包括晶圓切割機、晶圓拋光機、蝕刻掩模對準(zhǔn)器、離子注入機、光刻膠清洗機、封裝掩模對準(zhǔn)器、測試設(shè)備等。2.激光器:即光源，光刻機中的核心設(shè)備之一，光刻機按照操作的簡單程度一般分為三種:手動、半自動和全自動，MaskAligner:掩模版對準(zhǔn)器，又稱掩模版對準(zhǔn)曝光機、曝光系統(tǒng)、光刻系統(tǒng)，是制造芯片的核心設(shè)備。

由于中興被美國商務(wù)部封殺，這種只有業(yè)內(nèi)人士知道的高端設(shè)備也被大眾所熟知。這是光刻機，是芯片生產(chǎn)中最關(guān)鍵的設(shè)備之一。最高端的光刻機可以賣到1億美元，你要排隊買，就算下了訂單，也要21個月后才能拿到。世界上最高端的光刻機來自荷蘭ASML，它的中文名字叫ASML。全球頂級光刻機制造商目前占據(jù)全球最高端高端光刻機90%以上的市場份額，這意味著Asml處于絕對壟斷地位。

該公司的經(jīng)營策略有兩個特點:一是全球采購，確保能夠獲得最先進(jìn)的元器件，二是優(yōu)先向投資者供貨，因此IBM、TSMC、三星、英特爾都持有該公司股份，既保證了ASML充足的研發(fā)資金，又控制了高端產(chǎn)品的市場銷售。ASML最新產(chǎn)品EUV，即極紫外光刻機，預(yù)計2019年供應(yīng)SMIC。這套設(shè)備是世界上最高端的，也是唯一能生產(chǎn)10納米以下芯片的光刻機，對IC產(chǎn)業(yè)的發(fā)展影響很大。

不止一個。包括晶圓切割機、晶圓拋光機、蝕刻掩模對準(zhǔn)器、離子注入機、光刻膠清洗機、封裝掩模對準(zhǔn)器、測試設(shè)備等。制作芯片的機器主要有以下幾種:光刻機:光刻機是制作芯片最關(guān)鍵的設(shè)備之一。它使用光刻技術(shù)將芯片設(shè)計圖案轉(zhuǎn)移到硅片上。離子注入機:離子注入機是一種將摻雜原子注入硅片的設(shè)備。通過摻雜，可以改變硅片的電學(xué)性質(zhì)，控制和調(diào)節(jié)電路。

mask aligner制造cpu，這個很重要。中國制造的光刻機只能雕刻到28nm，而世界上最好的光刻機是荷蘭制造的，可以雕刻到10nm，然后就是日本的。不幸的是，荷蘭禁止向中國出口光刻機。掩模對準(zhǔn)器通常用于芯片的生產(chǎn)。用于生產(chǎn)芯片的光刻機，是中國制造半導(dǎo)體設(shè)備的最大短板。國內(nèi)晶圓廠需要的高端光刻機完全依賴進(jìn)口。廈門企業(yè)此次從荷蘭進(jìn)口的光刻機是用于生產(chǎn)芯片的設(shè)備。

smee掩模對準(zhǔn)器22納米。光刻機又稱掩模對準(zhǔn)曝光機、曝光系統(tǒng)和光刻系統(tǒng)，是制造芯片的核心設(shè)備。它使用類似于照片印刷的技術(shù)，通過曝光將掩模上的精細(xì)圖案印刷到硅片上。2018年11月29日，國家重大科研裝備研制項目“超分辨率光刻裝備研制”通過驗收。該光刻機由中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所研制，光刻分辨率達(dá)到22 nm。

手動是指對準(zhǔn)的調(diào)整方式，通過手動調(diào)整旋鈕改變其X軸、Y軸和thita角度來完成對準(zhǔn)，對準(zhǔn)精度不高。半自動是指對準(zhǔn)可以通過電軸根據(jù)CCD進(jìn)行定位和調(diào)諧；自動是指從基板上傳下載，曝光時長和周期由程序控制。自動光刻機主要滿足工廠對加工能力的需求。光刻機性能指標(biāo)光刻機的主要性能指標(biāo)包括支撐襯底的尺寸范圍、分辨率、對準(zhǔn)精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產(chǎn)效率等。