(qiáng)度測(cè)量準(zhǔn)確，并可配備計(jì)算機(jī)控制等優(yōu)點(diǎn)，已經(jīng)得到廣泛的應(yīng)用。但使用單色器的照相法在微量樣品和探索未知新相的分析中仍有自己的特色。從70年代以來(lái)，隨著高強(qiáng)度X射線源（包括超高強(qiáng)度的旋轉(zhuǎn)陽(yáng)極X射線發(fā)生器、電子同步加速輻射,高壓脈沖X射線源）和高靈敏度探測(cè)器的出現(xiàn)以及電子計(jì)算機(jī)分析的應(yīng)用，使金屬 X射線學(xué)獲得新的推動(dòng)力。這些新技術(shù)的結(jié)合，不僅大大加快分析速度，提高精度，而且可以進(jìn)行瞬時(shí)的動(dòng)態(tài)觀察以及對(duì)更為微弱或精細(xì)效應(yīng)的研究。 5、X射線物相分析 X射線照射晶體物相產(chǎn)生一套特定的粉未衍射圖譜或數(shù)據(jù)D-I值。其中D-I與晶胞形狀和大小有關(guān)，相對(duì)強(qiáng)度I/I0，與質(zhì)點(diǎn)的種類和位置有關(guān)。與人的手指紋相似，每種晶體物相都有自己獨(dú)特的XPD譜。不同物相物質(zhì)即使混在一起，它們各自的特征衍射信息也會(huì)獨(dú)立出現(xiàn)，互不干擾。據(jù)此可以把任意純凈的或混合的晶體樣品進(jìn)行定性或定量分析。（1） X射線物相定性分析粉未X射線物相定性分析無(wú)須知曉物質(zhì)晶格常數(shù)和晶體結(jié)構(gòu)，只須把實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)與（粉未衍射標(biāo)準(zhǔn)聯(lián)合會(huì)）發(fā)行的PDF卡片上的標(biāo)準(zhǔn)值核對(duì)，就可進(jìn)行鑒定。當(dāng)然這是對(duì)那些被測(cè)試研究收集到卡片集中的晶相物質(zhì)而言的，卡片記載的解析結(jié)果都可引用?！斗勰┭苌淇ㄆ肥悄壳笆占钬S富的多晶體衍射數(shù)據(jù)集，包括無(wú)機(jī)化合物，有機(jī)化合物，礦物質(zhì)，金屬和合金等。1969年美國(guó)材料測(cè)試協(xié)會(huì)與英、法、加等多國(guó)相關(guān)協(xié)會(huì)聯(lián)合組成粉末衍射標(biāo)準(zhǔn)聯(lián)合會(huì)，收集整理、編輯出版PDF卡片,每年達(dá)到無(wú)機(jī)相各一組,每組1500-2000張不等.1967年前后,多晶粉未衍射譜的電子計(jì)示示機(jī)檢索程序和數(shù)據(jù)庫(kù)相繼推出.日本理學(xué)公司衍射射儀即安裝6個(gè)檢索程序(1)含947個(gè)相的程序;(2)含2716個(gè)相的常用相程序;(3)含3549個(gè)相的礦物程序;(4)含6000個(gè)相的金屬和合金程序;(5)含31799個(gè)相的無(wú)機(jī)相程序(6)含11378個(gè)相的有機(jī)相程序.每張片尾記錄一個(gè)物相。（2）多相物質(zhì)定性分析測(cè)XRD譜，得d值及相對(duì)強(qiáng)度后查索引，得卡片號(hào)碼后查到卡片，在±1%誤差范圍內(nèi)若解全部數(shù)據(jù)符合，則可判斷該物質(zhì)就是卡片所載物相，其晶體結(jié)構(gòu)及有關(guān)性能也由卡片而知。這是單一物相定性分析。多相混合物質(zhì)的XRD譜是各物相XRD譜的迭加，某一相的譜線位置和強(qiáng)度不因其它物相的存在而改變，除非兩相間物質(zhì)吸收系數(shù)差異較大會(huì)互相影響到衍射強(qiáng)度。固熔體的XRD譜則以主晶相的XRD為主。已知物相組分的多相混合物，或者先嘗試假設(shè)各物相組分，它們的XRD譜解析相對(duì)要容易得多。分別查出這些單一物相的已知標(biāo)準(zhǔn)衍射數(shù)據(jù)，d值和強(qiáng)度，將它們綜合到一起，就可以得到核實(shí)其有無(wú)。如鋼鐵中的δ相（馬氏體或鐵素體）γ相（奧氏體）和碳化物多相。完全未知的多相混合物，應(yīng)設(shè)法從復(fù)相數(shù)據(jù)中先查核確定一相，再對(duì)余下的數(shù)據(jù)進(jìn)行查對(duì)。每查出一相就減少一定難度，直至全部解決。當(dāng)然對(duì)于完全未知多相樣品可以了解其來(lái)源、用途、物性等推測(cè)其組分；通過(guò)測(cè)試其原子吸收光譜、原子發(fā)射光譜，IR、化學(xué)分析、X射線熒光分析等測(cè)定其物相的化學(xué)成分，推測(cè)可能存在的物相。查索到時(shí)，知道組分名稱的用字順?biāo)饕?，使用d值索引前，要先將全部衍射強(qiáng)度歸一化，然后分別用一強(qiáng)線、二強(qiáng)線各種組合、三強(qiáng)線各種組合…聯(lián)合查找直至查出第一主相。標(biāo)記其d值，I/I1值。把多余的d值，I/I1值再重新歸一化，包括與第一主相d值相同的多余強(qiáng)度值。繼續(xù)查找確定第二主相，直至全部物相逐一被查找出來(lái)并核對(duì)正確無(wú)誤。遇到?jīng)]被PDF卡收錄的物相時(shí)，需按未知物相程序解析指認(rèn)。物相定性分析中追求數(shù)據(jù)吻合程度時(shí)，（1）d值比I/I1值更重要，更優(yōu)先。因?yàn)閐測(cè)試精度高，重現(xiàn)性好；而強(qiáng)度受純度（影響分辨率）、結(jié)晶度（影響峰形）樣品細(xì)微度（同Q值時(shí)吸收不同），輻射源波長(zhǎng)（同d值，角因子不同）、樣品制備方法（有無(wú)擇優(yōu)取向等）、測(cè)試方法（照相法或衍射儀法）等因素影響，不易固定。（2）低角度衍射線比高角度線重要。對(duì)不同晶體而言低角度線不易重迭，而高角度線易重迭或被干擾。（3）強(qiáng)線比弱線重要。尤其要重視強(qiáng)度較大的大d值線。（3） X射線物相定量分析基本原理和分析在X射線物相定性分析基礎(chǔ)上的定量分析是根據(jù)樣品中某一物相的衍射線積分強(qiáng)度正變化于其含量。不能嚴(yán)格正比例的原因是樣品也產(chǎn)生吸收。對(duì)經(jīng)過(guò)吸收校正后的的衍射線強(qiáng)度進(jìn)行計(jì)算可確定物相的含量。這種物相定量分析是其它方法，如元素分析、成分組分分析等所不能替代的。 6、結(jié)晶度的XRD測(cè)定 7、高分子結(jié)晶體的X射線衍射研究

原發(fā)布者:1230zzy1230報(bào)告題目X射線衍射案例分析H2O題1目前言X射線衍射案例分析23X射線及其衍射X射線是一種波長(zhǎng)很短(約為20～0.061埃)的電磁波，能穿透一定厚度的物質(zhì)，并能使熒光物質(zhì)發(fā)光、照相乳膠感光、氣體電離。在用高能電子束轟擊金屬“靶”材產(chǎn)生X射線，它具有與靶中元素相對(duì)應(yīng)的特定波長(zhǎng)，稱為特征（或標(biāo)識(shí)）X射線。題目1X射線衍射案例分析23前言1?X射線的本質(zhì)是電磁波，與可見(jiàn)光完全相同，僅是波長(zhǎng)短而已，因此具有波粒二像性。?（1）波動(dòng)性?（2）粒子性題題目1X射線衍射案例分析23前言121，晶體結(jié)構(gòu)分析：人類研究物質(zhì)微觀結(jié)構(gòu)的第一種方法。2，物相定性分析3，物相定量分析4，晶粒大小分析5，非晶態(tài)結(jié)構(gòu)分析，結(jié)晶度分析6，宏觀應(yīng)力與微觀應(yīng)力分析7，擇優(yōu)取向分析題目12X射線衍射案例分析合成與表征鎳合金的合成321合成：①用丙酮，酒精多次清晰薄鋁板，并用水砂紙多次拋光；②在冷軋薄鋁板上用金屬離子注入機(jī)注入鎳，得到表面鎳鋁合金；題目12X射線衍射案例分析合成與表征3圖a,b;純的鎳和鋁的XRD圖譜鎳合金的表征圖c,d;合成的兩種金屬化合物的圖譜2題目12X射線衍射案例分析合成與表征鎳鋁合金的晶格常數(shù)32題目12X射線衍射案例分析合成與表征雙摻雜（Sn+2,+4）硅酸亞鐵鋰的合成3硅酸亞鐵鋰的合成2合成：①將Fe(NO3)3.9H2O溶解，然后加入四乙基正硅酸鹽

XRD，是X-Ray Diffraction，中文是：X射線衍射。現(xiàn)在的X射線衍射儀，一般都是多用途的，不僅僅是做物相鑒定。它可用于多晶材料的分析：如金屬、礦物南、陶瓷、催化劑、醫(yī)藥和玻璃涂層等材料。主要用于：粉末衍射、質(zhì)量控制、失效分析。用得比較多是：鋼鐵廠、水泥廠、制約廠、新材料研發(fā)、LED外延片研發(fā)等。還有的XRD是高分辯的。

XRD是X射線衍射儀，可以用來(lái)對(duì)無(wú)機(jī)物做定性分析。

就是通過(guò)對(duì)樣品X射線衍射圖樣進(jìn)行分析進(jìn)而確定物相組成的一種方法

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離子注入機(jī)，離子注入機(jī)的輻射大嗎

本文目錄一覽

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2，離子注入機(jī)對(duì)女性危害有多大

3，什么是離子注入什么是離子注入機(jī)

4，晶元經(jīng)過(guò)離子注入后會(huì)發(fā)生什么變化

5，離子注入技術(shù)的基本信息

6，什么是xrd分析

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