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光刻機(jī)，光刻機(jī)是用來(lái)做什么的

來(lái)源：整理時(shí)間：2025-03-10 18:48:06 編輯：智能門戶手機(jī)版

本文目錄一覽

1，光刻機(jī)是用來(lái)做什么的
2，光刻機(jī)的分類
3，光刻機(jī)的介紹
4，光刻機(jī)的性能指標(biāo)
5，光刻機(jī)是生產(chǎn)CPU的么
6，中國(guó)哪家的光刻機(jī)功能性能最好

1，光刻機(jī)是用來(lái)做什么的

在光盤表面繡花的機(jī)器.有一種光盤,可以把圖案印在盤表面上,就需要用到這種"光雕機(jī)".這與存數(shù)據(jù)的刻錄機(jī)是另一回事.

光刻機(jī)是用來(lái)做什么的

2，光刻機(jī)的分類

光刻機(jī)一般根據(jù)操作的簡(jiǎn)便性分為三種，手動(dòng)、半自動(dòng)、全自動(dòng)A 手動(dòng)：指的是對(duì)準(zhǔn)的調(diào)節(jié)方式，是通過(guò)手調(diào)旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita角度來(lái)完成對(duì)準(zhǔn)，對(duì)準(zhǔn)精度可想而知不高了；B 半自動(dòng)：指的是對(duì)準(zhǔn)可以通過(guò)電動(dòng)軸根據(jù)CCD的進(jìn)行定位調(diào)諧；C 自動(dòng)：指的是從基板的上載下載，曝光時(shí)長(zhǎng)和循環(huán)都是通過(guò)程序控制，自動(dòng)光刻機(jī)主要是滿足工廠對(duì)于處理量的需要，恩科優(yōu)的NXQ8000系列可以一個(gè)小時(shí)處理幾百片wafer。

光刻機(jī)的分類

3，光刻機(jī)的介紹

光刻機(jī)/紫外曝光機(jī)（Mask Aligner) 又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機(jī)是掩膜對(duì)準(zhǔn)光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。Photolithography（光刻）意思是用光來(lái)制作一個(gè)圖形（工藝）；在硅片表面勻膠，然后將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移光刻膠上的過(guò)程將器件或電路結(jié)構(gòu)臨時(shí)“復(fù)制”到硅片上的過(guò)程。

相信自己的判斷吧再看看別人怎么說(shuō)的。

光刻機(jī)的介紹

4，光刻機(jī)的性能指標(biāo)

光刻機(jī)的主要性能指標(biāo)有：支持基片的尺寸范圍，分辨率、對(duì)準(zhǔn)精度、曝光方式、光源波長(zhǎng)、光強(qiáng)均勻性、生產(chǎn)效率等。分辨率是對(duì)光刻工藝加工可以達(dá)到的最細(xì)線條精度的一種描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以與光源、光刻系統(tǒng)、光刻膠和工藝等各方面的限制。對(duì)準(zhǔn)精度是在多層曝光時(shí)層間圖案的定位精度。曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式。曝光光源波長(zhǎng)為紫外、深紫外和極紫外區(qū)域，光源有汞燈，準(zhǔn)分子激光器等。

光刻機(jī)的主要性能指標(biāo)有：1、支持基片的尺寸范圍，分辨率、對(duì)準(zhǔn)精度、曝光方式、光源波長(zhǎng)、光強(qiáng)均勻性、生產(chǎn)效率等。2、分辨率是對(duì)光刻工藝加工可以達(dá)到的最細(xì)線條精度的一種描述方式。3、光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以與光源、光刻系統(tǒng)、光刻膠和工藝等各方面的限制。4、對(duì)準(zhǔn)精度是在多層曝光時(shí)層間圖案的定位精度。5、曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式。6、曝光光源波長(zhǎng)為紫外、深紫外和極紫外區(qū)域，光源有汞燈，準(zhǔn)分子激光器等。

5，光刻機(jī)是生產(chǎn)CPU的么

光刻機(jī)是生產(chǎn)CPU的重要設(shè)備，但是并不是只能用于生產(chǎn)CPU。實(shí)際上，光刻機(jī)是半導(dǎo)體工藝非常重要的生產(chǎn)設(shè)備，用于將理論設(shè)計(jì)的電路制作到真實(shí)的Si級(jí)片上，并最終獲得集成電路。所有大規(guī)格和超大規(guī)模集成電路，都會(huì)使用到光刻機(jī)，這其中當(dāng)然包括CPU，也包括GPU，單片機(jī)芯片等等各種半導(dǎo)體芯片。有興趣，百度百科的相關(guān)詞條，有更詳細(xì)的內(nèi)容供參考。

不是，主流的英特爾處理器會(huì)有20億個(gè)晶體管，高端產(chǎn)品可以達(dá)到60億個(gè)，一個(gè)個(gè)的鏈接方法不現(xiàn)實(shí)，所以采用光刻蝕技術(shù)。光刻蝕過(guò)程就是使用一定波長(zhǎng)的光在感光層中刻出相應(yīng)的刻痕，由此改變?cè)撎幉牧系幕瘜W(xué)特性。這項(xiàng)技術(shù)對(duì)于所用光的波長(zhǎng)要求極為嚴(yán)格，需要使用短波長(zhǎng)的紫外線和大曲率的透鏡。刻蝕過(guò)程還會(huì)受到晶圓上的污點(diǎn)的影響。每一步刻蝕都是一個(gè)復(fù)雜而精細(xì)的過(guò)程。設(shè)計(jì)每一步過(guò)程的所需要的數(shù)據(jù)量都可以用10GB的單位來(lái)計(jì)量，而且制造每塊處理器所需要的刻蝕步驟都超過(guò)20步（每一步進(jìn)行一層刻蝕）。而且每一層刻蝕的圖紙如果放大許多倍，可以和整個(gè)紐約市外加郊區(qū)范圍的地圖相比，甚至還要復(fù)雜。當(dāng)這些刻蝕工作全部完成之后，晶圓被翻轉(zhuǎn)過(guò)來(lái)。短波長(zhǎng)光線透過(guò)石英模板上鏤空的刻痕照射到晶圓的感光層上，然后撤掉光線和模板。通過(guò)化學(xué)方法除去暴露在外邊的感光層物質(zhì)，而二氧化硅馬上在陋空位置的下方生成。

光刻機(jī)的作用是蝕刻芯片的功能及線路，當(dāng)然也包括了制造處理器這樣的大規(guī)模集成電路或者內(nèi)存顆粒、閃存顆粒等等。--光刻機(jī)是制造微機(jī)電、光電、二極體大規(guī)模集成電路的關(guān)鍵設(shè)備。可以分為兩種，分別是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時(shí)模板緊貼芯片；以及利用類似投影機(jī)原理的stepper，獲得比模板更小的曝光圖樣。

用于在硅片上蝕刻集成電路的，用于生產(chǎn)制造半導(dǎo)體芯片，包括但不局限于CPU。

6，中國(guó)哪家的光刻機(jī)功能性能最好

上海微電子裝備有限公司的步進(jìn)式掃描光刻機(jī)吧，估計(jì)是中國(guó)最先進(jìn)的了。SSA600/20 步進(jìn)掃描投影光刻機(jī)采用0.75數(shù)值孔徑和四倍縮小倍率的ArF投影物鏡、工藝自適應(yīng)調(diào)焦調(diào)平技術(shù)，以及高速高精的自減振六自由度工件臺(tái)掩模臺(tái)技術(shù)，實(shí)現(xiàn)可用于前道IC制造90nm關(guān)鍵層和非關(guān)鍵層的先進(jìn)光刻設(shè)備。此外，該設(shè)備通過(guò)采用多種可供選擇的先進(jìn)專利照明技術(shù)，并配合其他分辨率增強(qiáng)技術(shù)，能夠滿足客戶高于90nm分辨率的生產(chǎn)需求。該設(shè)備可用于8寸線或12寸線的大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn)。本人親自用過(guò)，號(hào)稱能有90nm分辨率但是實(shí)際使用情況看2um還是能達(dá)到的。6寸、8寸、12寸都能生產(chǎn)，人際界面良好，效率還算可以，跟國(guó)外同類型機(jī)器相比故障率稍高。

蘇州印象鐳射科技有限公司生產(chǎn)的光刻機(jī)不但分辨率高，可達(dá)2540dpi,而且光刻速度快，最快可達(dá)1000點(diǎn)/秒。當(dāng)今流利的一些防偽鐳射技術(shù)都可制作。該公司與蘇州大學(xué)合作，有專業(yè)的研發(fā)隊(duì)伍，可不斷研制新的防偽技術(shù)。他們生產(chǎn)的光刻機(jī)性能穩(wěn)定，可靠，能持續(xù)工作很長(zhǎng)時(shí)間。功能強(qiáng)大，能防止意外斷電帶來(lái)的不良后果。上機(jī)文件格式為bmp,可用任何繪圖軟件轉(zhuǎn)化而成。目前該公司主要有3種光刻機(jī)：1）小光刻機(jī)，有效面積為150mmX150mm.2)中光刻機(jī)，有效面積為400x400mm.3)大光刻機(jī)，有效面積為800mm x 1000mm. 可根據(jù)客戶的要求量身定制。該公司還可生產(chǎn)拼版機(jī)，電鑄機(jī)等一系列鐳射相關(guān)產(chǎn)品。 Tel: 0086-0512-67077898 QQ: 576950417

蘇州印象鐳射有限公司生產(chǎn)的光刻機(jī)在中國(guó)處于領(lǐng)先地位。他們的光刻機(jī)不但性能穩(wěn)定，可靠，而且可持續(xù)工作很長(zhǎng)時(shí)間。當(dāng)今流行的鐳射防偽技術(shù)基本都可制作。該公司與蘇州大學(xué)合作，有專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)專門研究新的防偽技術(shù)。所以他們的技術(shù)可不斷得到更新。他們的光刻機(jī)功能強(qiáng)大，可預(yù)防斷電帶來(lái)的嚴(yán)重后果，操作軟件靈活，友好，可預(yù)覽光刻后的鐳射效果。上機(jī)文件格式為BMP,可由任意繪圖軟件轉(zhuǎn)化成。他們的光刻機(jī)一般有3種：1）小光刻機(jī)，有效面積為150mm X150mm. 2）中光刻機(jī)，有效面積為400mm X400mm. 3）大光刻機(jī)，有效面積為800mm X1000mm. 重要的是他們可根據(jù)客戶的要求量身定制。 tel: 0086-0512-67077898 qq: 576950417