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光刻膠，光刻膠是什么東西

來(lái)源：整理 時(shí)間：2025-03-17 18:53:28 編輯：智能門(mén)戶 手機(jī)版

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1，光刻膠是什么東西

光刻膠又稱(chēng)光致抗蝕劑，是指通過(guò)紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。 光刻膠按其形成的圖像分類(lèi)有正性、負(fù)性?xún)纱箢?lèi)。在光刻膠工藝過(guò)程中，涂層曝光、顯影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下來(lái)，該涂層材料為正性光刻膠。如果曝光部分被保留下來(lái)，而未曝光被溶解，該涂層材料為負(fù)性光刻膠。按曝光光源和輻射源的不同，又分為紫外光刻膠（包括紫外正、負(fù)性光刻膠）、深紫外光刻膠、X-射線膠、電子束膠、離子束膠等。光刻膠主要應(yīng)用于顯示面板、集成電路和半導(dǎo)體分立器件等細(xì)微圖形加工作業(yè)。光刻膠生產(chǎn)技術(shù)較為復(fù)雜，品種規(guī)格較多，在電子工業(yè)集成電路的制造中，對(duì)所使用光刻膠有嚴(yán)格的要求。

光刻膠是什么東西

2，光刻膠就是ito導(dǎo)電膜嗎那么沐里沐又是什么起什么作用呢

光刻膠是光刻膠，ITO是ITO，兩回事。光刻膠（Photo resist，PR）是應(yīng)用在光刻工藝中的，具備感光性，ITO（氧化銦錫）是電極材料，一般是在鍍膜工藝中沉積上去的。沐里沐是鉬鋁鉬，是金屬電極的膜層材料。在TFT制造中，鉬鋁鉬只是柵極源極最常見(jiàn)的材料而已，而柵極和源極是必要的。作為膜層材料，鍍膜肯定是一整層的，不過(guò)經(jīng)過(guò)光刻和刻蝕工藝后，最終剩下的就是我們想要的圖案了。
光刻膠是光刻膠，ITO是ITO，兩回事。光刻膠（Photo resist，PR）是應(yīng)用在光刻工藝中的，具備感光性，ITO（氧化銦錫）是電極材料，一般是在鍍膜工藝中沉積上去的。沐里沐是啥沒(méi)聽(tīng)說(shuō)過(guò)，我估計(jì)你說(shuō)的是鉬鋁鉬吧？。。。。。。是金屬電極的膜層材料~再看看別人怎么說(shuō)的。

光刻膠就是ito導(dǎo)電膜嗎那么沐里沐又是什么起什么作用呢

3，光刻膠加熱對(duì)圖形有什么影響

光刻膠里有大量的溶劑，加熱后，溶劑揮發(fā)，光刻膠收縮，不過(guò)顯影前與顯影后的加熱，圖案變化是不同的。顯影前，圖形還沒(méi)有轉(zhuǎn)移上去，無(wú)所謂圖案變化。先影后加熱，要分2種情況，1，圖案主要是LINE, 加熱后，LINE 變細(xì)變矮；圖案主要是孔洞的話，變化就不大，當(dāng)然，加熱過(guò)度的話，也會(huì)產(chǎn)生變化。
光刻膠的濃度對(duì)于附著力有什么影響雖然顯影液中基本不含銀，但也與定影液一樣含有高濃度有機(jī)污染物和對(duì)人體有危害的重金屬，如硫酸、硝酸及苯、甲醇、鹵化銀等硼酸、對(duì)苯二酚；漂白液和定影液中含有多種溴化物顯影劑cd2、cd3、cd4等有害成分。其中，苯胺類(lèi)的衍生物二甲基甲苯胺是中等毒性化合物，經(jīng)皮膚、消化道進(jìn)入人體，或吸入它的蒸氣，會(huì)使人產(chǎn)生頭疼、眩暈、藍(lán)嘴唇或藍(lán)指甲、藍(lán)皮膚、氣促虛弱等病狀，還可能對(duì)血液中高鐵血紅蛋白發(fā)生作用，導(dǎo)致腦損害和腎障礙，高濃度接觸可能導(dǎo)致死亡。定影液中含有的銀離子是強(qiáng)效殺菌劑，廢水中含銀過(guò)高會(huì)影響廢水處理廠生物處理的效果。此外，兩種廢液中所含的高濃度有機(jī)污染物，超過(guò)國(guó)家規(guī)定排放標(biāo)準(zhǔn)的300--1000倍。

光刻膠加熱對(duì)圖形有什么影響

4，x射線光刻的光刻膠是甚么

光刻膠英文是PhotoResist，又稱(chēng)光致抗蝕劑，由感光樹(shù)脂、增感劑（見(jiàn)光譜增感染料）和溶劑3種主要成份組成的對(duì)光敏感的混合液體。感光樹(shù)脂經(jīng)光照后，在暴光區(qū)能很快地產(chǎn)生光固化反應(yīng)，使得這類(lèi)材料的物理性能，特別是溶解性、親合性等產(chǎn)生明顯變化。經(jīng)適當(dāng)?shù)娜軇┨幚?，溶去可溶性部份，得到所需圖象（見(jiàn)圖）。 光刻膠廣泛用于印刷電路和集成電路的制造和印刷制版等進(jìn)程。光刻膠的技術(shù)復(fù)雜，品種較多。根據(jù)其化學(xué)反應(yīng)機(jī)理和顯影原理，可分負(fù)性膠和正性膠兩類(lèi)。光照后構(gòu)成不可溶物資的是負(fù)性膠；反之，對(duì)某些溶劑是不可溶的，經(jīng)光照后變成可溶物資的即為正性膠。利用這類(lèi)性能，將光刻膠作涂層，就可以在硅片表面刻蝕所需的電路圖形。基于感光樹(shù)脂的化學(xué)結(jié)構(gòu)，光刻膠可以分為3種類(lèi)型。①光聚合型，采取烯類(lèi)單體，在光作用下生成自由基，自由基再進(jìn)1步引發(fā)單體聚合，最后生成聚合物，具有構(gòu)成正像的特點(diǎn)。②光分解型，采取含有疊氮醌類(lèi)化合物的材料，經(jīng)光照后,會(huì)產(chǎn)生光分解反應(yīng),由油溶性變成水溶性，可以制成正性膠。③光交聯(lián)型，采取聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料,在光的作用下,其份子中的雙鍵被打開(kāi)，并使鏈與鏈之間產(chǎn)生交聯(lián)，構(gòu)成1種不溶性的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，而起到抗蝕作用，這是1種典型的負(fù)性光刻膠?？逻_(dá)公司的產(chǎn)品KPR膠即屬此類(lèi)。 感光樹(shù)脂在用近紫外光輻照成像時(shí)，光的波長(zhǎng)會(huì)限制分辨率（見(jiàn)感光材料）的提高。為進(jìn)1步提高分辨率以滿足超大范圍集成電路工藝的要求，必須采取波長(zhǎng)更短的輻射作為光源。由此產(chǎn)生電子束、X射線和深紫外(＜250nm)刻蝕技術(shù)和相應(yīng)的電子束刻蝕膠，X射線刻蝕膠和深紫外線刻蝕膠，所刻蝕的線條可細(xì)至1μm以下。

5，光刻膠是一種應(yīng)用廣泛的光敏材料其合成路線如下部分試劑和產(chǎn)物

（1）醛基（2）CH 3 COOH CH 3 COO - +H +（3）a b c（選對(duì)兩個(gè)給1分，錯(cuò)選或多選為0分）（4）（5）CH 3 COOCH=CH 2（6） 、（7） 一定條件 （此方程式不寫(xiě)條件不扣分） 試題分析：根據(jù)D，可以反推出A為 ，B為 ，C為 ，羧酸X為CH 3 COOH，E為 ，F(xiàn)為 ；（1） 分子中含氧官能團(tuán)名稱(chēng)為醛基（2）羧酸CH 3 COOH的電離方程式為CH 3 COOH CH 3 COO - +H +（3） 含有碳碳雙鍵，羧基，苯環(huán)，可發(fā)生的反應(yīng)類(lèi)型為加聚反應(yīng)，酯化反應(yīng)，還原反應(yīng)，不能發(fā)生縮聚反應(yīng)。（4） 與Ag(NH 3 ) 2 OH反應(yīng)的化學(xué)方程式為 +（5）E的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)式為CH 3 COOCH=CH 2 。（6）與 具有相同官能團(tuán)且含有苯環(huán)的同分異構(gòu)體有4種，其結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)式分別為 、 、 、 。（7）D和G反應(yīng)生成光刻膠的化學(xué)方程式為 一定條件 。 考點(diǎn)：
（1）醛基（2）CH3COOHCH3COO-+H+（3）a b c（選對(duì)兩個(gè)給1分，錯(cuò)選或多選為0分）（4）（5）CH3COOCH=CH2（6）、（7）一定條件（此方程式不寫(xiě)條件不扣分）試題分析：根據(jù)D，可以反推出A為，B為，C為，羧酸X為CH3COOH，E為，F(xiàn)為；（1）分子中含氧官能團(tuán)名稱(chēng)為醛基（2）羧酸CH3COOH的電離方程式為CH3COOHCH3COO-+H+（3）含有碳碳雙鍵，羧基，苯環(huán)，可發(fā)生的反應(yīng)類(lèi)型為加聚反應(yīng)，酯化反應(yīng)，還原反應(yīng)，不能發(fā)生縮聚反應(yīng)。（4）與Ag(NH3)2OH反應(yīng)的化學(xué)方程式為+（5）E的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)式為CH3COOCH=CH2。（6）與具有相同官能團(tuán)且含有苯環(huán)的同分異構(gòu)體有4種，其結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)式分別為、、、。（7）D和G反應(yīng)生成光刻膠的化學(xué)方程式為一定條件
假定你是李華，王平約你本周日一同參加同學(xué)黎明的十八歲生日聚會(huì)，但你有以下幾件事情不明白，輕用英語(yǔ)寫(xiě)給王平一封電子郵件進(jìn)行詢(xún)問(wèn)。1. 地點(diǎn)及開(kāi)始時(shí)間；2. 交通方式；3. 準(zhǔn)備禮物；4. 安排及結(jié)束時(shí)間。注意：1. 詞數(shù)：100左右（已給出的開(kāi)頭和結(jié)尾不計(jì)入總詞數(shù)）；什么時(shí)間結(jié)束

6，光刻膠光刻膠的概念是什么

光刻膠 photoresist 又稱(chēng)光致抗蝕劑，由感光樹(shù)脂、增感劑（見(jiàn)光譜增 感染料）和溶劑三種主要成分組成的對(duì)光敏感的混合液 體。感光樹(shù)脂經(jīng)光照后，在曝光區(qū)能很快地發(fā)生光固化 反應(yīng)，使得這種材料的物理性能，特別是溶解性、親合 性等發(fā)生明顯變化。經(jīng)適當(dāng)?shù)娜軇┨幚?，溶去可溶性? 分，得到所需圖像（見(jiàn)圖光致抗蝕劑成像制版過(guò)程）。 光刻膠廣泛用于印刷電路和集成電路的制造以及印刷制 版等過(guò)程。光刻膠的技術(shù)復(fù)雜，品種較多。根據(jù)其化學(xué) 反應(yīng)機(jī)理和顯影原理，可分負(fù)性膠和正性膠兩類(lèi)。光照 后形成不可溶物質(zhì)的是負(fù)性膠；反之，對(duì)某些溶劑是不 可溶的，經(jīng)光照后變成可溶物質(zhì)的即為正性膠。利用這 種性能，將光刻膠作涂層，就能在硅片表面刻蝕所需的 電路圖形?；诟泄鈽?shù)脂的化學(xué)結(jié)構(gòu)，光刻膠可以分為 三種類(lèi)型。①光聚合型，采用烯類(lèi)單體，在光作用下生 成自由基，自由基再進(jìn)一步引發(fā)單體聚合，最后生成聚 合物，具有形成正像的特點(diǎn)。②光分解型，采用含有疊 氮醌類(lèi)化合物的材料，經(jīng)光照后,會(huì)發(fā)生光分解反應(yīng),由 油溶性變?yōu)樗苄裕梢灾瞥烧阅z。③光交聯(lián)型，采 用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料,在光的作用下,其 分子中的雙鍵被打開(kāi)，并使鏈與鏈之間發(fā)生交聯(lián)，形成 一種不溶性的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，而起到抗蝕作用，這是一種典 型的負(fù)性光刻膠?？逻_(dá)公司的產(chǎn)品KPR膠即屬此類(lèi)。 感光樹(shù)脂在用近紫外光輻照成像時(shí)，光的波長(zhǎng)會(huì)限 制分辨率（見(jiàn)感光材料）的提高。為進(jìn)一步提高分辨率 以滿足超大規(guī)模集成電路工藝的要求，必須采用波長(zhǎng)更 短的輻射作為光源。由此產(chǎn)生電子束、X 射線和深紫外 (＜250nm)刻蝕技術(shù)和相應(yīng)的電子束刻蝕膠，X射線刻蝕 膠和深紫外線刻蝕膠，所刻蝕的線條可細(xì)至1□m以下。 http://www.adsonbbs.com/baike_detail.asp?id=68 光刻膠在接受一定波長(zhǎng)的光或者射線時(shí),會(huì)相應(yīng)的發(fā)生一種光化學(xué)反應(yīng)或者激勵(lì)作用。光化學(xué)反應(yīng)中的光吸收是在化學(xué)鍵合中起作用的處于原子最外層的電子由基態(tài)轉(zhuǎn)入激勵(lì)態(tài)時(shí)引起的。對(duì)于有機(jī)物，基態(tài)與激勵(lì)態(tài)的能量差為3~6eV，相當(dāng)于該能量差的光(即波長(zhǎng)為0.2~0.4μm的光)被有機(jī)物強(qiáng)烈吸收，使在化學(xué)鍵合中起作用的電子轉(zhuǎn)入激勵(lì)態(tài)。化學(xué)鍵合在受到這種激勵(lì)時(shí)，或者分離或者改變鍵合對(duì)象，發(fā)生化學(xué)變化。電子束、X射線及離子束(即被加速的粒子)注入物質(zhì)后，因與物質(zhì)具有的電子相互作用，能量逐漸消失。電子束失去的能量轉(zhuǎn)移到物質(zhì)的電子中，因此生成激勵(lì)狀態(tài)的電子或二次電子或離子。這些電子或離子均可誘發(fā)光刻膠的化學(xué)反應(yīng)。
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