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光刻機，光刻機是用來做什么的

來源：整理時間：2025-03-10 18:48:06 編輯：智能門戶手機版

本文目錄一覽

1，光刻機是用來做什么的
2，光刻機的分類
3，光刻機的介紹
4，光刻機的性能指標
5，光刻機是生產(chǎn)CPU的么
6，中國哪家的光刻機功能性能最好

1，光刻機是用來做什么的

在光盤表面繡花的機器.有一種光盤,可以把圖案印在盤表面上,就需要用到這種"光雕機".這與存數(shù)據(jù)的刻錄機是另一回事.

光刻機是用來做什么的

2，光刻機的分類

光刻機一般根據(jù)操作的簡便性分為三種，手動、半自動、全自動A 手動：指的是對準的調(diào)節(jié)方式，是通過手調(diào)旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita角度來完成對準，對準精度可想而知不高了；B 半自動：指的是對準可以通過電動軸根據(jù)CCD的進行定位調(diào)諧；C 自動：指的是從基板的上載下載，曝光時長和循環(huán)都是通過程序控制，自動光刻機主要是滿足工廠對于處理量的需要，恩科優(yōu)的NXQ8000系列可以一個小時處理幾百片wafer。

光刻機的分類

3，光刻機的介紹

光刻機/紫外曝光機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。Photolithography（光刻）意思是用光來制作一個圖形（工藝）；在硅片表面勻膠，然后將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移光刻膠上的過程將器件或電路結(jié)構(gòu)臨時“復(fù)制”到硅片上的過程。

相信自己的判斷吧再看看別人怎么說的。

光刻機的介紹

4，光刻機的性能指標

光刻機的主要性能指標有：支持基片的尺寸范圍，分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產(chǎn)效率等。分辨率是對光刻工藝加工可以達到的最細線條精度的一種描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以與光源、光刻系統(tǒng)、光刻膠和工藝等各方面的限制。對準精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度。曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式。曝光光源波長為紫外、深紫外和極紫外區(qū)域，光源有汞燈，準分子激光器等。

光刻機的主要性能指標有：1、支持基片的尺寸范圍，分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產(chǎn)效率等。2、分辨率是對光刻工藝加工可以達到的最細線條精度的一種描述方式。3、光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以與光源、光刻系統(tǒng)、光刻膠和工藝等各方面的限制。4、對準精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度。5、曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式。6、曝光光源波長為紫外、深紫外和極紫外區(qū)域，光源有汞燈，準分子激光器等。

5，光刻機是生產(chǎn)CPU的么

光刻機是生產(chǎn)CPU的重要設(shè)備，但是并不是只能用于生產(chǎn)CPU。實際上，光刻機是半導(dǎo)體工藝非常重要的生產(chǎn)設(shè)備，用于將理論設(shè)計的電路制作到真實的Si級片上，并最終獲得集成電路。所有大規(guī)格和超大規(guī)模集成電路，都會使用到光刻機，這其中當然包括CPU，也包括GPU，單片機芯片等等各種半導(dǎo)體芯片。有興趣，百度百科的相關(guān)詞條，有更詳細的內(nèi)容供參考。

不是，主流的英特爾處理器會有20億個晶體管，高端產(chǎn)品可以達到60億個，一個個的鏈接方法不現(xiàn)實，所以采用光刻蝕技術(shù)。光刻蝕過程就是使用一定波長的光在感光層中刻出相應(yīng)的刻痕，由此改變該處材料的化學(xué)特性。這項技術(shù)對于所用光的波長要求極為嚴格，需要使用短波長的紫外線和大曲率的透鏡?？涛g過程還會受到晶圓上的污點的影響。每一步刻蝕都是一個復(fù)雜而精細的過程。設(shè)計每一步過程的所需要的數(shù)據(jù)量都可以用10GB的單位來計量，而且制造每塊處理器所需要的刻蝕步驟都超過20步（每一步進行一層刻蝕）。而且每一層刻蝕的圖紙如果放大許多倍，可以和整個紐約市外加郊區(qū)范圍的地圖相比，甚至還要復(fù)雜。當這些刻蝕工作全部完成之后，晶圓被翻轉(zhuǎn)過來。短波長光線透過石英模板上鏤空的刻痕照射到晶圓的感光層上，然后撤掉光線和模板。通過化學(xué)方法除去暴露在外邊的感光層物質(zhì)，而二氧化硅馬上在陋空位置的下方生成。

光刻機的作用是蝕刻芯片的功能及線路，當然也包括了制造處理器這樣的大規(guī)模集成電路或者內(nèi)存顆粒、閃存顆粒等等。--光刻機是制造微機電、光電、二極體大規(guī)模集成電路的關(guān)鍵設(shè)備?？梢苑譃閮煞N，分別是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼芯片；以及利用類似投影機原理的stepper，獲得比模板更小的曝光圖樣。

用于在硅片上蝕刻集成電路的，用于生產(chǎn)制造半導(dǎo)體芯片，包括但不局限于CPU。

6，中國哪家的光刻機功能性能最好

上海微電子裝備有限公司的步進式掃描光刻機吧，估計是中國最先進的了。SSA600/20 步進掃描投影光刻機采用0.75數(shù)值孔徑和四倍縮小倍率的ArF投影物鏡、工藝自適應(yīng)調(diào)焦調(diào)平技術(shù)，以及高速高精的自減振六自由度工件臺掩模臺技術(shù)，實現(xiàn)可用于前道IC制造90nm關(guān)鍵層和非關(guān)鍵層的先進光刻設(shè)備。此外，該設(shè)備通過采用多種可供選擇的先進專利照明技術(shù)，并配合其他分辨率增強技術(shù)，能夠滿足客戶高于90nm分辨率的生產(chǎn)需求。該設(shè)備可用于8寸線或12寸線的大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn)。本人親自用過，號稱能有90nm分辨率但是實際使用情況看2um還是能達到的。6寸、8寸、12寸都能生產(chǎn)，人際界面良好，效率還算可以，跟國外同類型機器相比故障率稍高。

蘇州印象鐳射科技有限公司生產(chǎn)的光刻機不但分辨率高，可達2540dpi,而且光刻速度快，最快可達1000點/秒。當今流利的一些防偽鐳射技術(shù)都可制作。該公司與蘇州大學(xué)合作，有專業(yè)的研發(fā)隊伍，可不斷研制新的防偽技術(shù)。他們生產(chǎn)的光刻機性能穩(wěn)定，可靠，能持續(xù)工作很長時間。功能強大，能防止意外斷電帶來的不良后果。上機文件格式為bmp,可用任何繪圖軟件轉(zhuǎn)化而成。目前該公司主要有3種光刻機：1）小光刻機，有效面積為150mmX150mm.2)中光刻機，有效面積為400x400mm.3)大光刻機，有效面積為800mm x 1000mm. 可根據(jù)客戶的要求量身定制。該公司還可生產(chǎn)拼版機，電鑄機等一系列鐳射相關(guān)產(chǎn)品。 Tel: 0086-0512-67077898 QQ: 576950417

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