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nmos管,電路中的pmosnmos管是什么有什么作用

來源:整理 時(shí)間:2023-09-03 01:24:23 編輯:智能門戶 手機(jī)版

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1,電路中的pmosnmos管是什么有什么作用

最基本的功能是做開關(guān),控制電路的通斷

電路中的pmosnmos管是什么有什么作用

2,主板和顯卡的MOS管有什么用

MOS管的導(dǎo)熱性能比較好,通常是用來轉(zhuǎn)移熱量(注意理解),以利于轉(zhuǎn)移散熱或者加大散熱面積。一般來說導(dǎo)管散熱效率比沒有導(dǎo)管散熱的要高,而且鑒于其成本不低,也只有中端或以上硬件才配置MOS管。
散熱 可顯著降低芯片溫度

主板和顯卡的MOS管有什么用

3,什么是MOSNMOSPMOSCOMS

MOS器件分為NMOS和PMOS,而CMOS是指互補(bǔ)的MOS管組成的電路,也就是PMOS,NMOS組成,NMOS是指溝道在柵電壓控制下p型襯底反型變成n溝道,靠電子的流動PMOS是指 n型 p溝道,靠空穴的流動CMOS相比Bipolar,優(yōu)點(diǎn)就是其功耗低,集成度高等等。當(dāng)然Bipolar的驅(qū)動能力比CMOS強(qiáng)目前BiCMOS工藝就是結(jié)合了CMOS和Bipolar的優(yōu)點(diǎn)
nmos意思為n型金屬一氧化物半導(dǎo)體,而擁有這種結(jié)構(gòu)的晶體管我們稱之為nmos晶體管; pmos是指n型襯底,p溝道,靠空穴的流動運(yùn)送電流的mos管;由mos管構(gòu)成的集成電路稱為mos集成電路,由nmos和pmos兩種管子組成的互補(bǔ)mos電路即cmos電路。

什么是MOSNMOSPMOSCOMS

4,MOS晶體管的概念和特性分別是什么

MOSFET 的原意是:MOS(Metal Oxide Semiconductor金屬氧化物半導(dǎo)體),F(xiàn)ET(Field Effect Transistor 場效應(yīng)晶體管), 即以金屬層(M)的柵極隔著氧化層(O)利用電場的效應(yīng)來控制半導(dǎo)體(S)的場效應(yīng)晶體管。 功率場效應(yīng)晶體管也分為結(jié)型和絕緣柵型,但通常主要指絕緣柵型中的MOS 型(Metal Oxide Semiconductor FET),簡稱功率MOSFET(Power MOSFET)。結(jié)型功率場效應(yīng)晶體管一般稱作靜電感應(yīng)晶體管(Static Induction Transistor——SIT)。其特 點(diǎn)是用柵極電壓來控制漏極電流,驅(qū)動電路簡單,需要的驅(qū)動功率小,開關(guān)速度快,工作頻率高,熱穩(wěn)定性優(yōu)于GTR,但其電 流容量小,耐壓低,一般只適用于功率不超過10kW 的電力電子裝置。 2.功率MOSFET 的結(jié)構(gòu)和工作原理 功率MOSFET 的種類:按導(dǎo)電溝道可分為P 溝道和N 溝道。按柵極電壓幅值可分為;耗盡型;當(dāng)柵極電壓為零時(shí)漏源極 之間就存在導(dǎo)電溝道,增強(qiáng)型;對于N(P)溝道器件,柵極電壓大于(小于)零時(shí)才存在導(dǎo)電溝道,功率MOSFET 主要是N 溝道增強(qiáng)型。
網(wǎng)速慢

5,CMOS和NMOS器件到底有什么區(qū)別雙級型器件和MOS 數(shù)碼相機(jī)

用于數(shù)碼相機(jī)傳感器的是CCD和CMOS。 CCD(Charge Coupled Device 光電荷耦合器件)是一種半導(dǎo)體裝置,能夠把光學(xué)影像轉(zhuǎn)化為數(shù)字信號。 CCD上植入的微小光敏物質(zhì)稱作像素(Pixel)。一塊CCD上包含的像素?cái)?shù)越多,其提供的畫面分辨率也就越高。CCD的作用就像膠片一樣,但它是把圖像像素轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號。CCD在攝像機(jī)、數(shù)碼相機(jī)和掃描儀中應(yīng)用廣泛。 CMOS即互補(bǔ)性金屬氧化物半導(dǎo)體,其在微處理器、閃存和ASIC(特定用途集成電路)的半導(dǎo)體技術(shù)上占有絕對重要的地位。CMOS和CCD一樣都可用來感受光線變化的半導(dǎo)體。CMOS主要是利用硅和鍺這兩種元素所做成的半導(dǎo)體,通過CMOS上帶負(fù)電和帶正電的晶體管來實(shí)現(xiàn)基本的功能的。這兩個(gè)互補(bǔ)效應(yīng)所產(chǎn)生的電流即可被處理芯片紀(jì)錄和解讀成影像。 CMOS針對CCD最主要的優(yōu)勢就是非常省電。不像由二極管組成的CCD,CMOS 電路幾乎沒有靜態(tài)電量消耗,只有在電路接通時(shí)才有電量的消耗。這就使得CMOS的耗電量只有普通CCD的1/3左右,這有助于改善人們心目中數(shù)碼相機(jī)是"電老虎"的不良印象。CMOS主要問題是在處理快速變化的影像時(shí),由于電流變化過于頻繁而過熱。暗電流抑制得好就問題不大,如果抑制得不好就十分容易出現(xiàn)雜點(diǎn)。 此外,在計(jì)算機(jī)領(lǐng)域,CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor,本意是指互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體——一種大規(guī)模應(yīng)用于集成電路芯片制造的原料)是微機(jī)主板上的一塊可讀寫的RAM芯片,用來保存當(dāng)前系統(tǒng)的硬件配置和用戶對某些參數(shù)的設(shè)定。CMOS可由主板的電池供電,即使系統(tǒng)掉電,信息也不會丟失。CMOS RAM本身只是一塊存儲器,只有數(shù)據(jù)保存功能,而對CMOS中各項(xiàng)參數(shù)的設(shè)定要通過專門的程序。CMOS由PMOS管和NMOS管共同構(gòu)成,它的特點(diǎn)是低功耗。由于CMOS中一對MOS組成的門電路在瞬間要么PMOS導(dǎo)通、要么NMOS導(dǎo)通、要么都截至,比線性的三極管(BJT)效率要高得多,因此功耗很低
MOS器件分為NMOS和PMOS,而CMOS是指互補(bǔ)的MOS管組成的電路,也就是PMOS,NMOS組成,NMOS是指溝道在柵電壓控制下p型襯底反型變成n溝道,靠電子的流動 PMOS是指 n型 p溝道,靠空穴的流動 CMOS相比Bipolar,優(yōu)點(diǎn)就是其功耗低,集成度高等等。當(dāng)然Bipolar的驅(qū)動能力比CMOS強(qiáng) 目前BiCMOS工藝就是結(jié)合了CMOS和Bipolar的優(yōu)點(diǎn)
貌似不是數(shù)碼相機(jī)的問題 應(yīng)該是電子元?dú)饧?/section>
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6,線路板上的mos管是什么

mos管是金屬(metal)—氧化物(oxid)—半導(dǎo)體(semiconductor)場效應(yīng)晶體管,或者稱是金屬—絕緣體(insulator)—半導(dǎo)體。MOS管的source和drain是可以對調(diào)的,他們都是在P型backgate中形成的N型區(qū)。在多數(shù)情況下,這個(gè)兩個(gè)區(qū)是一樣的,即使兩端對調(diào)也不會影響器件的性能。這樣的器件被認(rèn)為是對稱的?! ‰p極型晶體管把輸入端電流的微小變化放大后,在輸出端輸出一個(gè)大的電流變化。雙極型晶體管的增益就定義為輸出輸入電流之比(beta)。另一種晶體管,叫做場效應(yīng)管(FET),把輸入電壓的變化轉(zhuǎn)化為輸出電流的變化。FET的增益等于它的transconductance, 定義為輸出電流的變化和輸入電壓變化之比。市面上常有的一般為N溝道和P溝道,詳情參考右側(cè)圖片(N溝道耗盡型MOS管)。而P溝道常見的為低壓Mos管。
防熱作用,避免點(diǎn)和點(diǎn)之間的熱,會引起燃燒
mos管是金屬(metal)—氧化物(oxid)—半導(dǎo)體(semiconductor)場效應(yīng)晶體管?;蛘叻Q是金屬—絕緣體(insulator)—半導(dǎo)體?! ?雙極型晶體管把輸入端電流的微小變化放大后,在輸出端輸出一個(gè)大的電流變化。雙極型晶體管的增益就定義為輸出輸入電流之比(beta)。另一種晶體管,叫做場效應(yīng)管(FET),把輸入電壓的變化轉(zhuǎn)化為輸出電流的變化。FET的增益等于它的transconductance, 定義為輸出電流的變化和輸入電壓變化之比?! 鲂?yīng)管的名字也來源于它的輸入端(稱為gate)通過投影一個(gè)電場在一個(gè)絕緣層上來影響流過晶體管的電流。事實(shí)上沒有電流流過這個(gè)絕緣體,所以FET管的GATE電流非常小。最普通的FET用一薄層二氧化硅來作為GATE極下的絕緣體。這種晶體管稱為金屬氧化物半導(dǎo)體(MOS)晶體管,或,金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)管(MOSFET)。因?yàn)镸OS管更小更省電,所以他們已經(jīng)在很多應(yīng)用場合取代了雙極型晶體管?! ∈紫瓤疾煲粋€(gè)更簡單的器件-MOS電容-能更好的理解MOS管。這個(gè)器件有兩個(gè)電極,一個(gè)是金屬,另一個(gè)是extrinsic silicon,他們之間由一薄層二氧化硅分隔開。金屬極就是GATE,而半導(dǎo)體端就是backgate或者body。他們之間的絕緣氧化層稱為gate dielectric。圖示中的器件有一個(gè)輕摻雜P型硅做成的backgate。這個(gè)MOS 電容的電特性能通過把backgate接地,gate接不同的電壓來說明。MOS電容的GATE電位是0V。金屬GATE和半導(dǎo)體BACKGATE在WORK FUNCTION上的差異在電介質(zhì)上產(chǎn)生了一個(gè)小電場。在器件中,這個(gè)電場使金屬極帶輕微的正電位,P型硅負(fù)電位。這個(gè)電場把硅中底層的電子吸引到表面來,它同時(shí)把空穴排斥出表面。這個(gè)電場太弱了,所以載流子濃度的變化非常小,對器件整體的特性影響也非常小。  當(dāng)MOS電容的GATE相對于BACKGATE正偏置時(shí)發(fā)生的情況。穿過GATE DIELECTRIC的電場加強(qiáng)了,有更多的電子從襯底被拉了上來。同時(shí),空穴被排斥出表面。隨著GATE電壓的升高,會出現(xiàn)表面的電子比空穴多的情況。由于過剩的電子,硅表層看上去就像N型硅。摻雜極性的反轉(zhuǎn)被稱為inversion,反轉(zhuǎn)的硅層叫做channel。隨著GATE電壓的持續(xù)不斷升高,越來越多的電子在表面積累,channel變成了強(qiáng)反轉(zhuǎn)。Channel形成時(shí)的電壓被稱為閾值電壓Vt。當(dāng)GATE和BACKGATE之間的電壓差小于閾值電壓時(shí),不會形成channel。當(dāng)電壓差超過閾值電壓時(shí),channel就出現(xiàn)了。  MOS電容:(A)未偏置(VBG=0V),(B)反轉(zhuǎn)(VBG=3V),(C)積累(VBG=-3V)?! ≈惺钱?dāng)MOS電容的GATE相對于backgate是負(fù)電壓時(shí)的情況。電場反轉(zhuǎn),往表面吸引空穴排斥電子。硅表層看上去更重的摻雜了,這個(gè)器件被認(rèn)為是處于accumulation狀態(tài)了?! OS電容的特性能被用來形成MOS管。Gate,電介質(zhì)和backgate保持原樣。在GATE的兩邊是兩個(gè)額外的選擇性摻雜的區(qū)域。其中一個(gè)稱為source,另一個(gè)稱為drain。假設(shè)source 和backgate都接地,drain接正電壓。只要GATE對BACKGATE的電壓仍舊小于閾值電壓,就不會形成channel。Drain和backgate之間的PN結(jié)反向偏置,所以只有很小的電流從drain流向backgate。如果GATE電壓超過了閾值電壓,在GATE電介質(zhì)下就出現(xiàn)了channel。這個(gè)channel就像一薄層短接drain和source的N型硅。由電子組成的電流從source通過channel流到drain??偟膩碚f,只有在gate 對source電壓V 超過閾值電壓Vt時(shí),才會有drain電流?! OS管的source和drain是可以對調(diào)的,他們都是在P型backgate中形成的N型區(qū)。在多數(shù)情況下,這個(gè)兩個(gè)區(qū)是一樣的,即使兩端對調(diào)也不會影響器件的性能。這樣的器件被認(rèn)為是對稱的。在對稱的MOS管中,對soure和drain的標(biāo)注有一點(diǎn)任意性。定義上,載流子流出source,流入drain。因此Source和drain的身份就靠器件的偏置來決定了。有時(shí)晶體管上的偏置電壓是不定的,兩個(gè)引線端就會互相對換角色。這種情況下,電路設(shè)計(jì)師必須指定一個(gè)是drain另一個(gè)是source?! ource和drain不同摻雜不同幾何形狀的就是非對稱MOS管。制造非對稱晶體管有很多理由,但所有的最終結(jié)果都是一樣的。一個(gè)引線端被優(yōu)化作為drain,另一個(gè)被優(yōu)化作為source。如果drain和source對調(diào),這個(gè)器件就不能正常工作了?! 【w管有N型channel所有它稱為N-channel MOS管,或NMOS。P-channel MOS(PMOS)管也存在,是一個(gè)由輕摻雜的N型BACKGATE和P型source和drain組成的PMOS管。如果這個(gè)晶體管的GATE相對于BACKGATE正向偏置,電子就被吸引到表面,空穴就被排斥出表面。硅的表面就積累,沒有channel形成。如果GATE相對于BACKGATE反向偏置,空穴被吸引到表面,channel形成了。因此PMOS管的閾值電壓是負(fù)值。由于NMOS管的閾值電壓是正的,PMOS的閾值電壓是負(fù)的,所以工程師們通常會去掉閾值電壓前面的符號。一個(gè)工程師可能說,“PMOS Vt從0.6V上升到0.7V”, 實(shí)際上PMOS的Vt是從-0.6V下降到-0.7V。
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