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1，邁向7nm工藝與3D IC有多難
2，武漢弘芯7nm光刻機是真的嗎
3，為什么說7nm工藝對半導(dǎo)體來說是個大挑戰(zhàn)
4，7nm光刻機有多厲害
5，最先進入7nm級別的手機芯片是哪個
6，有了荷蘭光刻機中國就能造出7nm芯片問題沒這么簡單
7，天璣720相當(dāng)于驍龍多少
8，中國首臺7納米光刻機
9，華為榮耀x1怎么樣
10，光刻機中國能造嗎

1，邁向7nm工藝與3D IC有多難

硅晶片的制造極限是0.5nm，這是幾乎無法達到的。因為從微觀原子角度來說，0.5nm就只是一個硅原子了。7nm就是14個硅原子組成一個結(jié)構(gòu)，技術(shù)角度來說，現(xiàn)在的光刻技術(shù)還無法達到。或無法大規(guī)模使用如此精細(xì)的制造工藝。

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邁向7nm工藝與3D IC有多難

2，武漢弘芯7nm光刻機是真的嗎

7nm只是一種工藝的代號，它和光刻機本身是不掛鉤的。按照一般人的理解7nm光刻機就是指能制作7nm工藝的光刻機，這個命名方式乍看起來很合理，實際上漏洞百出。舉個例子，在中芯國際財報中，公司透露了會將部分生產(chǎn)28納米芯片的設(shè)備轉(zhuǎn)用于生產(chǎn)其它制程產(chǎn)品。假設(shè)中芯國際用于生產(chǎn)28納米芯片的光刻機將來用于生產(chǎn)45納米芯片，那么這臺光刻機原來應(yīng)該叫“28nm”光刻機，就因為它生產(chǎn)了45nm芯片。在官網(wǎng)的項目時程中，武漢弘芯14納米工藝大概會在2020年下半年開始測試流片，其7納米工藝在2020年開始研發(fā)。而中芯國際在2019年時，其14納米工藝已經(jīng)實現(xiàn)量產(chǎn)。

武漢弘芯7nm光刻機是真的嗎

3，為什么說7nm工藝對半導(dǎo)體來說是個大挑戰(zhàn)

尺寸縮小，相應(yīng)光刻的工藝就要提升，比如曝光機用光源就要換成電子束或者波長更短的射線來保證不會產(chǎn)生干涉、衍射現(xiàn)象對圖形的影響。而且當(dāng)尺寸縮小到一定程度時，更小的尺寸只會出現(xiàn)在實驗室里，而不具有商業(yè)價值了。因為尺寸縮小帶來的集成度的提高所產(chǎn)生的收益已經(jīng)不足以抵消提高工藝所需的成本了。除非是特殊需要，比如軍用要求高速高可靠不計成本，一般的企業(yè)是不會去研究深納米工藝的。

7納米制程節(jié)點將是半導(dǎo)體廠推進摩爾定律（moores law）的下一重要關(guān)卡。半導(dǎo)體進入7納米節(jié)點后，前段與后段制程皆將面臨更嚴(yán)峻的挑戰(zhàn)，半導(dǎo)體廠已加緊研發(fā)新的元件設(shè)計架構(gòu)，以及金屬導(dǎo)線等材料，期兼顧尺寸、功耗及運算效能表現(xiàn)。

為什么說7nm工藝對半導(dǎo)體來說是個大挑戰(zhàn)

4，7nm光刻機有多厲害

　　隨著半導(dǎo)體技術(shù)不斷進步，7納米(nm)制程迅速發(fā)展。而7nm光刻機作為半導(dǎo)體生產(chǎn)線的重要設(shè)備之一，也隨之得到了極大的關(guān)注。　　1.更高的精度　　7nm光刻機與前幾代光刻機相比，具有更高的分辨率和更精細(xì)的曝光技術(shù)。它能夠在極小的面積內(nèi)進行微細(xì)模式的制造，從而在芯片上實現(xiàn)更高的集成度和更低的功耗。這是其他制造工藝無法比擬的?！　?.更高的運營效率　　7nm光刻機是經(jīng)過幾代光刻機的積累和改良而成，生產(chǎn)線的穩(wěn)定運行和成本效益也得到了更好的保障。它具有更快的曝光速度和更高的制造效率，能夠在短時間內(nèi)完成更多的加工任務(wù)，同時還能夠大幅降低誤差和缺陷發(fā)生率?！　?.更多的應(yīng)用領(lǐng)域　　7nm光刻機的應(yīng)用范圍也得到了擴展。除了傳統(tǒng)的半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)，它還能夠用于生產(chǎn)其他高科技產(chǎn)品，如集成電路、微機電系統(tǒng)(MEMS)以及光子學(xué)芯片等。這些產(chǎn)品在新興科技領(lǐng)域中具有廣泛應(yīng)用，因此對于7nm光刻機的需求也將越來越大。　　4.創(chuàng)新和變革的引領(lǐng)者　　7nm光刻機的出現(xiàn)，代表了半導(dǎo)體生產(chǎn)技術(shù)的歷史性進步。它對全球產(chǎn)業(yè)鏈的推動力不可忽視，已經(jīng)成為創(chuàng)新和變革的引領(lǐng)者。無論是中國、日本、美國等國的企業(yè)，都在積極研究和開發(fā)7nm光刻機，以期獲得更大的市場份額和更多的技術(shù)優(yōu)勢。　　結(jié)語　　總的來說，7nm光刻機的厲害之處在于它具有更高的精度、更高的運營效率、更多的應(yīng)用領(lǐng)域和創(chuàng)新和變革的引領(lǐng)者。它不僅讓人們對未來的半導(dǎo)體技術(shù)充滿期待，同時也為全球產(chǎn)業(yè)鏈的升級和前進帶來了巨大的機會和挑戰(zhàn)。

5，最先進入7nm級別的手機芯片是哪個

最先的是蘋果，蘋果的a12處理器安卓陣營，首先是華為的70980。

很先進入及別的手機芯片是這個，很先進入及別的手機芯片是這個。

你好！現(xiàn)在來說擁有7nm級光刻機的廠商也有幾家了，同樣也僅僅只有幾個國度有——韓國、美國、臺灣，我國訂了一臺還沒到貨。包括有美國的蘋果公司的A12處理器——鴻海代工、美國的高通公司代表作——855&855+、美國的因特爾公司也有7nm的光刻機——是自己設(shè)計自己生產(chǎn)的。韓國三星——海力士、華為的麒麟980是自己有設(shè)計能力但沒有生產(chǎn)工具，也是臺積電代工的。僅代表個人觀點，不喜勿噴，謝謝。

1首先手機不交CPU（處理器）。而是SOC（系統(tǒng)級芯片）。SOC中集成了邏輯模塊、微處理器/微控制器CPU 內(nèi)核模塊、數(shù)字信號處理器DSP模塊、嵌入的存儲器模塊、...

6，有了荷蘭光刻機中國就能造出7nm芯片問題沒這么簡單

芯片作為現(xiàn)代社會中不可或缺的重要組成部分，已經(jīng)成為了全球科技競爭的焦點。光刻機作為芯片制造過程中至關(guān)重要的設(shè)備，扮演著決定芯片制造技術(shù)是否先進的關(guān)鍵角色。全球最先進的光刻機由荷蘭公司ASML所制造，能夠生產(chǎn)出7納米以下的芯片，堪稱目前世界上最先進的光刻機之一。然而，盡管中國已經(jīng)研制成功了自己的光刻機，但是芯片制造的問題遠(yuǎn)沒有那么簡單。光刻機作為芯片制造過程中不可或缺的一環(huán)，對芯片的性能、可靠性和穩(wěn)定性起著重要的影響。目前，中國的光刻機制造技術(shù)已經(jīng)取得了長足的發(fā)展。上海微電子公司已經(jīng)成功生產(chǎn)了22納米的光刻機，并且計劃在2021年交付采用ARF光源制程工藝為28納米的光刻機。這表明中國在光刻機領(lǐng)域已經(jīng)取得了重要的突破。然而，與全球領(lǐng)先的光刻機相比，中國的光刻機技術(shù)還存在一定的差距。因此，中國需要加大研發(fā)力度，提高技術(shù)水平，以滿足國內(nèi)高端芯片制造的需求。要想實現(xiàn)自主芯片制造技術(shù)的突破，中國不僅需要光刻機技術(shù)的進步，還需要解決其他一系列相關(guān)問題。例如，光刻機所使用的極紫外光源、高精度光刻膠等材料的生產(chǎn)和質(zhì)量控制也是關(guān)鍵的研究領(lǐng)域。中國需要在材料方面進行更多的研究和開發(fā)，以提高自身的核心競爭力。的研究和開發(fā)，以提高自身的核心競爭力。芯片產(chǎn)業(yè)的發(fā)展趨勢與展望：隨著信息化時代的到來，對芯片的需求越來越大。在這樣的背景下，芯片產(chǎn)業(yè)也呈現(xiàn)出快速發(fā)展的趨勢。然而，隨著技術(shù)的不斷進步和競爭的加劇，芯片產(chǎn)業(yè)也面臨著一系列的挑戰(zhàn)和問題。首先，芯片制造技術(shù)的進一步提升將是未來發(fā)展的關(guān)鍵。隨著制程工藝的不斷進步，芯片制造的要求也越來越高。如今已經(jīng)有了7納米以下的芯片，但是要想實現(xiàn)更小尺寸的芯片制造，還需要突破制造工藝的限制。光刻機技術(shù)作為芯片制造的核心技術(shù)之一，將在未來發(fā)展中發(fā)揮越來越重要的作用。其次，芯片產(chǎn)業(yè)的發(fā)展需要充分發(fā)揮國內(nèi)外市場的潛力。中國作為全球最大的電子市場，擁有巨大的市場需求和消費潛力。同時，中國在制造業(yè)方面也擁有較為成熟的產(chǎn)業(yè)鏈和供應(yīng)鏈體系。因此，中國芯片產(chǎn)業(yè)應(yīng)積極開拓國內(nèi)外市場，提升產(chǎn)品質(zhì)量和品牌形象，以增強自身的競爭力。最后，政府的政策支持和資源投入也是促進芯片產(chǎn)業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵因素。政府應(yīng)加大對芯片產(chǎn)業(yè)的支持力度，提供更多的科研經(jīng)費和政策優(yōu)惠，鼓勵企業(yè)進行技術(shù)創(chuàng)新和產(chǎn)業(yè)升級。同時，政府還應(yīng)加強對知識產(chǎn)權(quán)保護的力度，從而為芯片產(chǎn)業(yè)的發(fā)展創(chuàng)造良好的環(huán)境。

7，天璣720相當(dāng)于驍龍多少

天璣720相當(dāng)于驍龍765G，天璣720采用了臺積電7nm制程工藝，擁有兩顆A76大核+六顆A55小核設(shè)計,頻率均為2.0GHz,GPU采用了Mail-G57架構(gòu),并采用了集成式的5G基帶設(shè)計，不僅支持NSA/SA組網(wǎng)模式，同時還支持5G雙載波和MediaTek專屬的5G雙載波和MediaTek專屬的5GUltraSave省電技術(shù)，可以讓5G續(xù)航擁有更好的表現(xiàn)。天璣720處理器還支持最高90Hz屏幕刷新率，支持多種視頻優(yōu)化功能，比如動態(tài)范圍的重新映射；攝像頭方面最高可支持600萬像素攝像頭以及2000萬像素+1600像素雙攝組合，并且集成了MediaTek APU(AI處理器) ,可以提供一系列AI相機增強功能。天璣720相當(dāng)于驍龍765G，驍龍765G采用了臺積電7nm制程工藝, EUV是采用波長13.5nm的極紫外線光刻技術(shù)，可以在SoC硅基上進行更為精密的光刻，實現(xiàn)更小的溝道。比主流193nm波長光源，光刻分辨率提升了約3.3倍。讓處理器可以集成更多晶體管，或者說相同晶體管數(shù)量下芯片面積更小。驍龍765G處理器采用了先進的7nmEUV工藝，它采用了三簇群Kyro 475 CPU設(shè)計，包含1個2.4GHz Cortex-A76大核心、1個2.2GHz Cortex-A76中核心、6個1.8GHz Cortex-A55核心。并且采用了第5代高通AI引擎，而GPU則是Adreno620。另外，驍龍765G還支持2×16bit LPDDR4x RAM，頻率2133MHz。驍龍765G對5G網(wǎng)絡(luò)也有很好的支持。聯(lián)發(fā)科天璣720的大核心主頻為2.0GHz，GPU是Mali-G57，采用A76的構(gòu)架。天璣800的單核成績?yōu)?23分，多核心成績2193分。很明顯由于天璣800的大核心主頻也是2.0GHz，所以兩款芯片差距不大，但由于天璣720在小核心主頻和其它地方的縮水，導(dǎo)致綜合跑分低于天璣800不少。

8，中國首臺7納米光刻機

國產(chǎn)最先進光刻機第一，目前全球最先進的光刻機，已經(jīng)實現(xiàn)5nm的目標(biāo)。這是荷蘭ASML實現(xiàn)的。而ASML也不是自己一家就能夠完成，而是國際合作才能實現(xiàn)的。其中，制造光源的設(shè)備來自美國公司；鏡片，則是來源于德國的蔡司公司等。這也是全球技術(shù)的綜合作用。第二，中國進口最先進的光刻機，是7nm。2018年，中芯國際向荷蘭ASML公司定制了一臺7nm工藝的EUV光刻機，當(dāng)時預(yù)交了1.2億美元的定金。請注意，當(dāng)時這臺機器還沒有交付，而是下訂單。但國內(nèi)市場上，其實已經(jīng)有7nm光刻機。在2018年12月，SK海力士無錫工廠進口了中國首臺7nm光刻機。海力士也是ASML的股東之一。第三，目前國產(chǎn)最先進的光刻機，應(yīng)該是22nm。根據(jù)媒體報道，在2018年11月29日，國家重大科研裝備研制項目“超分辨光刻裝備研制”通過驗收。該光刻機由中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所研制，光刻分辨力達到22納米。請注意該報道的標(biāo)題：“重大突破，國產(chǎn)22納米光刻機通過驗收?！币簿褪?2nm的光刻機，已經(jīng)是重大突破。22nm的光刻機，關(guān)鍵部件已經(jīng)基本上實現(xiàn)了國產(chǎn)化。“中科院光電所此次通過驗收的表面等離子體超分辨光刻裝備，打破了傳統(tǒng)路線格局，形成一條全新的納米光學(xué)光刻技術(shù)路線，具有完全自主知識產(chǎn)權(quán)。”有關(guān)報道中的“全新的技術(shù)”，也就是中國科研工作者在關(guān)鍵部件完全國產(chǎn)化情況下，實現(xiàn)的這一次技術(shù)突破中國和世界頂尖光刻機制造還有很大差距。華為麒麟受制于人，中芯國際不堪大用，澎湃芯片久不見進展，虎憤芯片勉強能用。實用更是有很遠(yuǎn)的路要走。大家放平心態(tài)。國產(chǎn)最新光刻機多少納米;?????國產(chǎn)芯中國“芯”!如果沒有華為在通信科技領(lǐng)域的異軍突起直接威脅到西方發(fā)達國家的核心利益，美國也不會如此喪心病狂的用一個國家的力量對付一個企業(yè)，當(dāng)然我們老百姓也不會去關(guān)注芯片這個原本屬于科技領(lǐng)域的事情。如今在中國的大街小巷和餐館排擋，要說什么話題最火，那莫過于“華為5G”和“芯片”這兩個話題了。??????人們除了驚訝于我國的科技水平居然已經(jīng)達到了這種地步的時候，也在為我國什么時候才能突破高端芯片的技術(shù)封鎖而著急。畢竟我們很多人都知道，我國在錯過了第一次、第二次工業(yè)革命之后，就落后挨打了兩百多年的時間，所以每人都都很清楚下一波工業(yè)革命的重要性。恰好華為5G的全球領(lǐng)先讓我們看到了中國不僅能夠趕上第四次工業(yè)革命，甚至很大程度上還有引領(lǐng)第四次工業(yè)革命的可能，每個人都興奮不已。??????但是目前，我們不得不認(rèn)識到我國在半導(dǎo)體集成電路方面還和西方發(fā)達國家及企業(yè)有著不小的差距。在這個節(jié)骨眼上，偏偏美國又開始歇斯底里的打擊中國科技企業(yè)，企圖拖慢整個中國的半導(dǎo)體領(lǐng)域發(fā)展進程，因此我們很著急，我國何時才能突破芯片的技術(shù)封鎖呢???????當(dāng)然，著急是不解決任何問題的，如果著急有用的話，還要那些科研工作者和科學(xué)家干什么呢?我們一方面在著急的同時，也得清楚的認(rèn)識到，即便在西方國家合力封鎖我國芯片技術(shù)的背景下，我國自己的科技企業(yè)，還是取得了突破性的研究結(jié)果。??????比如我國現(xiàn)有享譽世界的北斗全球定位導(dǎo)航衛(wèi)星，其中所用的三號芯片現(xiàn)在已經(jīng)成功的打破了22nm的上限，上海微電子也在當(dāng)前大背景下加班加點的研制出了能夠生產(chǎn)22nm的光刻機。這個消息讓全國的科技圈都十分的振奮。??????國產(chǎn)光刻機突破22納米，差距還很大，為啥科研人員如此興奮???????有不明所以的網(wǎng)友會比較好奇，現(xiàn)在全球最頂尖的芯片是5nm制程技術(shù)，甚至連3nm制程的也已經(jīng)在研發(fā)設(shè)計中，為什么我們才剛剛到22nm就讓國內(nèi)科研人員異常興奮呢?原因其實很簡單，打個比方在你極度饑餓的時候，別說給你一桌山珍海味了，就是給你一個平淡無奇的白面饅頭你都能吃的津津有味!??????在上海微電子技術(shù)取得突破之前，我國國產(chǎn)的光刻機一直停留在只能制造90nm制程的芯片。這次我國直接從90nm突破到了22nm也就意味著我國在光刻機制造的一些關(guān)鍵核心領(lǐng)域上已經(jīng)實現(xiàn)了國產(chǎn)化。而自己掌握核心技術(shù)有多重要自然不言而喻，在突破關(guān)鍵領(lǐng)域以后，更高階的光刻機的研發(fā)速度只會越來越快。國產(chǎn)光刻機突破封鎖，成功研制22nm光刻機，中國芯正在逐漸崛起。??????與此同時，西方發(fā)達國家的硅基芯片的制造已經(jīng)接近了物理極限，“摩爾定律”正在逐漸的失效，我國的芯片技術(shù)又在不斷的突圍。此消彼長之下，我國芯片制造能力追平世界領(lǐng)先水平也只是時間問題而已，更何況我國也在同步研究更加具有競爭力的“碳基芯片”，如果一旦研制成功，我們甚至都不需要再依賴光刻機，那么西方國家的封鎖手段也會隨之土崩瓦解。??????所以，我們不能只是干著急，對于我國的芯片領(lǐng)域發(fā)展，還是要充滿信心的。中國的光刻機達到了世界先進水平，但為何生產(chǎn)高端芯片依然困難重重？;018年12月，中微半導(dǎo)體設(shè)備有限公司自主研制的5納米等離子體刻蝕機經(jīng)臺積電驗證，性能優(yōu)良，將用于全球首條5納米制程生產(chǎn)線。5納米，相當(dāng)于頭發(fā)絲直徑的二萬分之一，將成為集成電路芯片上的最小線寬。臺積電計劃2019年進行5納米制程試產(chǎn)，預(yù)計2020年量產(chǎn)。▲半導(dǎo)體器件工藝制程從14納米微縮到5納，等離子蝕刻步驟會增加三倍刻蝕機是芯片制造的關(guān)鍵設(shè)備之一，曾一度是發(fā)達國家的出口管制產(chǎn)品。中微半導(dǎo)體聯(lián)合創(chuàng)始人倪圖強表示，中微與科林研發(fā)、應(yīng)用材料、東京威力科創(chuàng)、日立全球先端科技4家美日企業(yè)，組成了國際第一梯隊，為7納米芯片生產(chǎn)線供應(yīng)刻蝕機。中微半導(dǎo)體如今通過臺積電驗證的5納米刻蝕機，預(yù)計能獲得比7納米更大的市場份額。中科院SP超分辨光刻機提問者所說的中國光刻機達到世界先進水平，應(yīng)該是指2018年11月29日通過驗收的，由中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所主導(dǎo)、經(jīng)過近七年艱苦攻關(guān)研制的“超分辨光刻裝備”項目。該項目下研制的這臺光刻機是“世界上首臺分辨力最高的紫外超分辨光刻裝備”。這是一種表面等離子體超分辨光刻裝備。▲中科院研制成功并通過驗收的SP光刻機該光刻機在365納米光源波長下，單次曝光最高線寬分辨力達到22納米。結(jié)合雙重曝光技術(shù)后，未來還可用于制造10nm級別的芯片?！锌圃貉邪l(fā)的光刻機鏡頭目前這個裝備已制備出一系列納米功能器件，包括大口徑薄膜鏡、超導(dǎo)納米線單光子探測器、切倫科夫輻射器件、生化傳感芯片、超表面成像器件等，也就是說，目前主要是一些光學(xué)等領(lǐng)域的器件。驗證了該裝備納米功能器件加工能力，已達到實用化水平。▲中科院SP光刻機加工的樣品然而，此次驗收合格的中科院光電技術(shù)研究所的這臺表面等離子超衍射光刻機的加工精度與ASML的光刻機沒法比。沒法用于刻幾十納米級的芯片，至少以現(xiàn)在的技術(shù)不能。據(jù)光電所專家稱，該所研制成功的這種SP光刻機用于芯片制造上還需要攻克一系列的技術(shù)難題，目前距離還很遙遠(yuǎn)。也就是說中科院研制的這種光刻機不能用來光刻CPU。它的意義是用便宜光源實現(xiàn)較高的分辨率，用于一些特殊制造場景，很經(jīng)濟?？傊锌圃旱?2納米分辨率光刻機跟ASML壟斷的光刻機不是一回事，說前者彎道超車，就好像說中國出了個競走名將要超越博爾特。顯然，中科院研制成功的這臺“超分辨光刻裝備”并不能說明我國在市場主流的的光刻機研制方面已經(jīng)達到了世界先進水平，那么現(xiàn)階段我國的光刻機的真實水平又是怎樣的呢？且看以下對比。7納米芯片量產(chǎn)的意義意味著中國芯片全面突破美國封鎖。7納米芯片量產(chǎn)，意味著中國芯片全面突破美國封鎖。這是中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)勝利反擊的輝煌一刻，更是中國制造、中國科技打破質(zhì)疑，登鼎世界之巔的歷史性一刻。7納米制程不僅適用于PC、平板電腦和智能手機，還能為數(shù)據(jù)中心、汽車等未來形態(tài)的“終端”，以AI等新技術(shù)復(fù)雜的訓(xùn)練和推理提供助力，5G的到來對芯片質(zhì)量的需求將越來越高。無論是現(xiàn)在備受關(guān)注的7納米還是未來的5納米、3納米制程，摩爾定律的逐漸失效導(dǎo)致技術(shù)持續(xù)提升的成本投資會大幅提高，愿意加一把勁兒的參與者，將有機會躋身國際第一梯隊。在這個機遇之窗下，中國芯片自主可控不再是遙不可及的夢想，中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)正在培養(yǎng)“國家隊”，而培育出“國際隊”的關(guān)鍵時間點，或許就從現(xiàn)在開始。中國臺灣芯片制造企業(yè)臺積電在其官方博客上宣布，今年7月，臺積電生產(chǎn)了第10億顆功能完好、沒有缺陷的7納米芯片，實現(xiàn)新里程碑。芯片從本質(zhì)上說是一套集成電路，組成單位是晶體管，晶體管的尺寸越小，芯片上能容納的晶體管數(shù)量就越多，制程也就越小。制程越小，在同樣面積上集成的電路越復(fù)雜，電路的性能就越強，芯片的性能就越好。這一特點在智能手機上體現(xiàn)得尤為明顯。智能手機在追求輕薄的同時，能實現(xiàn)能效的最大化，并且在同等的單位尺寸中可以放入更多的晶體管，就能為手機芯片的運算力提供支持，直接體現(xiàn)到用戶端就是更強大的性能。當(dāng)制程工藝發(fā)展到一定程度時，電路與電路之間的距離縮小到一定程度，就會出現(xiàn)量子隧穿效應(yīng)，電子之間不可控的不規(guī)律運動會影響晶體管性能的發(fā)揮。這就意味著制造材料需要進行重新研發(fā)，需要充足的資金才能進行更新的工藝制程研發(fā)。其次，實現(xiàn)短距離制程的一個重要工具就是光刻機。7納米制程在制造層面的實現(xiàn)離不開高性能光刻機的運行，而這種精密儀器制造成本高和制造時間長。目前世界頂級的光刻機是荷蘭的ASML，它幾乎壟斷了高端領(lǐng)域的光刻機市場，市場份額高達80%以上。ASML新出的極紫外線光刻機可用于7納米制程，價格高達1億美元。除了ASML，其他光刻機供應(yīng)商集中在美國和日本。最后，規(guī)模也是影響7納米制程芯片量產(chǎn)的重要因素。正如臺積電在官方博客中多次強調(diào)大批量生產(chǎn)一樣，芯片生產(chǎn)講究的是規(guī)模效應(yīng)，前期投入的資金需要通過大量的芯片來平攤巨額的研發(fā)成本。同時芯片生產(chǎn)也是一種商業(yè)行為，企業(yè)追求的是利潤，如果沒有利潤，生意也無法長久。不管多難，芯片制造工藝的提升都為終端和應(yīng)用的使用感受帶來質(zhì)的飛躍。過去，只有少數(shù)幾個應(yīng)用程序要求尖端的芯片技術(shù)，而智能手機的普及提出了更多的需求，將領(lǐng)先的芯片帶入了億萬消費者的口袋。隨著云計算和人工智能的興起，應(yīng)用程序比以往任何時候都更多，7納米制程不僅適用于PC、平板電腦和智能手機，還能為數(shù)據(jù)中心、汽車等未來形態(tài)的“終端”，以AI等新技術(shù)復(fù)雜的訓(xùn)練和推理提供助力，5G的到來對芯片質(zhì)量的需求將越來越高。中國的光刻機是什么水平？與世界先進還有多大差距？如何追趕？中國光刻機距離世界先進水平，還有較大的差距。第一，目前全球最先進的光刻機，已經(jīng)實現(xiàn)5nm的目標(biāo)。這是荷蘭ASML實現(xiàn)的。而ASML也不是自己一家就能夠完成，而是國際合作才能實現(xiàn)的。其中，制造光源的設(shè)備來自美國公司；鏡片，則是來源于德國的蔡司公司等。這也是全球技術(shù)的綜合作用。第二，中國進口最先進的光刻機，是7nm。2018年，中芯國際向荷蘭ASML公司定制了一臺7nm工藝的EUV光刻機，當(dāng)時預(yù)交了1.2億美元的定金。請注意，當(dāng)時這臺機器還沒有交付，而是下訂單。但國內(nèi)市場上，其實已經(jīng)有7nm光刻機。在2018年12月，SK海力士無錫工廠進口了中國首臺7nm光刻機。海力士也是ASML的股東之一。第三，目前國產(chǎn)最先進的光刻機，應(yīng)該是22nm。根據(jù)媒體報道，在2018年11月29日，國家重大科研裝備研制項目“超分辨光刻裝備研制”通過驗收。該光刻機由中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所研制，光刻分辨力達到22納米。請注意該報道的標(biāo)題：“重大突破，國產(chǎn)22納米光刻機通過驗收?！币簿褪?2nm的光刻機，已經(jīng)是重大突破。22nm的光刻機，關(guān)鍵部件已經(jīng)基本上實現(xiàn)了國產(chǎn)化?！爸锌圃汗怆娝舜瓮ㄟ^驗收的表面等離子體超分辨光刻裝備，打破了傳統(tǒng)路線格局，形成一條全新的納米光學(xué)光刻技術(shù)路線，具有完全自主知識產(chǎn)權(quán)?！庇嘘P(guān)報道中的“全新的技術(shù)”，也就是中國科研工作者在關(guān)鍵部件完全國產(chǎn)化情況下，實現(xiàn)的這一次技術(shù)突破中國和世界頂尖光刻機制造還有很大差距。華為麒麟受制于人，中芯國際不堪大用，澎湃芯片久不見進展，虎憤芯片勉強能用。實用更是有很遠(yuǎn)的路要走。大家放平心態(tài)。

9，華為榮耀x1怎么樣

更可靠，宛如黑瀑布，懸浮預(yù)覽，一手掌握 3，OTG…… Emotion UI 2.99mm最窄邊框.18mm最薄機身，業(yè)界最高的80%的屏占比 239g同級產(chǎn)品全球最輕.2大光圈，畫質(zhì)更細(xì)膩逼真，顯示躍然屏上華為榮耀x1全部功能如下，藍(lán)玻璃濾光片，2，響應(yīng)速度快、更安全，輕松分享42M極速網(wǎng)絡(luò) 5、笑臉抓拍： 1、同屏多窗，弱信號環(huán)境下通話清晰穩(wěn)定榮耀X1是一鍵式3G路由器。部分軟件可靠性測試標(biāo)準(zhǔn)，智能美膚 ".榮耀X1有超過100項系統(tǒng)優(yōu)化更全面的保護，航空鋁材金屬機身，防指紋防反光膜設(shè)計。 2，低光高畫質(zhì) 榮耀X1前置500萬像素相機，拍出神采奕奕的自己、邊錄邊拍.6GHz處理器 2GB RAM+16GB ROM、更健康，百變主題多屏互動.最快42M無線上網(wǎng)馬上神速華為榮耀X1無線上網(wǎng)是42M DC-HSDPA+，清晰度更高，暢玩大型3D游戲 6;2G超強通話信號，輕松變身拍攝大師 7.神級7吋平板手機超清黑瀑布屏華為榮耀X1采用的是原裝進口頂級屏幕.四核+2G RAM頂配飆機有如神助華為榮耀X1配置采用的是A9架構(gòu)28nm HPM先進制程新一代四核1;自拍預(yù)覽小窗專利.榮耀出品的品質(zhì)承諾完整的測試體系，更鮮艷，29小時連續(xù)通話，納米注塑工藝，隨時隨地高速上網(wǎng) 3G/，輕松分享 9，極佳的色彩表現(xiàn)，支持反向充電.5000mAh+智電無與倫比神續(xù)航華為榮耀X1擁有5000mAh大容量鋰聚合物電池，手勢控制，毫厘之間精心雕琢；更炫麗的界面，只為更穩(wěn)定、陽光閱讀，榮耀X1支持32GB擴展 Mali450-MP4 GPU。榮耀X1擁有1920*1200超全高清分辨率，全球頂級運營商美國AT&T的入網(wǎng)標(biāo)準(zhǔn)，全貼合，5片式精密鏡片，最快3小時可充滿、雙擊喚醒，變身移動電源 4、HDR等功能，獨步業(yè)界的“智電”省電專利技術(shù)、懸浮觸控.潮玩顯神通一機E世界榮耀X1各種手套模式.4um大像素感光;專業(yè)圖像處理引擎.最窄最輕最薄豐神綽約華為榮耀X1采取先進的激光光刻工藝.1300萬/，飆機王血統(tǒng) 2A快速充電，手機管家;智像".0 能令人心曠神怡 8，留聲拍照，"，F(xiàn)2，1，質(zhì)感十足榮耀X1是7。纖薄小巧，22mm大廣角鏡頭;500萬相機+智像輕松拍神像榮耀X1攝像頭后置索尼堆棧式1300萬像素傳感器相機，全景自拍，全視角，10小時+游戲暢玩，有效提升續(xù)航30%以上 20小時連續(xù)視頻播放;炯炯拍"：反復(fù)開關(guān)機（保證多次開關(guān)機后正常）10000次反復(fù)待機喚醒（保證待機狀態(tài)正常） 100000次部分硬件可靠性測試標(biāo)準(zhǔn)，LTPS低溫多晶硅技術(shù)屏幕，最快可達普通3G網(wǎng)速的6倍

10，光刻機中國能造嗎

暫時不能光刻機不是一項單一的技術(shù)，而是現(xiàn)代各項高科技技術(shù)的集成，成品背后需要無數(shù)的產(chǎn)業(yè)鏈支持，以中國現(xiàn)在的科技水平暫時還不能造出。當(dāng)中國專家去荷蘭阿斯麥爾公司參觀光刻機的時候，阿斯麥爾的高管直接對中國的專家說：就算給你全套圖紙，你們中國也造不出光刻機。很多中國人聽到這句話都非常的氣憤，憑什么中國就造不出光刻機？近年來關(guān)于國產(chǎn)光刻機彎道超車的新聞頻繁在各類媒體中出現(xiàn)，國人想要在光刻機技術(shù)上超越歐美發(fā)達國家的愛國情懷可以理解，但部分媒體為了博取眼球?qū)a(chǎn)光刻機過分的吹捧，不尊重事實的報道對普通大眾而言其實是一件特別不負(fù)責(zé)任的事情。理想很豐滿，現(xiàn)實很骨感，以中國現(xiàn)在的科技水平確實造不出光刻機，光刻機不是一項單一的技術(shù)，而是現(xiàn)代各項高科技技術(shù)的集成，光刻機的內(nèi)部十分復(fù)雜，可以說是人類知識集大成的產(chǎn)物之一，光刻機就像手機和汽車一樣，是由無數(shù)的零配件組裝合成的，最終實現(xiàn)某種功能，成品背后需要無數(shù)的產(chǎn)業(yè)鏈支持，各式各樣的零配件都是行業(yè)內(nèi)頂級的技術(shù)體現(xiàn)，沒有長時間的深耕運作，國產(chǎn)光刻機在單一的某項技術(shù)上實現(xiàn)領(lǐng)先是沒問題的，但是想要在整體上實現(xiàn)彎道超車，基本上不現(xiàn)實。舉個例子：比如馬拉松長跑比賽，第二名與第一名的差距相差3公里，在某一個時間段，第二名選手的速度超過了第一名選手，這僅僅代表著第二名選手最終有超越第一名選手的可能，但是3公里路程的巨大差距卻不是一時半會可以趕上的，想要超越，時間跨度將非常大，因為你在努力向前跑的同時對手也在努力向前跑。荷蘭阿斯麥爾之所以能夠壟斷全球最頂尖的光刻機市場，不是因為荷蘭人聰明，單純靠荷蘭人也研發(fā)不出光刻機，光刻機的研發(fā)集合了全球優(yōu)勢資源加上半導(dǎo)體幾十年的技術(shù)積累，最終在數(shù)以萬計的專業(yè)的頂尖研發(fā)人員不斷技術(shù)突破下才成功，荷蘭的幸運在于目前只有荷蘭掌握光刻機最核心的技術(shù)“侵入式光刻技術(shù)”，所以現(xiàn)在頂級光刻機只有荷蘭有能力生產(chǎn)。技術(shù)是研發(fā)的外在體現(xiàn)，任何技術(shù)的突破都是厚積薄發(fā)的結(jié)果，光刻機需要的技術(shù)方向特別多，比如機械化層面，自動化層面，系統(tǒng)科學(xué)層面等一大堆方向都需要有人去攻關(guān)，有些地方是知道技術(shù)壁壘的，但是如何突破技術(shù)壁壘還沒有頭緒，有些地方連技術(shù)壁壘在什么地方都沒找到，更別談技術(shù)突破了，而且任何一項技術(shù)的突破都需要長年累月技術(shù)投入，資金投入，人員投入。技術(shù)積累并不是錢能夠解決的，目前國內(nèi)在光刻機領(lǐng)域做得比較好的是上海微電子裝備和中科院的某個研究所，它們目前還停留在90nm研發(fā)產(chǎn)品階段，而荷蘭阿斯麥爾7nm的光刻機已經(jīng)實現(xiàn)量產(chǎn)，當(dāng)然這并不代表國產(chǎn)光刻機沒有超越的機會，目前國內(nèi)對光刻機的重視程度越來越高，大量的資金和頂尖的人才都在光刻機領(lǐng)域深耕研究。國產(chǎn)光刻機其實只要在某些關(guān)鍵技術(shù)上取得突破，就算得上是彎道超車了，就好比荷蘭阿斯麥爾在光刻機“侵入式光刻技術(shù)”上領(lǐng)先全球一樣，沒有這項關(guān)鍵性技術(shù)，就無法制造更頂級的光刻機，所以目前只有荷蘭才有資格制造頂級光刻機。

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7nm光刻機，邁向7nm工藝與3D IC有多難

本文目錄一覽

1，邁向7nm工藝與3D IC有多難

2，武漢弘芯7nm光刻機是真的嗎

3，為什么說7nm工藝對半導(dǎo)體來說是個大挑戰(zhàn)

4，7nm光刻機有多厲害

5，最先進入7nm級別的手機芯片是哪個

6，有了荷蘭光刻機中國就能造出7nm芯片問題沒這么簡單

7，天璣720相當(dāng)于驍龍多少

8，中國首臺7納米光刻機

9，華為榮耀x1怎么樣

10，光刻機中國能造嗎

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7nm光刻機，邁向7nm工藝與3D IC有多難

本文目錄一覽

1，邁向7nm工藝與3D IC有多難

2，武漢弘芯7nm光刻機是真的嗎

3，為什么說7nm工藝對半導(dǎo)體來說是個大挑戰(zhàn)

4，7nm光刻機有多厲害

5，最先進入7nm級別的手機芯片是哪個

6，有了荷蘭光刻機中國就能造出7nm芯片問題沒這么簡單

7，天璣720相當(dāng)于驍龍多少

8，中國首臺7納米光刻機

9，華為榮耀x1怎么樣

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3，為什么說7nm工藝對半導(dǎo)體來說是個大挑戰(zhàn)

4，7nm光刻機有多厲害

5，最先進入7nm級別的手機芯片是哪個

6，有了荷蘭光刻機中國就能造出7nm芯片問題沒這么簡單

7，天璣720相當(dāng)于驍龍多少

8，中國首臺7納米光刻機

9，華為榮耀x1怎么樣