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肖特基接觸,金屬與半導體產(chǎn)生肖特基接觸時的電流方向和原理是什么

來源:整理 時間:2024-12-20 12:35:43 編輯:智能門戶 手機版

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1,金屬與半導體產(chǎn)生肖特基接觸時的電流方向和原理是什么

正向電壓時,勢壘下降 熱激發(fā)的電子從金屬流入半導體,形成正向電流。反向時勢壘不變 阻止電子從半導體進入金屬。

金屬與半導體產(chǎn)生肖特基接觸時的電流方向和原理是什么

2,什么是肖特基勢壘

肖特基勢壘是指具有整流特性的金屬-半導體接觸,就如同二極管具有整流特性。是金屬-半導體邊界上形成的具有整流作用的區(qū)域。

什么是肖特基勢壘

3,金屬與半導體之間的接觸勢壘是什么

 肖特基接觸是指金屬和半導體材料相接觸的時候,在界面處半導體的能帶彎曲,形成肖特基勢壘。勢壘的存在才導致了大的界面電阻。與之對應(yīng)的是歐姆接觸,界面處勢壘非常小或者是沒有接觸勢壘。

金屬與半導體之間的接觸勢壘是什么

4,金屬和半導體接觸有哪些好處

歐姆接觸,是指接觸面的電阻值遠小于半導體本身的電阻,大部分的電壓降在于活動區(qū)而不在接觸面。集成電路中金屬引線將器件端接出全是歐姆接觸。肖特基接觸是指金屬和半導體材料相接觸的時候,在界面處半導體的能帶彎曲,形成肖特基勢壘。可用于制作肖特基二極管。二者分別是通過選擇不同功函數(shù)的金屬和半導體來實現(xiàn)的。
在一定范圍內(nèi),半導體的電阻隨溫度的升高而降低,金屬導體的電阻隨溫度的升高而升高由于電流通過后要產(chǎn)熱,兩個按一定比例串聯(lián)接入電路后,剛好互補,從而使電阻不隨溫度的變化而變化
金屬與半導體接觸有兩種類型:一個是肖特基接觸勢壘,另一個是歐姆接觸!一般的本征半導體和金屬接觸產(chǎn)生肖特基勢壘,如果半導體有很高的摻雜濃度,則接觸近似為歐姆接觸。

5,什么叫歐姆接觸和肖特基接觸

所謂歐姆接觸,是指金屬與半導體的接觸,而其接觸面的電阻值遠小于半導體本身的電阻,使得組件操作時,大部分的電壓降在于活動區(qū)(Active region)而不在接觸面。 欲形成好的歐姆接觸,有二個先決條件: (1)金屬與半導體間有低的界面能障(Barrier Height) (2)半導體有高濃度的雜質(zhì)摻入(N ≥10EXP12 cm-3) 前者可使界面電流中熱激發(fā)部分(Thermionic Emission)增加;后者則使界面空乏區(qū)變窄,電子有更多的機會直接穿透(Tunneling),而同使Rc阻值降低。 若半導體不是硅晶,而是其它能量間隙(Energy Cap)較大的半導體(如GaAs),則較難形成歐姆接觸 (無適當?shù)慕饘倏捎?,必須于半導體表面摻雜高濃度雜質(zhì),形成Metal-n+-n or Metal-p+-p等結(jié)構(gòu)。 歐姆接觸是半導體設(shè)備上具有線性并且對稱的電流-電壓特性曲線。如果電流-電壓特性曲線不是線性的,這種接觸便叫做肖特接觸。

6,點接觸二極管和肖特基二極管是什么關(guān)系

肖特基二極管的定義是金屬-半導體勢壘二極管,因此點接觸檢波二極管也是算肖特基二極管的一種。
肖特基二極管是屬于低功耗、大電流、超高速的半導體器件,其特長是開關(guān)速度非???,反向恢復時間可以小到幾個納秒,正向?qū)▔航祪H0.4v左右,而整流電流卻可達到幾千安。所以適合在低電壓、大電流的條件下工作,電腦主機電源的輸出整流二極管就采用了肖特基二極管。 肖特基二極管是以n型半導體為基片,在上面形成用砷作摻染劑的n一外延層。陽性(阻擋層)金屬材料是鉬。二氧化硅用來消除邊緣區(qū)域電場,提高肖特基二極管的耐壓值。n型基片摻雜濃度比n一層高100倍,具有很小的通態(tài)電阻?;虏康膎+陰極層用以減小陰極的接觸電阻。通過調(diào)整結(jié)構(gòu)參數(shù),可在基片與陽極金屬之間形成合適的肖特基二極管。 快恢復二極管是近年來問世的新型半導體器件,它具有開關(guān)特性好,反向恢復時間短、正向電流大、體積較小、安裝簡便等優(yōu)點??勺鞲哳l、大電流的整流、續(xù)流二極管,在開關(guān)電源、脈寬調(diào)制器(pwm)、不間電源(ups)、高頻加熱、交流電機變頻調(diào)速等電子設(shè)備中得到了廣泛的應(yīng)用,是極有發(fā)展前途的電力、電子半導體器件。 快恢復二極管的一個重要參數(shù)是反向恢復時間trr,其定義是:電流流過零點由正向轉(zhuǎn)換成反向,再由反向轉(zhuǎn)換到規(guī)定的值irr時的時間間隔,它是衡量高頻續(xù)流、整流器件性能的重要技術(shù)參數(shù)。 快恢復二極管的內(nèi)部結(jié)構(gòu)與普通二極管不同,它是在p型、n型硅材料中間增加了基區(qū)i,構(gòu)成p-i-n硅片。由于基區(qū)很薄,反向恢復電荷很小,不僅大大減小了trr值,還降低了瞬態(tài)正向壓降, 使管子能承受很高的反向工作電壓??旎謴投O管的反向恢復時間一般為幾百納秒,正向壓降約為0.6v,正向電流是幾安培至幾千安培,反向峰值電壓可達幾百到幾千伏。
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