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電子顯微鏡,什么是電子顯微鏡它與光學(xué)顯微鏡有什么不同

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1,什么是電子顯微鏡它與光學(xué)顯微鏡有什么不同

光學(xué)顯微鏡的觀測(cè)原理是通過(guò)光子的反射(自然光或者探照光) 較宏觀 電子顯微鏡的觀測(cè)原理是通過(guò)電子的反射(類似電子槍) 較微觀

什么是電子顯微鏡它與光學(xué)顯微鏡有什么不同

2,電子顯微鏡是什么它和光子顯微鏡有什么不同

電子顯微鏡電子顯微鏡是根據(jù)電子光學(xué)原理,用電子束和電子透鏡代替光束和光學(xué)透鏡,使物質(zhì)的細(xì)微結(jié)構(gòu)在非常高的放大倍數(shù)下成像的儀器。電子顯微鏡的分辨能力以它所能分辨的相鄰兩點(diǎn)的最小間距來(lái)表示。20世紀(jì)70年代,透射式電子顯微鏡的分辨率約為0.3納米(人眼的分辨本領(lǐng)約為0.1毫米)。現(xiàn)在電子顯微鏡最大放大倍率超過(guò)300萬(wàn)倍,而光學(xué)顯微鏡的最大放大倍率約為2000倍,所以通過(guò)電子顯微鏡就能直接觀察到某些重金屬的原子和晶體中排列整齊的原子點(diǎn)陣。1931年,德國(guó)的克諾爾和魯斯卡,用冷陰極放電電子源和三個(gè)電子透鏡改裝了一臺(tái)高壓示波器,并獲得了放大十幾倍的圖象,證實(shí)了電子顯微鏡放大成像的可能性。1932年,經(jīng)過(guò)魯斯卡的改進(jìn),電子顯微鏡的分辨能力達(dá)到了50納米,約為當(dāng)時(shí)光學(xué)顯微鏡分辨本領(lǐng)的十倍,于是電子顯微鏡開(kāi)始受到人們的重視。到了二十世紀(jì)40年代,美國(guó)的希爾用消像散器補(bǔ)償電子透鏡的旋轉(zhuǎn)不對(duì)稱性,使電子顯微鏡的分辨本領(lǐng)有了新的突破,逐步達(dá)到了現(xiàn)代水平。在中國(guó),1958年研制成功透射式電子顯微鏡,其分辨本領(lǐng)為3納米,1979年又制成分辨本領(lǐng)為0.3納米的大型電子顯微鏡。電子顯微鏡的分辨本領(lǐng)雖已遠(yuǎn)勝于光學(xué)顯微鏡,但電子顯微鏡因需在真空條件下工作,所以很難觀察活的生物,而且電子束的照射也會(huì)使生物樣品受到輻照損傷。其他的問(wèn)題,如電子槍亮度和電子透鏡質(zhì)量的提高等問(wèn)題也有待繼續(xù)研究。分辨能力是電子顯微鏡的重要指標(biāo),它與透過(guò)樣品的電子束入射錐角和波長(zhǎng)有關(guān)。可見(jiàn)光的波長(zhǎng)約為300~700納米,而電子束的波長(zhǎng)與加速電壓有關(guān)。當(dāng)加速電壓為50~100千伏時(shí),電子束波長(zhǎng)約為0.0053~0.0037納米。由于電子束的波長(zhǎng)遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于可見(jiàn)光的波長(zhǎng),所以即使電子束的錐角僅為光學(xué)顯微鏡的1%,電子顯微鏡的分辨本領(lǐng)仍遠(yuǎn)遠(yuǎn)優(yōu)于光學(xué)顯微鏡。電子顯微鏡由鏡筒、真空系統(tǒng)和電源柜三部分組成。鏡筒主要有電子槍、電子透鏡、樣品架、熒光屏和照相機(jī)構(gòu)等部件,這些部件通常是自上而下地裝配成一個(gè)柱體;真空系統(tǒng)由機(jī)械真空泵、擴(kuò)散泵和真空閥門等構(gòu)成,并通過(guò)抽氣管道與鏡筒相聯(lián)接;電源柜由高壓發(fā)生器、勵(lì)磁電流穩(wěn)流器和各種調(diào)節(jié)控制單元組成。電子透鏡是電子顯微鏡鏡筒中最重要的部件,它用一個(gè)對(duì)稱于鏡筒軸線的空間電場(chǎng)或磁場(chǎng)使電子軌跡向軸線彎曲形成聚焦,其作用與玻璃凸透鏡使光束聚焦的作用相似,所以稱為電子透鏡?,F(xiàn)代電子顯微鏡大多采用電磁透鏡,由很穩(wěn)定的直流勵(lì)磁電流通過(guò)帶極靴的線圈產(chǎn)生的強(qiáng)磁場(chǎng)使電子聚焦。電子槍是由鎢絲熱陰極、柵極和陰極構(gòu)成的部件。它能發(fā)射并形成速度均勻的電子束,所以加速電壓的穩(wěn)定度要求不低于萬(wàn)分之一。電子顯微鏡按結(jié)構(gòu)和用途可分為透射式電子顯微鏡、掃描式電子顯微鏡、反射式電子顯微鏡和發(fā)射式電子顯微鏡等。透射式電子顯微鏡常用于觀察那些用普通顯微鏡所不能分辨的細(xì)微物質(zhì)結(jié)構(gòu);掃描式電子顯微鏡主要用于觀察固體表面的形貌,也能與 X射線衍射儀或電子能譜儀相結(jié)合,構(gòu)成電子微探針,用于物質(zhì)成分分析;發(fā)射式電子顯微鏡用于自發(fā)射電子表面的研究。投射式電子顯微鏡因電子束穿透樣品后,再用電子透鏡成像放大而得名。它的光路與光學(xué)顯微鏡相仿。在這種電子顯微鏡中,圖像細(xì)節(jié)的對(duì)比度是由樣品的原子對(duì)電子束的散射形成的。樣品較薄或密度較低的部分,電子束散射較少,這樣就有較多的電子通過(guò)物鏡光欄,參與成像,在圖像中顯得較亮。反之,樣品中較厚或較密的部分,在圖像中則顯得較暗。如果樣品太厚或過(guò)密,則像的對(duì)比度就會(huì)惡化,甚至?xí)蛭针娮邮哪芰慷粨p傷或破壞。透射式電子顯微鏡鏡筒的頂部是電子槍,電子由鎢絲熱陰極發(fā)射出、通過(guò)第一,第二兩個(gè)聚光鏡使電子束聚焦。電子束通過(guò)樣品后由物鏡成像于中間鏡上,再通過(guò)中間鏡和投影鏡逐級(jí)放大,成像于熒光屏或照相干版上。中間鏡主要通過(guò)對(duì)勵(lì)磁電流的調(diào)節(jié),放大倍數(shù)可從幾十倍連續(xù)地變化到幾十萬(wàn)倍;改變中間鏡的焦距,即可在同一樣品的微小部位上得到電子顯微像和電子衍射圖像。為了能研究較厚的金屬切片樣品,法國(guó)杜洛斯電子光學(xué)實(shí)驗(yàn)室研制出加速電壓為3500千伏的超高壓電子顯微鏡。掃描式電子顯微鏡的電子束不穿過(guò)樣品,僅在樣品表面掃描激發(fā)出次級(jí)電子。放在樣品旁的閃爍晶體接收這些次級(jí)電子,通過(guò)放大后調(diào)制顯像管的電子束強(qiáng)度,從而改變顯像管熒光屏上的亮度。顯像管的偏轉(zhuǎn)線圈與樣品表面上的電子束保持同步掃描,這樣顯像管的熒光屏就顯示出樣品表面的形貌圖像,這與工業(yè)電視機(jī)的工作原理相類似。掃描式電子顯微鏡的分辨率主要決定于樣品表面上電子束的直徑。放大倍數(shù)是顯像管上掃描幅度與樣品上掃描幅度之比,可從幾十倍連續(xù)地變化到幾十萬(wàn)倍。掃描式電子顯微鏡不需要很薄的樣品;圖像有很強(qiáng)的立體感;能利用電子束與物質(zhì)相互作用而產(chǎn)生的次級(jí)電子、吸收電子和 X射線等信息分析物質(zhì)成分。掃描式電子顯微鏡的電子槍和聚光鏡與透射式電子顯微鏡的大致相同,但是為了使電子束更細(xì),在聚光鏡下又增加了物鏡和消像散器,在物鏡內(nèi)部還裝有兩組互相垂直的掃描線圈。物鏡下面的樣品室內(nèi)裝有可以移動(dòng)、轉(zhuǎn)動(dòng)和傾斜的樣品臺(tái)。
你好!光學(xué)顯微鏡 電子顯微鏡1、光源不同 可見(jiàn)光 電子束2、透鏡不同 玻璃透鏡 電磁透鏡3、真空條件不同 介質(zhì)為空氣 要求真空如果對(duì)你有幫助,望采納。
電子顯微鏡可以放大1萬(wàn)多倍,而顯微鏡可放大200多倍

電子顯微鏡是什么它和光子顯微鏡有什么不同

3,什么是電子顯微鏡

電子顯微鏡(electron microscope),簡(jiǎn)稱電鏡,是使用電子來(lái)展示物件的內(nèi)部或表面的顯微鏡。   高速的電子的波長(zhǎng)比可見(jiàn)光的波長(zhǎng)短(波粒二象性),而顯微鏡的分辨率受其使用的波長(zhǎng)的限制,因此電子顯微鏡的分辨率(約0.1納米)遠(yuǎn)高于光學(xué)顯微鏡的分辨率(約200納米)。
電子顯微鏡常用的有透射電鏡(transmission electron microscope,TEM)和掃描電子顯微鏡(scanning electron microscope,SEM)。與光鏡相比電鏡用電子束代替了可見(jiàn)光,用電磁透鏡代替了光學(xué)透鏡並使用熒光屏將肉眼不可見(jiàn)電子束成像。與光鏡相比電鏡用電子束代替了可見(jiàn)光,用電磁透鏡代替了光學(xué)透鏡并使用熒光屏將肉眼不可見(jiàn)電子束成像。 成像原理 1. 透射電鏡技術(shù)透射電鏡技術(shù) 透射電鏡是以電子束透過(guò)樣品經(jīng)過(guò)聚焦與放大后所產(chǎn)生的物像, 投射到熒光屏上或照相底片上進(jìn)行觀察。透射電鏡是以電子束透過(guò)樣品經(jīng)過(guò)聚焦與放大后所產(chǎn)生的物像,投射到熒光屏上或照相底片上進(jìn)行觀察。 透射電鏡的分辨率為0.1~0.2nm,放大倍數(shù)為幾萬(wàn)~幾十萬(wàn)倍。透射電鏡的分辨率為0.1~0.2nm,放大倍數(shù)為幾萬(wàn)~幾十萬(wàn)倍。 由於電子易散射或被物體吸收,故穿透力低,必須制備更薄的超薄切片(通常為50~100nm)。由于電子易散射或被物體吸收,故穿透力低,必須制備更薄的超薄切片(通常為50~100nm)。 其制備過(guò)程與石蠟切片相似,但要求極嚴(yán)格。其制備過(guò)程與石蠟切片相似,但要求極嚴(yán)格。 要在機(jī)體死亡后的數(shù)分鐘釣取材,組織塊要小(1立方毫米以內(nèi)),常用戊二醛和餓酸進(jìn)行雙重固定樹(shù)脂包埋,用特制的超薄切片機(jī)(ultramicrotome)切成超薄切片,再經(jīng)醋酸鈾和檸檬酸鉛等進(jìn)行電子染色。要在機(jī)體死亡后的數(shù)分鐘釣取材,組織塊要小(1立方毫米以內(nèi)),常用戊二醛和餓酸進(jìn)行雙重固定樹(shù)脂包埋,用特制的超薄切片機(jī)(ultramicrotome)切成超薄切片,再經(jīng)醋酸鈾和檸檬酸鉛等進(jìn)行電子染色。電子束投射到樣品時(shí),可隨組織構(gòu)成成分的密度不同而發(fā)生相應(yīng)的電子發(fā)射,如電子束投射到質(zhì)量大的結(jié)構(gòu)時(shí),電子被散射的多,因此投射到熒光屏上的電子少而呈暗像,電子照片上則呈黑色。電子束投射到樣品時(shí),可隨組織構(gòu)成成分的密度不同而發(fā)生相應(yīng)的電子發(fā)射,如電子束投射到質(zhì)量大的結(jié)構(gòu)時(shí),電子被散射的多,因此投射到熒光屏上的電子少而呈暗像,電子照片上則呈黑色。 稱電子密度高(electron dense)。稱電子密度高(electrondense)。 反之,則稱為電子密度低(electron lucent)。反之,則稱為電子密度低(electronlucent)。 2. 掃描電鏡術(shù)掃描電鏡術(shù) 掃描電鏡是用極細(xì)的電子束在樣品表面掃描,將產(chǎn)生的二次電子用特制的探測(cè)器收集,形成電信號(hào)運(yùn)送到顯像管,在熒光屏上顯示物體。掃描電鏡是用極細(xì)的電子束在樣品表面掃描,將產(chǎn)生的二次電子用特制的探測(cè)器收集,形成電信號(hào)運(yùn)送到顯像管,在熒光屏上顯示物體。 (細(xì)胞、組織)表面的立體構(gòu)像,可攝制成照片。 (細(xì)胞、組織)表面的立體構(gòu)像,可攝制成照片。 掃描電鏡樣品用戊二醛和餓酸等固定,經(jīng)脫水和臨界點(diǎn)干燥后,再於樣品表面噴鍍薄層金膜,以增加二波電子數(shù)。掃描電鏡樣品用戊二醛和餓酸等固定,經(jīng)脫水和臨界點(diǎn)干燥后,再于樣品表面噴鍍薄層金膜,以增加二波電子數(shù)。 掃描電鏡能觀察較大的組織表面結(jié)構(gòu),由於它的景深長(zhǎng),1mm左右的凹凸不平面能清所成像,故放樣品圖像富有立體感。掃描電鏡能觀察較大的組織表面結(jié)構(gòu),由于它的景深長(zhǎng),1mm左右的凹凸不平面能清所成像,故放樣品圖像富有立體感。 相關(guān)知識(shí) 1. 光學(xué)顯微鏡以可見(jiàn)光為介質(zhì),電子顯微鏡為電子束為介質(zhì),由於電子束波長(zhǎng)遠(yuǎn)較可見(jiàn)光小,故電子顯微鏡解析度遠(yuǎn)比光學(xué)顯微鏡高。 光學(xué)顯微鏡以可見(jiàn)光為介質(zhì),電子顯微鏡為電子束為介質(zhì),由于電子束波長(zhǎng)遠(yuǎn)較可見(jiàn)光小,故電子顯微鏡解析度遠(yuǎn)比光學(xué)顯微鏡高。 光學(xué)顯微鏡放大倍率最高只有約 1500 倍,掃描式顯微鏡可放大到 10000 倍以上。 光學(xué)顯微鏡放大倍率最高只有約 1500 倍,掃描式顯微鏡可放大到 10000 倍以上。 2. 根據(jù) de Broglie 波動(dòng)理論,電子的波長(zhǎng)僅與加速電壓有關(guān): 根據(jù) de Broglie 波動(dòng)理論,電子的波長(zhǎng)僅與加速電壓有關(guān): λ e = h / mv = h / (2qmV) 1/2 = 12.2 / (V) 1/2 (?) λ e = h / mv = h / (2qmV) 1/2 = 12.2 / (V) 1/2 (?) 在 10 KV 的加速電壓之下,電子的波長(zhǎng)僅為 0.12? ,遠(yuǎn)低於可見(jiàn)光的 4000 - 7000? ,所以電子顯微鏡解析度自然比光學(xué)顯微鏡優(yōu)越許多,但是掃描式電子顯微鏡的電子束直徑大多在 50 - 100? 之間,電子與原子核的彈性散射 (Elastic Scattering) 與非彈性散射 (Inelastic Scattering) 的反應(yīng)體積又會(huì)比原有的電子束直徑增大,因此一般穿透式電子顯微鏡的解析度比掃描式電子顯微鏡高。 在 10 KV 的加速電壓之下,電子的波長(zhǎng)僅為 0.12? ,遠(yuǎn)低于可見(jiàn)光的 4000 - 7000? ,所以電子顯微鏡解析度自然比光學(xué)顯微鏡優(yōu)越許多,但是掃描式電子顯微鏡的電子束直徑大多在 50 - 100? 之間,電子與原子核的彈性散射 (Elastic Scattering) 與非彈性散射 (Inelastic Scattering) 的反應(yīng)體積又會(huì)比原有的電子束直徑增大,因此一般穿透式電子顯微鏡的解析度比掃描式電子顯微鏡高。 3. 掃描式顯微鏡有一重要特色是具有超大的景深 (depth of field) ,約為光學(xué)顯微鏡的 300 倍,使得掃描式顯微鏡比光學(xué)顯微鏡更適合觀察表面起伏程度較大的試片。 掃描式顯微鏡有一重要特色是具有超大的景深 (depth of field) ,約為光學(xué)顯微鏡的 300 倍,使得掃描式顯微鏡比光學(xué)顯微鏡更適合觀察表面起伏程度較大的試片。 4. 掃描式電子顯微鏡,其系統(tǒng)設(shè)計(jì)由上而下,由電子槍 (Electron Gun) 發(fā)射電子束,經(jīng)過(guò)一組磁透鏡聚焦 (Condenser Lens) 聚焦後,用遮蔽孔徑 (Condenser Aperture) 選擇電子束的尺寸 (Beam Size) 後,通過(guò)一組控制電子束的掃描線圈,再透過(guò)物鏡 (Objective Lens) 聚焦,打在試片上,在試片的上側(cè)裝有訊號(hào)接收器,用以擇取二次電子 (Secondary Electron) 或背向散射電子 (Backscattered Electron) 成像。 掃描式電子顯微鏡,其系統(tǒng)設(shè)計(jì)由上而下,由電子槍 (Electron Gun) 發(fā)射電子束,經(jīng)過(guò)一組磁透鏡聚焦 (Condenser Lens) 聚焦后,用遮蔽孔徑 (Condenser Aperture) 選擇電子束的尺寸 (Beam Size) 后,通過(guò)一組控制電子束的掃描線圈,再透過(guò)物鏡 (Objective Lens) 聚焦,打在試片上,在試片的上側(cè)裝有訊號(hào)接收器,用以擇取二次電子 (Secondary Electron ) 或背向散射電子 (Backscattered Electron) 成像。 5. 電子槍的必要特性是亮度要高、電子能量散佈 (Energy Spread) 要小,目前常用的種類計(jì)有三種,鎢 (W) 燈絲、六硼化鑭 (LaB 6 ) 燈絲、場(chǎng)發(fā)射 (Field Emission) ,不同的燈絲在電子源大小、電流量、電流穩(wěn)定度及電子源壽命等均有差異。 電子槍的必要特性是亮度要高、電子能量散布 (Energy Spread) 要小,目前常用的種類計(jì)有三種,鎢 (W) 燈絲、六硼化鑭 (LaB 6 ) 燈絲、場(chǎng)發(fā)射 (Field Emission) ,不同的燈絲在電子源大小、電流量、電流穩(wěn)定度及電子源壽命等均有差異。 透射電子顯微鏡 透射電子顯微鏡(英文:Transmission electron microscopy,縮寫TEM),簡(jiǎn)稱透射電鏡,是把經(jīng)加速和聚集的電子束投射到非常薄的樣品上,電子與樣品中的原子碰撞而改變方向,從而產(chǎn)生立體角散射。散射角的大小與樣品的密度、厚度相關(guān),因此可以形成明暗不同的影像。通常,透射電子顯微鏡的分辨率為0.1~0.2nm,放大倍數(shù)為幾萬(wàn)~百萬(wàn)倍, 用于觀察超微結(jié)構(gòu),即小于0.2μm、光學(xué)顯微鏡下無(wú)法看清的結(jié)構(gòu),又稱“亞顯微結(jié)構(gòu)”。 成像原理 透射電子顯微鏡的成像原理可分為三種情況: 吸收像:當(dāng)電子射到質(zhì)量、密度大的樣品時(shí),主要的成相作用是散射作用。樣品上質(zhì)量厚度大的地方對(duì)電子的散射角大,通過(guò)的電子較少,像的亮度較暗。早期的透射電子顯微鏡都是基于這種原理。 衍射像:電子束被樣品衍射后,樣品不同位置的衍射波振幅分布對(duì)應(yīng)于樣品中晶體各部分不同的衍射能力,當(dāng)出現(xiàn)晶體缺陷時(shí),缺陷部分的衍射能力與完整區(qū)域不同,從而使衍射缽的振幅分布不均勻,反映出晶體缺陷的分布。 相位像:當(dāng)樣品薄至100?以下時(shí),電子可以傳過(guò)樣品,波的振幅變化可以忽略,成像來(lái)自于相位的變化。 組件 電子槍:發(fā)射電子,由陰極、柵極、陽(yáng)極組成。陰極管發(fā)射的電子通過(guò)柵極上的小孔形成射線束,經(jīng)陽(yáng)極電壓加速后射向聚光鏡,起到對(duì)電子束加速、加壓的作用。 聚光鏡:將電子束聚集,可用已控制照明強(qiáng)度和孔徑角。 樣品室:放置待觀察的樣品,并裝有傾轉(zhuǎn)臺(tái),用以改變?cè)嚇拥慕嵌?,還有裝配加熱、冷卻等設(shè)備。 物鏡:為放大率很高的短距透鏡,作用是放大電子像。物鏡是決定透射電子顯微鏡分辨能力和成像質(zhì)量的關(guān)鍵。 中間鏡:為可變倍的弱透鏡,作用是對(duì)電子像進(jìn)行二次放大。通過(guò)調(diào)節(jié)中間鏡的電流,可選擇物體的像或電子衍射圖來(lái)進(jìn)行放大。 透射鏡:為高倍的強(qiáng)透鏡,用來(lái)放大中間像后在熒光屏上成像。 此外還有二級(jí)真空泵來(lái)對(duì)樣品室抽真空、照相裝置用以記錄影像。 透射電子顯微鏡結(jié)構(gòu)包括兩大部分:主體部分為照明系統(tǒng)、成像系統(tǒng)和觀察照相室;輔助部分為真空系統(tǒng)和電氣系統(tǒng)。 1、照明系統(tǒng) 該系統(tǒng)分 成兩部分:電子槍和會(huì)聚鏡。電子槍由燈絲(陰極)、柵級(jí)和陽(yáng)極組成。加熱燈絲發(fā)射電子束。在陽(yáng)極加電壓,電子加速。陽(yáng)極與陰極間的電位差為總的加速電壓。經(jīng)加速而具有能量的電子從陽(yáng)極板的孔中射出。射出的電子束能量與加速電壓有關(guān),柵極起控制電子束形狀的作用。電子束有一定的發(fā)散角,經(jīng)會(huì)聚鏡調(diào)節(jié)后,可望 得到發(fā)散角,很小甚至為0的平行電子束。電子束的電流密度(束流)可通過(guò)調(diào)節(jié)會(huì)聚鏡的電流來(lái)調(diào)節(jié)。 樣品上需要照明的區(qū)域大小與放大倍數(shù)有關(guān).放大倍數(shù)愈高,照明區(qū)域愈小,相應(yīng)地要求以更細(xì)的電子束照明樣品.由電子槍直接發(fā)射出的電子束的束斑尺寸較大,相干性也較差。為了更有效地利用這些電子,獲得亮度高、相干性好的照明電子束以滿足透射電鏡在不同放大倍數(shù)下的需要,由電子槍子槍發(fā)射出來(lái)的電子束還需要進(jìn) 一步會(huì)聚,提供束斑尺寸不同、近似平行的照明束.這個(gè)任務(wù)通常由兩個(gè)被叫做聚光鏡的電磁透鏡完成.圖中C1和C2分別表示第一聚光鏡和第二聚光鏡.C1通 常保持不變,其作用是將電子槍的交叉點(diǎn)成一縮小的像,使其尺寸縮小一個(gè)數(shù)量級(jí)以上.此外,在照明系統(tǒng)中還安裝有束傾斜裝置,可以很方便地使電子束在 2°~3°的范圍內(nèi)傾斜,以便以某些特定的傾斜角度照明樣品。 2、成像系統(tǒng) 該系統(tǒng)包括樣品室、物鏡、中間鏡、反差光欄、衍射光欄、投射鏡以及其它電子光學(xué)部件。樣品室有一套機(jī)構(gòu),保證樣品經(jīng)常更換時(shí)不破壞主體的真空。樣品可在X、Y二方向移動(dòng),以便找到所要觀察的位置。經(jīng)過(guò)會(huì)聚鏡得到的平行電子束照射到樣品上,穿過(guò)樣品后就帶有反映樣品特征的信息,經(jīng)物鏡和反差光欄作用形成一次電子圖象,再經(jīng)中間鏡和投射鏡放大一次后,在熒光屏上得到最后的電子圖象。 照明系統(tǒng)提供了一束相干性很好的照明電子束,這些電子穿越樣 品后便攜帶樣品的結(jié)構(gòu)信息,沿各自不同的方向傳播(比如,當(dāng)存在滿足布拉格方程的晶面組時(shí),可能在與入射束交成2θ角的方向上產(chǎn)生衍射束).物鏡將來(lái)自樣 品不同部位、傳播方向相同的電子在其背焦面上會(huì)聚為一個(gè)斑點(diǎn),沿不同方向傳播的電子相應(yīng)地形成不同的斑點(diǎn),其中散射角為零的直射束被會(huì)聚于物鏡的焦點(diǎn),形成中心斑點(diǎn).這樣,在物鏡的背焦面上便形成了衍射花樣.而在物鏡的像平面上,這些電子束重新組合相干成像.通過(guò)調(diào)整中間鏡的透鏡電流,使中間鏡的物平面與 物鏡的背焦面重合,可在熒光屏上得到衍射花樣若使中間鏡的物平面與物鏡的像平面重合則得到顯微像.通過(guò)兩個(gè)中間鏡相互配合,可實(shí)現(xiàn)在較大范圍內(nèi)調(diào)整相機(jī)長(zhǎng)度和放大倍數(shù)。 透射電子顯微鏡與透射光學(xué)顯微鏡光路比較 3、觀察照相室 電子圖像反映在熒光屏上。熒光發(fā)光和電子束流成正比。把熒光屏換成電子干板,即可照相。干板的感光能力與其波長(zhǎng)有關(guān)。 4、真空系統(tǒng) 真 空系統(tǒng)由機(jī)械泵、油擴(kuò)散泵、離子泵、真空測(cè)量?jī)x表及真空管道組成。它的作用是排除鏡筒內(nèi)氣體,使鏡筒真空度至少要在10-5托以上,目前最好的真空度可以 達(dá)到10-9—10-10托。如果真空度低的話,電子與氣體分子之間的碰撞引起散射而影響襯度,還會(huì)使電子?xùn)艠O與陽(yáng)極間高壓電離導(dǎo)致極間放電,殘余的氣體還會(huì)腐蝕燈絲,污染樣品。 5、供電控制系統(tǒng) 加速電壓和透鏡磁電流不穩(wěn)定將會(huì)產(chǎn)生嚴(yán)重的色差及降低電鏡的分辨本領(lǐng),所以加速電壓和透 鏡電流的穩(wěn)定度是衡量電鏡性能好壞的一個(gè)重要標(biāo)準(zhǔn)。透射電鏡的電路主要由以下部分組成,高壓直流電源、透鏡勵(lì)磁電源、偏轉(zhuǎn)器線圈電源、電子槍燈絲加熱電源,以及真空系統(tǒng)控制電路、真空泵電源、照相驅(qū)動(dòng)裝置及自動(dòng)曝光電路等。 另外,許多高性能的電鏡上還裝備有掃描附件、能譜議、電子能量損失譜等儀器。透射電子顯微鏡結(jié)構(gòu)和成像原理 應(yīng)用 透射電子顯微鏡在材料科學(xué)、生物學(xué)上應(yīng)用較多。由于電子易散射或被物體吸收,故穿透力低,樣品的密度、厚度等都會(huì)影響到最后的成像質(zhì)量,必須制備更薄的超薄切片,通常為50~100nm。所以用透射電子顯微鏡觀察時(shí)的樣品需要處理得很薄。常用的方法有:超薄切片法、冷凍超薄切片法、冷凍蝕刻法、冷凍斷裂法等。對(duì)于液體樣品,通常是掛預(yù)處理過(guò)的銅網(wǎng)上進(jìn)行觀察。

什么是電子顯微鏡

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