它有五種類型的剖面及其對應(yīng)的干涉圖: ① ⊥ BXA剖面干涉圖，②⊥OA剖面干涉圖，③斜剖面干涉圖，④ ?該剖面的干涉圖在圖像特征上相當(dāng)于垂直BXA剖面干涉圖的一部分，其干涉條件干涉圖 sample干涉的一個必要條件是兩個波的頻率必須相同或者有固定的相位差。

(1)圖像特性(圖5-15和圖版II-6、III-1、III-3和III-4)當(dāng)光軸平面(AP)平行于上下偏振鏡(AA或PP)的振動方向之一時，干涉圖由一個黑色組成。其中，黑色十字的交點為Bxa的露點，位于視野中心；黑十字的兩個黑帶分別平行于上下偏振片的振動方向(AA，PP)，但厚度不同。

鋸齒形干涉色圈以兩光軸的露點為中心，干涉色的順序由內(nèi)向外逐漸增加，干涉色圈越多越密。干涉色圈的數(shù)量取決于礦物的雙折射和礦石薄片的厚度。礦物的雙折射越大，礦石薄片越厚，干涉色圈越多(圖5-15a和圖版ⅲ-3)；雙折率越小，礦石薄片越薄，干涉色圈越少，甚至只有一階灰色干涉色出現(xiàn)在黑十字的四個象限中(圖5-15b和圖版II-6)。此時干涉圖中兩條黑帶的寬度幾乎相等。

1。確定軸和切片方向根據(jù)干涉圖的圖像特征，可以確定為軸垂直于光軸的切片。2.確定單軸晶體垂直于光軸的切片中的光學(xué)符號干涉圖，在黑十字的四個象限中，輻射方向代表Ne’的方向；同心圓的切線方向代表NO的方向，加一塊測試板，觀察干涉圖中黑十字四個象限干涉色的波動。根據(jù)互補色原理，可以確定NE′和No的相對大小。在第二和第四象限加入試板后，黑十字in 干涉圖的干涉色序在第一和第三象限上升，表明光學(xué)指示線橢圓半徑Ne′和No在兩個象限與試板平行。第二和第四象限的干涉色序減小，說明這兩個象限的光指標(biāo)橢圓半徑Ne′和No與試板的同名半徑平行，屬于正光。

If 干涉圖 sample扭曲，表示中間膜厚度變化較慢，厚度向外變化越快，條紋越密。條紋形狀:平行于雙縫的一組明暗等間距的直條紋，上下對稱。對于這個實驗，首先量子力學(xué)認為光是由光子組成的，每個光子的能量是Ehυ，其中h是普朗克常數(shù)，υ是光子的頻率。干涉條件干涉圖 sample干涉的一個必要條件是兩個波的頻率必須相同或者有固定的相位差。

雙軸晶體的光學(xué)指標(biāo)線是三軸不等的橢球體，干涉圖比單軸晶體更復(fù)雜。它有五種類型的截面及其對應(yīng)的干涉圖: ① ⊥ BXA截面干涉圖，②⊥OA截面干涉圖，③斜截面干涉圖，④ ?我們必須明確四個位置和三個前提。1.干涉圖1的垂直銳角平分線的截面(⊥Bxa).圖像特征(1)當(dāng)光軸平面平行于上下偏振光的振動方向時，(該切片的干涉色在交叉偏振片下較低，但高于垂直光軸切片)。

是干擾抵消的點，由于干擾抵消是靜態(tài)的，不是靜態(tài)的。從干涉示意圖中可以看出就是實線和虛線相交形成的線(圖中深藍色線)。舉個例子，如果一束單色光束被分束器分成兩束，然后它們在空間的某個區(qū)域重疊，就會發(fā)現(xiàn)重疊區(qū)域的光強分布并不均勻:它的亮度隨著它在空間的位置而變化，最亮的地方亮度超過原來兩束的總和，而最暗的地方亮度可能為零。這種光強的重新分布被稱為“干涉條紋”。

擴展資料:干涉測量法是基于電磁波的干涉理論。通過檢測相干電磁波的性質(zhì)，如干涉圖 sample、頻率、振幅、相位等，應(yīng)用于各種相關(guān)測量技術(shù)。用來實現(xiàn)干涉測量的儀器叫做干涉儀。干涉測量在許多科學(xué)研究領(lǐng)域中起著重要的作用，包括天文學(xué)、光纖光學(xué)、工程測量等。一般來說，干涉測量可以分為兩種基本類型:零差探測和外差探測。

(1)圖像特征(圖5-23 ~圖5-25)不垂直于光軸或Bxa，但更靠近其斜面，屬于與光軸傾斜的平面。該段的干涉圖相當(dāng)于圖像特征中垂直Bxa段干涉圖的一部分，其黑帶和干涉色圈不完整，轉(zhuǎn)動動物桌，黑帶彎曲移動。在45°的位置，彎曲黑帶的頂點(光軸的露點)不在視場的中心，斜光軸部分干涉圖主要有三種。