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掩模版，什么是光刻掩模板

來源：整理時間：2024-06-09 15:10:32 編輯：智能門戶手機(jī)版

本文目錄一覽

1，什么是光刻掩模板
2，光刻掩模板的正負(fù)面怎么判斷
3，啁啾在光纖通信中什么意思
4，光刻掩模板有什么功能
5，用于光纖光柵刻寫的均勻掩模版的定制
6，光刻中軟接觸硬接觸真空接觸分別是什么意思

1，什么是光刻掩模板

在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并精確定位，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結(jié)構(gòu)。

什么是光刻掩模板

2，光刻掩模板的正負(fù)面怎么判斷

正反面？負(fù)面就不是太清楚了。一般地如果有pellicle的話，pellicle朝下就對了; 如果沒有pellicle, 有圖線的在下面，光的一面在上面：）

光刻板的正負(fù)面區(qū)分很簡單，最簡單的就是到光學(xué)顯微鏡看一下，有圖形的就是正面，刻蝕的時候正面朝上O(∩_∩)O哈哈~再看看別人怎么說的。

光刻掩模板的正負(fù)面怎么判斷

3，啁啾在光纖通信中什么意思

光纖通信過程中，光脈沖頻率發(fā)生變化的過程

目前業(yè)內(nèi)制作啁啾光纖光柵一般使用相位掩模板法，其設(shè)計方法是：1、依照刻寫的光纖基材參數(shù)及所需光柵的中心波長，計算出相位掩模板的周期2、依照刻寫的光纖基材參數(shù)、所需光柵的帶寬、所需光柵柵區(qū)的尺寸，計算出相位板的啁啾率、長度3、訂購指定相位掩模板，然后使用jk-201a系列刻寫平臺刻寫

啁啾一詞原本形容鳥叫，回想鳥叫聲，鳥的一聲鳴叫，前后頻率是有變化的。在光纖中傳輸中光脈沖，脈沖從前沿到后沿頻率有變化就叫做啁啾。

啁啾在光纖通信中什么意思

4，光刻掩模板有什么功能

光刻掩膜板是一個在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形（電路）并精確定位，以便用于光（紫外，X-ray）致其抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結(jié)構(gòu)，也稱為光刻印刷版

在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并精確定位，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結(jié)構(gòu)，稱為光刻掩模版。半導(dǎo)體集成電路制作過程通常需要經(jīng)過多次光刻工藝，在半導(dǎo)體晶體表面的介質(zhì)層上開鑿各種摻雜窗口、電極接觸孔或在導(dǎo)電層上刻蝕金屬互連圖形。光刻工藝需要一整套（幾塊多至十幾塊）相互間能精確套準(zhǔn)的、具有特定幾何圖形的光復(fù)印掩蔽模版。

5，用于光纖光柵刻寫的均勻掩模版的定制

一種采樣光纖光柵的刻寫方法，該方法采用的裝置由紫外光源、全反射鏡、可控電動平移平臺、準(zhǔn)直聚焦柱透鏡、光柵相位掩膜板和光纖夾持拉伸系統(tǒng)組成，該刻寫方法的具體過程為:紫外光源產(chǎn)生的紫外光，經(jīng)全反射鏡反射后照射到準(zhǔn)直聚焦柱透鏡，經(jīng)透鏡聚焦到光柵相位掩膜板上。透射光通過相位掩模板后能夠產(chǎn)生±1級衍射，衍射光形成的干涉光對被刻寫光纖進(jìn)行曝光。刻寫過程中可控電動平移平臺帶動全反射鏡勻速平移引起曝光位置在被刻寫光纖上的勻速平移，光纖夾持拉伸系統(tǒng)可以保持被刻寫光纖伸直同時等時間間隔逐步手動拉伸被刻寫光纖，逐步改變光纖光柵周期達(dá)到對光纖光柵的反射波長進(jìn)行采樣的目的。

我是來看評論的

6，光刻中軟接觸硬接觸真空接觸分別是什么意思

1.膠?。↙ithography），又名柯式印刷，是廣泛使用的印刷技術(shù)，是先把上墨的圖像轉(zhuǎn)移到橡皮布上，然后再轉(zhuǎn)移到印刷材料表面的一種印刷方法。膠印是平版印刷的一種，也是基于水墨相斥的原理的，膠印技術(shù)可以避免印刷表面的水與油墨一起傳遞到印刷材料的表面上膠印的優(yōu)點如下：圖像質(zhì)量高——比凸版印刷更加清晰、明銳，因為橡皮布能夠與印刷材料表面的紋理很好地接觸。除了平滑的紙張外，還可以使用范圍廣泛的印刷材料，例如木頭、織物、金屬、皮革、較粗糙的紙張等。印版的制作快速、簡便。印版耐印率比直接平版印刷更高——因為印版和印刷表面之間沒有直接接觸。lithography是一種平板印刷技術(shù)，在平面光波回路的制作中一直發(fā)揮著重要的作用。具體過程如下：　　首先在二氧化硅為主要成分的芯層材料上面，淀積一層光刻膠；　　使用掩模版對光刻膠曝光固化，并在光刻膠層上形成固化的與掩模板完全對應(yīng)的幾何圖形；　　對光刻膠上圖形顯影，與掩模對應(yīng)的光刻膠圖形可以使芯層材料抵抗刻蝕過程；　　使用等離子交互技術(shù)，將二氧化硅刻蝕成與光刻膠圖形對應(yīng)的芯層形狀；　　光刻膠層剝離；　　最后在已經(jīng)形成的芯層圖形上面淀積上包層。　　使用lithography方法幾乎可以在芯層材料上形成各種幾何圖形，圖形的精細(xì)度取決于曝光系統(tǒng)的光源波長，現(xiàn)有UV、DUV、e-beam、x-ray、nano-imprint幾種曝光方式。2 .軟接觸（soft contact）Soft Contact輕觸（光化學(xué)、干膜、曝光及顯影）& Hard Contact 光阻膜于曝光時，須將底片緊密壓貼在干膜或已硬化之濕膜表面，稱為 Hard Contact。若改采平行光曝光設(shè)備時則可不必緊壓，稱為 Soft Contact。此“輕觸” 有別于高度平行光自動連線之非接觸(Off Contact)式駕空曝光。 4.真空接觸曬像（vacuum contact）一種在印制板曬制圖形時將曝光框抽真空，使底片與印制板在大氣壓下均勻地接觸，從而獲得清晰圖形的制圖方法。

接觸式曝光：掩膜板直接與光刻膠層接觸。曝光出來的圖形與掩膜板上的圖形分辨率相當(dāng)，設(shè)備簡單。接觸式，根據(jù)施加力量的方式不同又分為：軟接觸，硬接觸和真空接觸：　　1.軟接觸就是把基片通過托盤吸附?。愃朴趧蚰z機(jī)的基片放置方式），掩膜蓋在基片上面；　　2.硬接觸是將基片通過一個氣壓（氮氣），往上頂，使之與掩膜接觸；　　3.真空接觸是在掩膜和基片中間抽氣，使之更加好的貼合接觸的越緊密（軟<硬<真空），分辨率越高，當(dāng)然接觸的越緊密，掩膜和材料的損傷就越大。