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光刻膠,光刻膠是什么東西

來源:整理 時間:2025-03-17 18:53:28 編輯:智能門戶 手機(jī)版

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1,光刻膠是什么東西

光刻膠又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。 光刻膠按其形成的圖像分類有正性、負(fù)性兩大類。在光刻膠工藝過程中,涂層曝光、顯影后,曝光部分被溶解,未曝光部分留下來,該涂層材料為正性光刻膠。如果曝光部分被保留下來,而未曝光被溶解,該涂層材料為負(fù)性光刻膠。按曝光光源和輻射源的不同,又分為紫外光刻膠(包括紫外正、負(fù)性光刻膠)、深紫外光刻膠、X-射線膠、電子束膠、離子束膠等。光刻膠主要應(yīng)用于顯示面板、集成電路和半導(dǎo)體分立器件等細(xì)微圖形加工作業(yè)。光刻膠生產(chǎn)技術(shù)較為復(fù)雜,品種規(guī)格較多,在電子工業(yè)集成電路的制造中,對所使用光刻膠有嚴(yán)格的要求。

光刻膠是什么東西

2,光刻膠就是ito導(dǎo)電膜嗎那么沐里沐又是什么起什么作用呢

光刻膠是光刻膠,ITO是ITO,兩回事。光刻膠(Photo resist,PR)是應(yīng)用在光刻工藝中的,具備感光性,ITO(氧化銦錫)是電極材料,一般是在鍍膜工藝中沉積上去的。沐里沐是鉬鋁鉬,是金屬電極的膜層材料。在TFT制造中,鉬鋁鉬只是柵極源極最常見的材料而已,而柵極和源極是必要的。作為膜層材料,鍍膜肯定是一整層的,不過經(jīng)過光刻和刻蝕工藝后,最終剩下的就是我們想要的圖案了。
光刻膠是光刻膠,ITO是ITO,兩回事。光刻膠(Photo resist,PR)是應(yīng)用在光刻工藝中的,具備感光性,ITO(氧化銦錫)是電極材料,一般是在鍍膜工藝中沉積上去的。沐里沐是啥沒聽說過,我估計你說的是鉬鋁鉬吧?。。。。。。是金屬電極的膜層材料~再看看別人怎么說的。

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3,光刻膠加熱對圖形有什么影響

光刻膠里有大量的溶劑,加熱后,溶劑揮發(fā),光刻膠收縮,不過顯影前與顯影后的加熱,圖案變化是不同的。顯影前,圖形還沒有轉(zhuǎn)移上去,無所謂圖案變化。先影后加熱,要分2種情況,1,圖案主要是LINE, 加熱后,LINE 變細(xì)變矮;圖案主要是孔洞的話,變化就不大,當(dāng)然,加熱過度的話,也會產(chǎn)生變化。
光刻膠的濃度對于附著力有什么影響雖然顯影液中基本不含銀,但也與定影液一樣含有高濃度有機(jī)污染物和對人體有危害的重金屬,如硫酸、硝酸及苯、甲醇、鹵化銀等硼酸、對苯二酚;漂白液和定影液中含有多種溴化物顯影劑cd2、cd3、cd4等有害成分。其中,苯胺類的衍生物二甲基甲苯胺是中等毒性化合物,經(jīng)皮膚、消化道進(jìn)入人體,或吸入它的蒸氣,會使人產(chǎn)生頭疼、眩暈、藍(lán)嘴唇或藍(lán)指甲、藍(lán)皮膚、氣促虛弱等病狀,還可能對血液中高鐵血紅蛋白發(fā)生作用,導(dǎo)致腦損害和腎障礙,高濃度接觸可能導(dǎo)致死亡。定影液中含有的銀離子是強(qiáng)效殺菌劑,廢水中含銀過高會影響廢水處理廠生物處理的效果。此外,兩種廢液中所含的高濃度有機(jī)污染物,超過國家規(guī)定排放標(biāo)準(zhǔn)的300--1000倍。

光刻膠加熱對圖形有什么影響

4,x射線光刻的光刻膠是甚么

光刻膠英文是PhotoResist,又稱光致抗蝕劑,由感光樹脂、增感劑(見光譜增感染料)和溶劑3種主要成份組成的對光敏感的混合液體。感光樹脂經(jīng)光照后,在暴光區(qū)能很快地產(chǎn)生光固化反應(yīng),使得這類材料的物理性能,特別是溶解性、親合性等產(chǎn)生明顯變化。經(jīng)適當(dāng)?shù)娜軇┨幚恚苋タ扇苄圆糠?,得到所需圖象(見圖)。 光刻膠廣泛用于印刷電路和集成電路的制造和印刷制版等進(jìn)程。光刻膠的技術(shù)復(fù)雜,品種較多。根據(jù)其化學(xué)反應(yīng)機(jī)理和顯影原理,可分負(fù)性膠和正性膠兩類。光照后構(gòu)成不可溶物資的是負(fù)性膠;反之,對某些溶劑是不可溶的,經(jīng)光照后變成可溶物資的即為正性膠。利用這類性能,將光刻膠作涂層,就可以在硅片表面刻蝕所需的電路圖形。基于感光樹脂的化學(xué)結(jié)構(gòu),光刻膠可以分為3種類型。①光聚合型,采取烯類單體,在光作用下生成自由基,自由基再進(jìn)1步引發(fā)單體聚合,最后生成聚合物,具有構(gòu)成正像的特點。②光分解型,采取含有疊氮醌類化合物的材料,經(jīng)光照后,會產(chǎn)生光分解反應(yīng),由油溶性變成水溶性,可以制成正性膠。③光交聯(lián)型,采取聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料,在光的作用下,其份子中的雙鍵被打開,并使鏈與鏈之間產(chǎn)生交聯(lián),構(gòu)成1種不溶性的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),而起到抗蝕作用,這是1種典型的負(fù)性光刻膠??逻_(dá)公司的產(chǎn)品KPR膠即屬此類。 感光樹脂在用近紫外光輻照成像時,光的波長會限制分辨率(見感光材料)的提高。為進(jìn)1步提高分辨率以滿足超大范圍集成電路工藝的要求,必須采取波長更短的輻射作為光源。由此產(chǎn)生電子束、X射線和深紫外(<250nm)刻蝕技術(shù)和相應(yīng)的電子束刻蝕膠,X射線刻蝕膠和深紫外線刻蝕膠,所刻蝕的線條可細(xì)至1μm以下。

5,光刻膠是一種應(yīng)用廣泛的光敏材料其合成路線如下部分試劑和產(chǎn)物

(1)醛基(2)CH 3 COOH CH 3 COO - +H +(3)a b c(選對兩個給1分,錯選或多選為0分)(4)(5)CH 3 COOCH=CH 2(6) 、(7) 一定條件 (此方程式不寫條件不扣分) 試題分析:根據(jù)D,可以反推出A為 ,B為 ,C為 ,羧酸X為CH 3 COOH,E為 ,F(xiàn)為 ;(1) 分子中含氧官能團(tuán)名稱為醛基(2)羧酸CH 3 COOH的電離方程式為CH 3 COOH CH 3 COO - +H +(3) 含有碳碳雙鍵,羧基,苯環(huán),可發(fā)生的反應(yīng)類型為加聚反應(yīng),酯化反應(yīng),還原反應(yīng),不能發(fā)生縮聚反應(yīng)。(4) 與Ag(NH 3 ) 2 OH反應(yīng)的化學(xué)方程式為 +(5)E的結(jié)構(gòu)簡式為CH 3 COOCH=CH 2 。(6)與 具有相同官能團(tuán)且含有苯環(huán)的同分異構(gòu)體有4種,其結(jié)構(gòu)簡式分別為 、 、 、 。(7)D和G反應(yīng)生成光刻膠的化學(xué)方程式為 一定條件 。 考點:
(1)醛基(2)CH3COOHCH3COO-+H+(3)a b c(選對兩個給1分,錯選或多選為0分)(4)(5)CH3COOCH=CH2(6)、(7)一定條件(此方程式不寫條件不扣分)試題分析:根據(jù)D,可以反推出A為,B為,C為,羧酸X為CH3COOH,E為,F(xiàn)為;(1)分子中含氧官能團(tuán)名稱為醛基(2)羧酸CH3COOH的電離方程式為CH3COOHCH3COO-+H+(3)含有碳碳雙鍵,羧基,苯環(huán),可發(fā)生的反應(yīng)類型為加聚反應(yīng),酯化反應(yīng),還原反應(yīng),不能發(fā)生縮聚反應(yīng)。(4)與Ag(NH3)2OH反應(yīng)的化學(xué)方程式為+(5)E的結(jié)構(gòu)簡式為CH3COOCH=CH2。(6)與具有相同官能團(tuán)且含有苯環(huán)的同分異構(gòu)體有4種,其結(jié)構(gòu)簡式分別為、、、。(7)D和G反應(yīng)生成光刻膠的化學(xué)方程式為一定條件
假定你是李華,王平約你本周日一同參加同學(xué)黎明的十八歲生日聚會,但你有以下幾件事情不明白,輕用英語寫給王平一封電子郵件進(jìn)行詢問。1. 地點及開始時間;2. 交通方式;3. 準(zhǔn)備禮物;4. 安排及結(jié)束時間。注意:1. 詞數(shù):100左右(已給出的開頭和結(jié)尾不計入總詞數(shù));什么時間結(jié)束

6,光刻膠光刻膠的概念是什么

光刻膠 photoresist 又稱光致抗蝕劑,由感光樹脂、增感劑(見光譜增 感染料)和溶劑三種主要成分組成的對光敏感的混合液 體。感光樹脂經(jīng)光照后,在曝光區(qū)能很快地發(fā)生光固化 反應(yīng),使得這種材料的物理性能,特別是溶解性、親合 性等發(fā)生明顯變化。經(jīng)適當(dāng)?shù)娜軇┨幚?,溶去可溶性? 分,得到所需圖像(見圖光致抗蝕劑成像制版過程)。 光刻膠廣泛用于印刷電路和集成電路的制造以及印刷制 版等過程。光刻膠的技術(shù)復(fù)雜,品種較多。根據(jù)其化學(xué) 反應(yīng)機(jī)理和顯影原理,可分負(fù)性膠和正性膠兩類。光照 后形成不可溶物質(zhì)的是負(fù)性膠;反之,對某些溶劑是不 可溶的,經(jīng)光照后變成可溶物質(zhì)的即為正性膠。利用這 種性能,將光刻膠作涂層,就能在硅片表面刻蝕所需的 電路圖形?;诟泄鈽渲幕瘜W(xué)結(jié)構(gòu),光刻膠可以分為 三種類型。①光聚合型,采用烯類單體,在光作用下生 成自由基,自由基再進(jìn)一步引發(fā)單體聚合,最后生成聚 合物,具有形成正像的特點。②光分解型,采用含有疊 氮醌類化合物的材料,經(jīng)光照后,會發(fā)生光分解反應(yīng),由 油溶性變?yōu)樗苄裕梢灾瞥烧阅z。③光交聯(lián)型,采 用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料,在光的作用下,其 分子中的雙鍵被打開,并使鏈與鏈之間發(fā)生交聯(lián),形成 一種不溶性的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),而起到抗蝕作用,這是一種典 型的負(fù)性光刻膠??逻_(dá)公司的產(chǎn)品KPR膠即屬此類。 感光樹脂在用近紫外光輻照成像時,光的波長會限 制分辨率(見感光材料)的提高。為進(jìn)一步提高分辨率 以滿足超大規(guī)模集成電路工藝的要求,必須采用波長更 短的輻射作為光源。由此產(chǎn)生電子束、X 射線和深紫外 (<250nm)刻蝕技術(shù)和相應(yīng)的電子束刻蝕膠,X射線刻蝕 膠和深紫外線刻蝕膠,所刻蝕的線條可細(xì)至1□m以下。 http://www.adsonbbs.com/baike_detail.asp?id=68 光刻膠在接受一定波長的光或者射線時,會相應(yīng)的發(fā)生一種光化學(xué)反應(yīng)或者激勵作用。光化學(xué)反應(yīng)中的光吸收是在化學(xué)鍵合中起作用的處于原子最外層的電子由基態(tài)轉(zhuǎn)入激勵態(tài)時引起的。對于有機(jī)物,基態(tài)與激勵態(tài)的能量差為3~6eV,相當(dāng)于該能量差的光(即波長為0.2~0.4μm的光)被有機(jī)物強(qiáng)烈吸收,使在化學(xué)鍵合中起作用的電子轉(zhuǎn)入激勵態(tài)?;瘜W(xué)鍵合在受到這種激勵時,或者分離或者改變鍵合對象,發(fā)生化學(xué)變化。電子束、X射線及離子束(即被加速的粒子)注入物質(zhì)后,因與物質(zhì)具有的電子相互作用,能量逐漸消失。電子束失去的能量轉(zhuǎn)移到物質(zhì)的電子中,因此生成激勵狀態(tài)的電子或二次電子或離子。這些電子或離子均可誘發(fā)光刻膠的化學(xué)反應(yīng)。
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